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刘远宏

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：北京京东方光电科技有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文专利

主题

  • 1篇热膨胀
  • 1篇热膨胀系数
  • 1篇接触面积
  • 1篇基底
  • 1篇基底处理
  • 1篇基底压力
  • 1篇加热板
  • 1篇半导体
  • 1篇薄膜沉积技术
  • 1篇传送装置

机构

  • 2篇北京京东方光...

作者

  • 2篇刘远宏
  • 2篇陈万海
  • 1篇王剑
  • 1篇樊海洋
  • 1篇李晓飞

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
一种薄膜沉积设备和均热板
本实用新型提供了一种薄膜沉积设备和均热板，涉及半导体技术领域，为减少反应腔室内的杂质微粒而设计。所述薄膜沉积设备，包括反应腔室，所述反应腔室内设置有加热板，所述加热板上设置有均热板，所述均热板远离所述加热板的上表面上设置...
李晓飞陈万海王剑刘远宏
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基底支撑组件和基底传送装置
本实用新型提供一种基底支撑组件和基底传送装置，属于基底处理技术领域，其可解决现有的基底支撑组件成本较高或不能为基底提供稳定、可靠的支撑的问题。本实用新型的基底支撑组件包括：固定部；与所述固定部连接的支撑部，所述支撑部具有...
陈万海樊海洋刘远宏
文献传递
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