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王海滨

作品数:4 被引量:2H指数:1
供职机构:中国科学院西安光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 3篇砷化镓
  • 2篇GAAS/S...
  • 2篇MOCVD
  • 1篇异质结
  • 1篇透射
  • 1篇透射式
  • 1篇透射式GAA...
  • 1篇气相沉积
  • 1篇外延层
  • 1篇温度
  • 1篇金属有机化学...
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇光电阴极
  • 1篇光阴极
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇红外
  • 1篇红外光
  • 1篇红外光致发光

机构

  • 3篇中国科学院
  • 1篇西安电子科技...
  • 1篇中国科学院长...
  • 1篇中国科学院长...

作者

  • 4篇龚平
  • 4篇高鸿楷
  • 4篇王海滨
  • 2篇赵家龙
  • 2篇高瑛
  • 1篇刘学彦
  • 1篇云峰
  • 1篇李跃进
  • 1篇侯洵
  • 1篇张济康
  • 1篇朱作云
  • 1篇梁家昌
  • 1篇苏锡安
  • 1篇刘学彦

传媒

  • 2篇光子学报
  • 1篇Journa...
  • 1篇光学学报

年份

  • 2篇1995
  • 1篇1993
  • 1篇1992
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
透射式GaAs光电阴极材料的MOCVD生长被引量:1
1992年
用常压MOCVD装置,制备了透射式GaAs光电阴极材料。发射层P-型GaAs掺杂浓度到10^(18)-10^(19)cm^(-3),少子扩散长度到4.02μm。AlGaAs层的Al组分含量到0.83,其吸收光谱长波限与设计值基本符合。利用此材料进行了阴极激活实验,制成了透射式GaAs光阴极。
高鸿楷张济康云峰龚平王海滨侯洵
关键词:GAAS半导体光阴极气相沉积
金属有机化学气相沉积GaAs/Si外延层中的深能级发光对温度的依赖关系
1995年
本文测量了用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法在Si衬底上生长的GaAs外延层中的深能级发光光谱对温度的依赖关系,系统地研究了1.13和1.04eV发光带的发光强度,峰值位置和半宽度随着温度的变化关系,获得了它们的热激活能,Huang-Rhys因子,振动声子能量和Frank-Condon位移,并讨论其来源.
赵家龙高瑛刘学彦苏锡安梁家昌高鸿楷龚平王海滨
关键词:砷化镓外延层MOCVD温度
在Si衬底上异质外延GaAs薄膜变激发强度的近红外光致发光被引量:1
1995年
通过对用MOCVD(金属有机物化学气相沉积)方法在Si衬底上生长的GaAs外延薄膜,用不同激发强度下的近红外光致发光研究了液氮温度下峰值能量为1.13eV和1.04eV两个带谱的发光特性,表明这两个带均属于施主-受主对复合发光。由于发光带中存在着电子-声子耦合,所以应在施主-受主对复合发光能量表示式中计及Frank-Condon位移,从而对复合发光能量表示式进行修正。通过对复合发光带能量随激发强度变化的实验曲线和理论表达式的拟合,确定了峰值为1.13eV与1.04eV这两个发光带深施主-受主对的束缚能之和分别为0.300eV和0.401eV。
高瑛赵家龙赵家龙苏锡安刘学彦高鸿楷龚平王海滨
关键词:红外光致发光砷化镓衬底
优质GaAs/Si和AlGaAs/Si材料的MOCVD生长研究
1993年
用自制常压MOCVD装置,在Si衬底上生长GaAs和AlGaAs外延层,在高温去除Si衬底表面氧化膜之后,采用两步法,即低温生长过渡层,再提高温度生长外延层。得到了表面镜面光亮的优质GaAs和AlGaAs外延层。X射线双晶衍射仪测试GaAs外延层,其回摆曲线半峰宽是200孤秒,GaAs和AlGaAs外延层在77K温度下,PL谱半峰宽分别是17meV和24meV。
高鸿楷龚平王海滨朱作云李跃进
关键词:MOCVD异质结砷化镓
共1页<1>
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