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文献类型

  • 2篇中文专利

主题

  • 2篇涂布
  • 2篇涂布装置
  • 2篇喷嘴
  • 2篇狭缝
  • 2篇光刻
  • 2篇光刻胶
  • 2篇保护模块

机构

  • 2篇北京京东方光...

作者

  • 2篇焦宇
  • 2篇宋瑞涛
  • 2篇刘杰
  • 2篇张学智
  • 2篇王江
  • 2篇王辉

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
光刻胶涂布装置
本发明涉及一种光刻胶涂布装置,包括:包括光刻胶涂布装置本体,所述光刻胶涂布装置本体的喷嘴的外部罩设有用于将所述喷嘴与基板上的杂质隔离开的保护模块。所述喷嘴包括沿所述喷嘴运动方向相对设置的第一表面,所述保护模块包括两个第一...
焦宇张学智宋瑞涛王辉苏九端王江刘杰
光刻胶涂布装置
本发明涉及一种光刻胶涂布装置,包括:包括光刻胶涂布装置本体,所述光刻胶涂布装置本体的喷嘴的外部罩设有用于将所述喷嘴与基板上的杂质隔离开的保护模块。所述喷嘴包括沿所述喷嘴运动方向相对设置的第一表面,所述保护模块包括两个第一...
焦宇张学智宋瑞涛王辉苏九端王江刘杰
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