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陈立高

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：上海美维科技有限公司更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇氧化铜
  • 3篇蚀刻废液
  • 3篇酸性蚀刻废液
  • 3篇废液
  • 2篇电镀
  • 2篇药水
  • 2篇高纯
  • 1篇蚀刻
  • 1篇蚀刻液
  • 1篇酸性蚀刻液
  • 1篇填孔
  • 1篇金属
  • 1篇回收
  • 1篇光亮剂
  • 1篇非金属
  • 1篇纯化
  • 1篇纯化方法

机构

  • 3篇上海美维科技...

作者

  • 3篇陈立高
  • 3篇周华梅
  • 2篇陈培峰
  • 2篇程凡雄
  • 2篇石新红

传媒

  • 1篇电子工艺技术

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2016
  • 1篇2014
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
一种高纯电镀级氧化铜的制备方法
本发明涉及一种高纯电镀级氧化铜的制备方法，以酸性蚀刻废液为原料，在制得氧化铜粗品的基础上，通过添加氧化剂处理有机物，进行二次纯化方法获得高纯电镀级氧化铜粉。所制备的氧化铜纯度可达99.0wt%以上、各种金属和非金属杂质含...
周华梅陈立高付海涛陈培峰程凡雄石新红
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酸性蚀刻废液中回收高纯氧化铜
2018年
研究了酸性蚀刻废液回收高纯电镀级氧化铜粉的方法,通过XRD和XPS等测试分析发现,有机物是影响光亮剂消耗和EVF电镀填孔凹陷大的原因,并对有机物进行了有效去除。最终回收所得氧化铜粉的质量分数高达99.0%,杂质含量低,活性高,完全符合电镀级氧化铜粉的要求。
周华梅陈立高付海涛
关键词：酸性蚀刻液回收氧化铜光亮剂
一种高纯电镀级氧化铜的制备方法
本发明涉及一种高纯电镀级氧化铜的制备方法，以酸性蚀刻废液为原料，在制得氧化铜粗品的基础上，通过添加氧化剂处理有机物，进行二次纯化方法获得高纯电镀级氧化铜粉。所制备的氧化铜纯度可达99.0wt%以上、各种金属和非金属杂质含...
周华梅陈立高付海涛陈培峰程凡雄石新红
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