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文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 4篇XRD
  • 3篇硬质
  • 3篇显微硬度
  • 2篇硬质合金
  • 2篇硬质合金表面
  • 2篇合金
  • 2篇合金表面
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇氮化钛薄膜
  • 1篇性能分析
  • 1篇硬质薄膜
  • 1篇结合力
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇TIALN
  • 1篇TIALN薄...
  • 1篇TIN薄膜
  • 1篇CRN
  • 1篇CRNX薄膜

机构

  • 5篇西华大学
  • 2篇四川大学

作者

  • 5篇刘志远
  • 4篇赵广彬
  • 3篇栾道成
  • 2篇陈甥怡
  • 2篇晋勇
  • 2篇于玉城
  • 2篇曹晓英

传媒

  • 2篇西华大学学报...
  • 1篇真空
  • 1篇第六届全国搜...

年份

  • 3篇2008
  • 2篇2007
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
硬质合金表面硬质薄膜的制备和性能分析
2008年
利用热阴极离子镀技术改变主弧电流,控制镀膜时间等参数,在硬质合金基体上制备了TiN薄膜;利用XRD、自动划痕仪、SEM和显微硬度计对所制备的样品进行了结构分析和性能检测。结果表明,生成的膜层是单一的TiN薄膜,所得膜层晶体是细小的柱状晶,膜基结合力最小77N,最大可达98N,显微硬度最高可达HV2757。
刘志远赵广彬陈甥怡曹晓英栾道成
关键词:TIN薄膜XRD结合力显微硬度
硬质合金表面硬质薄膜的制备和性能分析
利用热阴极离子镀技术改变主弧电流,控制镀膜时间等参数,在硬质合金基体上制备了TiN薄膜;利用XRD、自动划痕仪、SEM和显微硬度计对所制备的样品进行了结构分析和性能检测.结果表明,生成的膜层是单一的TiN薄膜,所得膜层晶...
刘志远赵广彬陈甥怡曹晓英栾道成
关键词:硬质合金硬质薄膜氮化钛薄膜表面处理显微硬度
文献传递
特种硬质薄膜的制备
2007年
本文采用热阴极离子镀技术在GCr15基体上制备了CrNx薄膜,利用X射线衍射(XRD)方法和显微硬度分析方法对所制备的样品进行了结构分析和性能测试。结果表明沉积薄膜工艺参数,如基体偏压和N2分压等对薄膜的结构和性能有重要影响。在本试验条件下,获得的样品表面硬度值最高可达HV2338。
于玉城赵广彬栾道成晋勇刘志远
关键词:XRD
磁控溅射制备TiAlN薄膜及性能分析
物理气相沉积方法制备硬质薄膜技术,近年来随着新技术的出现,在国内外都有了长足的发展。实践证明,这些新技术的应用,可以有效的改变材料的性能,提高效率,节约资源。 本论文利用实验室自制的非平衡磁控溅射离子镀设备,在...
刘志远
关键词:磁控溅射TIALNXRD显微硬度
文献传递
CrN_x薄膜的制备及结构分析被引量:2
2007年
用正交设计法L16设计了五因素四水平共16种工艺,用热阴极离子镀在GCr15块规上制备CrNx薄膜。用X射线衍射议(XRD)分别对16个试样进行了物相分析及结构分析,用显微硬度计(25g)测试了显微硬度,并对检测结果进行了分析讨论。结果表明:工艺参数的变化对于CrNx薄膜的制备会产生重要影响。
于玉城赵广彬晋勇刘志远
关键词:CRNX薄膜XRD
共1页<1>
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