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施国政

作品数：8 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团公司第五十五研究所更多>>
相关领域：文化科学电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇文化科学

主题

  • 3篇圆片
  • 3篇气体流量
  • 3篇均匀性
  • 3篇开孔
  • 3篇厚度
  • 3篇分布图
  • 2篇手臂
  • 2篇陶瓷
  • 2篇片架
  • 2篇晶圆
  • 2篇尺寸
  • 2篇传送
  • 1篇电力
  • 1篇电力电子
  • 1篇电力电子器件
  • 1篇电子器件
  • 1篇新型电力电子...
  • 1篇厌氧
  • 1篇锁紧
  • 1篇热分布

机构

  • 8篇中国电子科技...

作者

  • 8篇施国政
  • 4篇郁元卫
  • 3篇朱健
  • 2篇申强
  • 1篇马林宝
  • 1篇谭卫东
  • 1篇马利行
  • 1篇黄旼
  • 1篇潘文宾
  • 1篇葛华
  • 1篇金龙
  • 1篇杨帆
  • 1篇陶骞
  • 1篇马翔
  • 1篇骆红
  • 1篇孙健
  • 1篇邓雪华
  • 1篇赵建君
  • 1篇齐步坤

传媒

  • 1篇电子工业专用...

年份

  • 2篇2025
  • 1篇2024
  • 2篇2022
  • 2篇2019
  • 1篇2013
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
一种晶圆传输平台、高压剥离机及其工作方法
本发明公开了一种晶圆传输平台以及含有该晶圆传输平台的高压剥离机。晶圆传输平台包含至少一个用于取放晶圆进行表面处理的处理手臂、至少一个用于取放处理完毕晶圆的传送手臂以及至少一个用于盛放晶圆的片架。利用本发明的晶圆传输平台的...
张泽东 苏杭申强 李杰施国政
文献传递
等离子体增强型化学气相淀积设备薄膜均匀性改善装置
本实用新型涉及一种等离子体增强型化学气相淀积设备薄膜均匀性改善装置。根据量测仪器获得的圆片介质厚度分布图，结合八寸设备生长六寸、八寸圆片的实际情况，通过在八寸分气盘内侧凹槽内增加挡气圆环，腔体上盖出气口零件中心开孔的方式...
白杨施国政郁元卫沈雁飞徐乾坤朱健
等离子体增强型化学气相淀积设备薄膜均匀性改善装置
本发明涉及一种等离子体增强型化学气相淀积设备薄膜均匀性改善装置。根据量测仪器获得的圆片介质厚度分布图，结合八寸设备生长六寸、八寸圆片的实际情况，通过在八寸分气盘内侧凹槽内增加挡气圆环，腔体上盖出气口零件中心开孔的方式，尽...
白杨施国政郁元卫沈雁飞徐乾坤朱健
洁净厌氧烘箱的锁紧机构改造及温度均匀度优化
2025年
介绍了洁净厌氧烘箱的运行原理,以及腔体温度分布的测量方法,并应用该方法对烘箱进行热分布实验测试。对影响腔体温度分布的因素展开研究,并通过对设备锁紧机构的升级改造,改善烘箱腔门密封性,实现了对腔体温度均匀度、上下偏差值等关键工艺参数的优化,提升了设备的工艺能力及产能。
苏杭陈磊熊伟尉白杨施国政
关键词：温度均匀度烘箱
一种晶圆传输平台及高压剥离机
本实用新型公开了一种晶圆传输平台以及含有该晶圆传输平台的高压剥离机。晶圆传输平台包含至少一个用于取放晶圆进行表面处理的处理手臂、至少一个用于取放处理完毕晶圆的传送手臂以及至少一个用于盛放晶圆的片架。利用本实用新型的晶圆传...
张泽东苏杭申强李杰施国政
文献传递
一种离子束刻蚀设备防基片夹具碎片装置及其使用方法
本发明公开了一种离子束刻蚀设备防基片夹具碎片装置及其使用方法，包括基座、橡胶圈、基片支架、基片夹具、机械手和隔绝膜；所述基座上表面贴合有隔绝膜，所述隔绝膜与所述橡胶圈接触，所述基片夹具与基片支架之间设有压环；所述基座外围...
李小龙朱新年张博翰徐涛白杨郁元卫施国政黄旼
新型电力电子器件用硅外延片
谭卫东金龙骆红马林宝马利行施国政邓雪华杨帆赵建君孙健齐步坤马翔潘文宾葛华陶骞
1)、主要科学技术内容：该项目主要的研究内容为新型电力电子器件用硅外延片产业化，主要包括：完成了VDMOSFET、SIT的N/N+高阻厚层以及IGBT的N/N+/P++反型多层硅外延结构的研究、高阻厚层硅外延均匀生长控制...
关键词：
关键词：硅外延片电力电子器件芯片
等离子体增强型化学气相淀积设备薄膜均匀性改善装置
本发明涉及一种等离子体增强型化学气相淀积设备薄膜均匀性改善装置。根据量测仪器获得的圆片介质厚度分布图，结合八寸设备生长六寸、八寸圆片的实际情况，通过在八寸分气盘内侧凹槽内增加挡气圆环，腔体上盖出气口零件中心开孔的方式，尽...
白杨施国政郁元卫 沈雁飞 徐乾坤朱健
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