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孙强

作品数：62 被引量：32H指数：4
供职机构：中国恩菲工程技术有限公司更多>>
相关领域：化学工程电子电信冶金工程环境科学与工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 48篇专利
  • 11篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 12篇化学工程
  • 3篇冶金工程
  • 3篇电子电信
  • 2篇电气工程
  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇环境科学与工...
  • 1篇经济管理
  • 1篇机械工程
  • 1篇建筑科学
  • 1篇医药卫生
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇文化科学
  • 1篇理学

主题

  • 14篇多晶
  • 14篇多晶硅
  • 12篇反应器
  • 11篇负极
  • 11篇负极材料
  • 10篇硅
  • 9篇离子
  • 8篇管式
  • 8篇管式反应
  • 8篇管式反应器
  • 6篇电池
  • 6篇锂离子
  • 6篇锂离子电池
  • 6篇纤维
  • 6篇离子电池
  • 6篇复合材料
  • 6篇复合材
  • 5篇纺丝
  • 5篇粉体
  • 4篇电池负极

机构

  • 62篇中国恩菲工程...
  • 1篇国家工程研究...

作者

  • 62篇孙强
  • 52篇严大洲
  • 51篇万烨
  • 31篇张升学
  • 31篇刘诚
  • 28篇司文学
  • 9篇姚心
  • 8篇赵雄
  • 7篇汤传斌
  • 6篇石何武
  • 6篇杨永亮
  • 4篇毋克力
  • 2篇郭树虎
  • 1篇张志刚
  • 1篇郭富东
  • 1篇杨涛
  • 1篇杜俊平
  • 1篇李玉焯
  • 1篇高晓辉

传媒

  • 5篇中国有色冶金
  • 1篇现代化工
  • 1篇化工管理
  • 1篇材料导报
  • 1篇有色冶金节能
  • 1篇精细石油化工...
  • 1篇绿色矿冶

年份

  • 3篇2024
  • 2篇2023
  • 10篇2022
  • 22篇2021
  • 7篇2020
  • 3篇2019
  • 1篇2017
  • 3篇2016
  • 6篇2015
  • 4篇2014
  • 1篇2010
共 62 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
化学产物的确定方法、装置、存储介质以及电子装置
本申请公开了一种化学产物的确定方法、装置、存储介质以及电子装置。该方法包括：获取目标化学反应模型；在反应分子力场的作用下，将目标化学反应模型置于反应环境中进行化学反应，并获取化学反应过程中目标化学反应模型中的原子结构参考...
李艳平严大洲杨涛温国胜韩治成万烨孙强
膜式光氯化反应装置
本实用新型公开了一种膜式光氯化反应装置，所述膜式光氯化反应装置包括壳体、螺旋式挡板、发光件，壳体的外周壁上设有邻近壳体的顶部的进料口和出气口，进料口用于通入反应物料，出气口用于排出尾气，壳体的底壁上设有进气口和出料口，进...
李艳平严大洲杨涛温国胜韩治成姚心万烨赵雄司文学孙强张升学
熔体静电纺丝方法
提供一种熔体静电纺丝方法，包括：S1、将无机材料加热至熔融状态形成熔体；及S2、将所述熔体通过静电纺丝形成纤维。本发明的方法适用于熔点高的无机材料为原料的静电纺丝，并且工艺流程简单、纤维产品的取向性高、制备过程绿色环保。
杨涛严大洲刘诚司文学孙强万烨张升学
文献传递
粉体制备装置
本实用新型提出一种粉体制备装置，包括：气体混合器，气体混合器具有第一进气口、第二进气口和第一出气口；管式反应器，管式反应器具有第三进气口和第一出料口，第三进气口与第一出气口相连；等离子装置，等离子装置包括射频电源和射频线...
严大洲杨涛刘诚孙强万烨司文学张升学
文献传递
用于多晶硅还原炉的还原尾气除尘系统及多晶硅生产装置
本实用新型提供了一种用于多晶硅还原炉的还原尾气除尘系统及多晶硅生产装置。其中，还原尾气除尘系统包括对来自多晶硅还原炉的还原尾气进行净化处理的静电除尘结构。根据本实用新型的技术方案，利用静电除尘结构的静电除尘原理可以吸附还...
孙强万烨严大洲
文献传递
多晶硅高效沉积过程的微观反应模型的构建方法
本发明公开了一种多晶硅高效沉积过程的微观反应模型的构建方法，其中，包括以下步骤：a、构建气体的微观分布状态和硅棒表面原子的微观分布状态；b、构建模拟盒子，将气体导入模拟盒子，得到初步化学反应模型；c、优化化学反应模型；d...
李艳平严大洲杨涛温国胜姚心万烨司文学孙强张升学
文献传递
区熔用多晶硅棒制备技术浅析
2020年
区熔多晶硅产品纯度要达到13N以上,同时硅棒要满足各项性能指标要求。由于研制周期长、制备难度大,国外工艺技术完全封锁,而国内多晶硅产业起步较晚,对高纯度产品质量的过程管控、工艺技术路线及检测分析方法等基础性研究薄弱。本文重点分析了硅烷CVD法和改良西门子法制备区熔用多晶硅的技术路线,从产品原料控制、核心设备结构、关键材料、反应机理等方面进行了综合分析,在总结不同工艺路线特点的基础上对区熔多晶硅相关领域的发展前景进行了展望。
陈辉严大洲严大洲孙强万烨
关键词：区熔多晶硅
喷嘴
本实用新型提供了一种喷嘴，包括：喷嘴本体，喷嘴本体内设置有供流体流通的腔体；浮子，浮子包括浮子本体，浮子本体的外周面与腔体的内周面形成供流体流出的流通间隙；其中，腔体呈锥形，浮子相对于喷嘴本体沿腔体的进口端和腔体的出口端...
孙强万烨严大洲汤传斌乔兵超
文献传递
一种制备硅-碳负极材料的方法和装置
本发明公开了一种制备硅‑碳负极材料的方法，其包括如下步骤：a、将硅源、碳源和碱性助剂加入去离子水中混合均匀，形成悬浊液；b、将所述步骤a得到的悬浊液在惰性气体氛围下进行雾化；c、将所述步骤b雾化后的物料送入惰性气体氛围的...
杨涛严大洲温国胜刘诚孙强万烨司文学张升学
多晶硅生产用高效节能大型还原炉装备技术
严大洲万烨赵雄李爱民孙强石何武杜俊平郭树虎张升学陈辉张鹏远郭富东高晓辉姚心张征
该成果属有色冶金、半导体和新能源材料的交叉领域。还原炉是多晶硅改良西门子工艺的核心关键装备，该装备的性能直接影响多晶硅生产的效率和能耗。长期以来，美国、日本、德国等发达国家对中国进行技术封锁，在该技术开发之前，中国的还原...
关键词：
关键词：多晶硅生产工艺还原炉
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