卢建平
- 作品数：12 被引量：5H指数：1
- 供职机构：清华大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金北京市自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学更多>>
- 氟化氢与涂有聚合物膜下二氧化硅的反应研究
- 1998年
- ＨＦ与ＳｉＯ２的反应是一种亲核取代反应，但高温下此反应不能发生．当涂覆在ＳｉＯ２表面的聚合物膜中含有某些特殊的有机化合物或超强酸时，可以促进该反应的发生，这些化合物被称为诱蚀剂．诱蚀剂分三类：（１）三级胺与ＨＦ形成季铵盐得到浓度很高的氟阴离子使该反应很容易发生；（２）强的偶极非质子官能团化合物与ＨＦ中的氢形成氢键使氟的亲核活性增加，有助于该反应发生；（３）超强酸因其质子对ＳｉＯ２骨架中氧的牢固结合能力活化了反应的离去基团，对ＨＦ与ＳｉＯ２的亲核反应起到催化作用．聚合物膜对添加在其中的小分子诱蚀剂起到阻止逃逸的栅栏作用，而本身带有诱蚀官能团的聚合物可以同时充当成膜物及诱蚀剂的作用．通过光化学反应可以选择性地实现聚合物膜下ＨＦ与ＳｉＯ２的刻蚀反应．
- 洪啸吟段生权卢建平王培清
- 关键词：聚合物膜光刻氟化氢二氧化硅刻蚀
- 有机碱催化的无显影气相光刻胶
- 一种无显影气相光刻胶，属于光刻技术领域。本发明光刻胶由成膜物质，光敏剂、具有光敏性的刻蚀促进剂和溶剂组成，所说的成膜物质为可紫外光固化的光敏树脂如肉桂酸酯类树脂。所说的光敏剂可用5-硝基苊；光敏性刻蚀促进剂为带有叔胺基的...
- 王培清卢建平洪啸吟陈永麒
- 文献传递
- 具有广阔前景的光化学
- 1997年
- 光化学领域包括由可见光和紫外光引起的所有化学反应,这些反应一般都是分子的激发态直接参与进行的。许多生命过程,例如光合作用、甾醇的转化,视觉损伤的恢复,牛皮癣的治疗等。都涉及到光化学反应。许多日常生活现象,例如摄影、显像、染料褪色等,也都与光化学反应有关。光化学是从19世纪到20世纪初期逐渐发展起来的一门科学,本世纪60年代出现了激光技术,使光化学获得了崭新的武器。尤其是近30年来,光化学得到突飞猛进的发展,每年发表的文章数以千计,并出现一些较有影响的刊物。光化学领域不仅积累了大量的实验资料,提出了不少的理论说明,而且在应用上也取得了很大的进展,推动了一些新兴产业的发展。据报道日本每年光固化油墨和光敏树脂的需求量就达上亿美元。本次召开的1996年亚洲光化学会议是近20年来第一次亚洲光化学盛会,一些欧美学者也踊跃参加,共计发表论文150余篇,涉及有机光化学、物理光化学、无机光化学、激光化学、激光刻蚀、高级材料光化学等领域,基本上反映了亚洲光化学的最新成就,特别是诺贝尔奖获得者——李远哲教授的两次精彩报告更增添了这次大会的风采。
- 卢建平洪啸吟
- 关键词：光化学有机光化学微电子
- 无显影气相光刻在大功率晶闸管元件生产中的应用
- 1995年
- 由于无显影气相光刻（ＤＦＶＰ）具有分辨率高、针孔密度低、光刻流程短、设备简单、成本低等优点，因此将其应用于晶闸管元件的生产具有非常重要的实际意义．本文在系统地研究ＤＦＶＰ机理的基础上，提出了新的配方，解决了刻蚀厚二氧化硅（ＳｉＯ２）层的关键技术问题。
