您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 12篇中文专利

主题

  • 5篇硅片
  • 3篇占地面积
  • 3篇支撑脚
  • 3篇柱形
  • 3篇密封
  • 3篇内部环境
  • 3篇洁净度
  • 3篇空气调节
  • 3篇空气洁净度
  • 3篇监测系统
  • 3篇风机
  • 3篇风机机组
  • 3篇浮尘
  • 3篇半导体
  • 3篇半导体工艺
  • 3篇半导体工艺设...
  • 3篇传送
  • 2篇导轨
  • 2篇滑块
  • 2篇机械手

机构

  • 12篇北京七星华创...

作者

  • 12篇孙文婷
  • 10篇赵宏宇
  • 7篇徐俊成
  • 5篇李广义
  • 5篇高浩
  • 4篇张豹
  • 3篇裴立坤
  • 2篇李伟
  • 1篇初国超

年份

  • 1篇2018
  • 4篇2015
  • 3篇2014
  • 4篇2013
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
晶圆处理设备(多腔室堆栈式)
1.本外观设计产品的名称:晶圆处理设备(多腔室堆栈式)。;2.本外观设计产品的用途:用于铜工艺的互连阶段,多孔性低介电常数材料集成的清洗。;主要去除光刻胶残留、颗粒、通孔内的有机聚合物以及硅片边沿和背面的铜金属。;3.本...
赵宏宇孙文婷张豹王锐廷初国超
文献传递
硅片支撑脚装置
本实用新型公开了一种硅片支撑脚装置,包括安装在半导体工艺设备硅片传送系统中硅片存储台上端的环形支撑环,安装在支撑环圆周上的支撑硅片的若干支撑脚,其特征在于,所述支撑脚为柱形,其上端设有硅片支撑面,其下端与所述支撑环连接;...
李广义赵宏宇徐俊成孙文婷
文献传递
一种空气调节监测系统
本发明公开了一种空气调节监测系统,应用于半导体清洗设备,该系统包括:主框架、风机机组、风机固定支架、均风装置、可调层流装置、气体压力传感器、静电阻抗器、静电监视器以及空气洁净度测试装置。本发明主要用于消除半导体清洗机内部...
孙文婷赵宏宇裴立坤高浩
文献传递
一种键盘安装装置
本实用新型涉及自动化设备技术领域,提供了一种键盘安装装置。所述装置用于设备的键盘安装,包括用于固定键盘的键盘盒,以及固定于设备本体上的键盘盒盒盖;所述键盘盒与所述键盘盒盒盖之间铰接固定,并且所述键盘盒可绕铰接件翻转,以实...
孙文婷赵宏宇 王锐廷张豹李广义
文献传递
一种移动式密封装置
本实用新型提供一种移动式密封装置,该密封装置包括:移动式密封板、驱动装置、导轨和导轨滑块;所述导轨与导轨滑块连接;所述移动式密封板一端与导轨滑块连接,另一端与驱动装置连接。本实用新型提供的移动式密封装置安装在工艺腔室开口...
徐俊成高浩李伟贾星杰孙文婷
文献传递
一种用于盘状物的支撑装置
本实用新型公开了一种用于盘状物的支撑装置,用于支撑圆盘状的晶圆,装置的支撑脚采用L形外形,其L形竖直部分的上端设有各由至少一个面构成的晶圆支撑面及其外侧背靠的外倾斜面,外倾斜面的上端具有水平端面,支撑脚的L形水平部分与支...
李广义赵宏宇张豹徐俊成孙文婷
文献传递
一种空气调节监测系统
本实用新型提供一种空气调节监测系统,应用于半导体清洗设备,该系统包括:主框架、风机机组、风机固定支架、均风装置、可调层流装置、气体压力传感器、静电阻抗器、静电监视器以及空气洁净度测试装置;均风装置位于风机机组风向的下方,...
孙文婷赵宏宇裴立坤高浩
文献传递
一种空气调节监测系统
本发明公开了一种空气调节监测系统,应用于半导体清洗设备,该系统包括:主框架、风机机组、风机固定支架、均风装置、可调层流装置、气体压力传感器、静电阻抗器、静电监视器以及空气洁净度测试装置。本发明主要用于消除半导体清洗机内部...
孙文婷赵宏宇裴立坤高浩
文献传递
一种硅片支撑装置
本发明公开了一种硅片支撑装置,包括安装在半导体工艺设备硅片传送系统中硅片存储台上端的环形支撑环,安装在支撑环圆周上的支撑硅片的若干支撑脚,其特征在于,所述支撑脚为柱形,其上端设有硅片支撑面,其下端与所述支撑环连接;所述支...
李广义赵宏宇徐俊成孙文婷
文献传递
一种硅片支撑装置
本发明公开了一种硅片支撑装置,包括安装在半导体工艺设备硅片传送系统中硅片存储台上端的环形支撑环,安装在支撑环圆周上的支撑硅片的若干支撑脚,其特征在于,所述支撑脚为柱形,其上端设有硅片支撑面,其下端与所述支撑环连接;所述支...
李广义赵宏宇徐俊成孙文婷
文献传递
共2页<12>
聚类工具0