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马玉春

作品数：9 被引量：1H指数：1
供职机构：华中科技大学更多>>
相关领域：自动化与计算机技术金属学及工艺文化科学更多>>

合作作者

文献类型

  • 8篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇文化科学

主题

  • 6篇基片
  • 3篇原子层沉积
  • 3篇喷头
  • 3篇温度
  • 3篇温度控制
  • 3篇加热器
  • 2篇导热
  • 2篇真空吸盘
  • 2篇气缸
  • 2篇气体
  • 2篇气相沉积
  • 2篇前躯体
  • 2篇前驱体
  • 2篇抓取
  • 2篇组件
  • 2篇泄露
  • 2篇链接
  • 2篇模块化
  • 2篇保护气体
  • 2篇变温

机构

  • 9篇华中科技大学

作者

  • 9篇马玉春
  • 8篇单斌
  • 8篇陈蓉
  • 8篇王晓雷
  • 4篇李云
  • 4篇何文杰

年份

  • 2篇2019
  • 2篇2018
  • 3篇2017
  • 2篇2016
共 9 条 记 录，以下是 1-9
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排序方式：
一种用于空间隔离原子层沉积的模块化喷头及装置
本发明公开了一种用于空间隔离原子层沉积的模块化喷头及装置。模块化喷头包括：前驱体通道组件、密封组件；前驱体通道组件包括板状基体、前驱体通道、气体管路；前驱体通道布置于板状基体正面，自上而下延伸，前驱体通道的顶端连通气体管...
陈蓉王晓雷单斌李云林骥龙马玉春但威
一种基片取放及转移装置
本发明公开了一种基片取放及转移装置，包括：第一取放组件、第二取放组件以及转移组件；第一取放组件的第一直线动子通过第一气缸带动第一真空吸盘，依次在初始位置、第一反应位置、第一取放位置之间往复运动；第二取放组件的第二直线动子...
陈蓉马玉春单斌王晓雷林骥龙李云
一种用于气相沉积薄膜的装置
本发明公开了一种用于气相沉积薄膜的装置，包括反应腔体上盖、反应腔体底座以及加热器；所述反应腔体底座用于承载基片，其与反应腔体上盖活动链接形成气相沉积反应腔，其背部与加热器接触导热；所述反应腔体底座为圆形且具有环形凹槽。本...
陈蓉林骥龙何文杰王晓雷马玉春但威单斌
文献传递
空间隔离原子层沉积系统的温度特性研究
空间隔离原子层沉积（SALD）是一种纳米级的薄膜制备技术，由于其沉积过程具有自限制性，因此可以制备出膜厚精确可控、成分均匀一致、高台阶覆盖率的薄膜。SALD技术突破了时间隔离的前驱体隔离形式，实现了在常压下高效率、低成本...
马玉春
关键词：原子层沉积温度控制
文献传递
一种变温薄膜沉积系统
本发明公开了一种变温薄膜沉积系统，包括多个沉积装置和基片转移装置，所述多个沉积装置均匀布设在基片转移装置周围；所述多个沉积装置具有基片温度控制机构，用于分别维持基片承载台温度恒温；所述基片转移装置，包括三维移动装置，所述...
陈蓉王晓雷林骥龙何文杰马玉春但威单斌
文献传递
一种用于空间隔离原子层沉积的模块化喷头及装置
本发明公开了一种用于空间隔离原子层沉积的模块化喷头及装置。模块化喷头包括：前驱体通道组件、密封组件；前驱体通道组件包括板状基体、前驱体通道、气体管路；前驱体通道布置于板状基体正面，自上而下延伸，前驱体通道的顶端连通气体管...
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文献传递
一种基片取放及转移装置
本发明公开了一种基片取放及转移装置，包括：第一取放组件、第二取放组件以及转移组件；第一取放组件的第一直线动子通过第一气缸带动第一真空吸盘，依次在初始位置、第一反应位置、第一取放位置之间往复运动；第二取放组件的第二直线动子...
陈蓉马玉春单斌王晓雷林骥龙李云
文献传递
一种变温薄膜沉积系统
本发明公开了一种变温薄膜沉积系统，包括多个沉积装置和基片转移装置，所述多个沉积装置均匀布设在基片转移装置周围；所述多个沉积装置具有基片温度控制机构，用于分别维持基片承载台温度恒温；所述基片转移装置，包括三维移动装置，所述...
陈蓉王晓雷林骥龙何文杰马玉春但威单斌
文献传递
一种用于气相沉积薄膜的装置
本发明公开了一种用于气相沉积薄膜的装置，包括反应腔体上盖、反应腔体底座以及加热器；所述反应腔体底座用于承载基片，其与反应腔体上盖活动链接形成气相沉积反应腔，其背部与加热器接触导热；所述反应腔体底座为圆形且具有环形凹槽。本...
陈蓉林骥龙何文杰王晓雷马玉春但威单斌
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