- 王培清卢建平陈永麒
- 关键词：晶闸管光刻氧化层无显影气相光刻
- 无显影气相光刻(DFVP)研究的进展
- 2002年
- 无显影气相光刻技术是我国在 1980年发明的一种独特的光刻技术 ,具有不需要显影 ,分辨率高等优点。但它的机理并不清楚。本文介绍十多年来在无显影气相光刻机理研究方面的成果。实验证明 ,无显影气相光刻是以光致光刻胶膜内的诱蚀剂浓度差为基础的方法 ;而传统的光刻方法是基于光致光刻胶膜溶解度差的方法。由于两者的光刻原理不同 ,导致了他们间光刻效果和应用范围之区别。所得机理研究之结果可以解释无显影气相光刻中的各种独特的现象并可指导无显影气相光刻技术的发展 。
- 洪啸吟李钟哲刘丹吴兵卢建平段生权陈明王培清
- 关键词：无显影气相光刻光刻胶二氧化硅氢氟酸分辨率
- 超强酸催化的无显影气相光刻胶
- 一种无显影气相光刻胶，属于光刻技术领域。本发明光刻胶由成膜物质，增感剂、光敏产酸物、溶剂组成。所说的成膜物质为可紫外光固化的光敏树脂如肉桂酸酯类树脂、丙烯酸类树脂。所说的增感剂可用吩噻嗪、N-苯基吩塞嗪、二苯甲酮、蒽、安...
- 洪啸吟卢建平王培清陈永麒
- 文献传递
- 有机碱催化的无显影气相光刻胶
- 一种无显影气相光刻胶，属于光刻技术领域。本发明光刻胶由成膜物质，光敏剂、具有光敏性的刻蚀促进剂和溶剂组成，所说的成膜物质为可紫外光固化的光敏树脂如肉桂酸酯类树脂、丙烯酸类树脂。所说的光敏剂可用5-硝基苊，安息香二甲醚、二...
- 王培清卢建平洪啸吟陈永麒
- 文献传递
- 无显影气相光刻机理研究
- 1998年
- 无显影气相光刻是我国首先发现的一项干法腐蚀技术。通过对其机理的不断研究发现，添加在光刻胶中的添加剂促进HF气体在高温下离解得到活性氟阴离子是刻蚀反应得以发生的首要条件和关键；曝光后成膜物结构变化对添加在其中的小分子诱蚀剂的栅栏作用是在曝光区与非曝光区形成反差的条件；图形的高分辨率与高纵宽比也得到了合理的解释。在机理研究的过程中，新的无显影气相光刻的方法（如高分子诱蚀剂及超强酸作为诱蚀剂的方法）得以发展及研究。
- 段生权卢建平洪啸吟
- 关键词：干法腐蚀
- 无显影气相光刻的机理研究
- 洪啸吟王培清卢建平李钟哲刘丹段生权肖继强
- 光刻是微电子和微机械及国防尖端等高新技术的核心技术。无显影气相光刻(DFVP)是近年我国发明的独树一帜的光刻技术，但它是由一个偶然的发现的现象而发展起来的，由于缺乏理论的指导，该技术的发展并没有预期的那么迅速，在学术上也...
- 关键词：
- 关键词：无显影气相光刻微细加工高分子化学光刻胶曝光量
- 光致诱蚀无显影气相光刻（DFVP）作用机理及其应用
- 1995年
- 大功率半导体器件是机电一体化不可缺少的基础元件，光致诱蚀无显影气相ＤＦＶＰ光刻具有分辨率高、针孔密度低、光刻流程短、设备简单、经济上节约等优点。因此将ＤＦＶＰ运用于晶闸管器件的生产具有重要的意义。研究的技术关键是要解决厚ＳｉＯ＿２层的刻蚀、刻蚀的曝光量及速度问题。本课题对ＤＦＶＰ机理作了进一步研究，从而研究了两种新的光致诱蚀剂；已大大缩短曝光时间（约１分钟），并能刻蚀含杂质镓且厚达１．４μｍ的ＳｉＯ＿２层；对腐蚀设备进行了大的改进，使其能适应生产的需要。
- 王培清卢建平陈永麒张斌洪啸吟
