万勇健
- 作品数：9 被引量：40H指数：4
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：四川省科技计划项目中国矿业大学青年科技基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：自动化与计算机技术机械工程电子电信更多>>
- 3-RPS对称并联支撑结构误差灵敏度研究被引量：2
- 2009年
- 针对以3-RPS并联机构为核心的光电跟踪系统支撑结构,运用矩阵全微分理论,建立了基于Rodrigues参数的机构位姿误差模型。针对机构可达空间内各误差来源,提出了一种通过归一化描述灵敏度的新方法,并建立基于数学统计意义的灵敏度系数数学模型。通过此模型的数值仿真,可知在机构设计、加工以及装配过程中,对机构驱动误差与定平台上轴向误差需严格控制;当定、动平台结构比例系数改变时,其对整个运动空间各误差灵敏度系数百分比改变不大,即高灵敏度的误差源仍需严格控制。根据各误差的灵敏度系数可对其标定进行修正,达到有效减小误差灵敏度系数较高的运动学参数误差的目的,实现空中目标轨迹的实时跟踪瞄准。
- 程刚万勇健葛世荣
- 关键词：RODRIGUES参数
- 一种大口径异形平面加工方法
- 本发明公开了一种大口径异形平面加工方法，包括如下步骤：成型加工、研磨、粗抛光、环抛机抛光、抛光精修；将毛胚切割成型、成型加工达到设计外形尺寸精度要求，采用激光跟踪仪或者三坐标进行外形尺寸、面形检测；研磨采用传统方法或者数...
- 卓彬耿彦生王加金万勇健
- 文献传递
- 机器人气囊抛光SiC光学元件加工特性研究被引量：11
- 2020年
- 针对碳化硅光学元件已有的化学机械抛光、磁流变抛光、电化学抛光和催化剂辅助抛光等方式存在材料去除率低、成本高等问题,提出机器人气囊抛光方法,并对气囊抛光特性、抛光头机械结构进行了研究。首先基于Preston理论和赫兹接触理论以及速度分析建立了材料理论去除模型,并对去除函数进行了仿真,再此基础上设计了气囊抛光磨头装置。然后对非球面碳化硅元件开展了单点和多点抛光,实验验证了去除函数的精确性和稳定性。最后通过粗抛和精抛进行加工应用验证,实验结果表明,所提出方法能够有效实现碳化硅光学元件抛光,并且去除函数精度高稳定性强,通过3个周期的粗抛、4个周期的精抛,面形收敛率分别为69.4%、51.9%,且收敛速度快、加工精度高。
- 黄智周涛吴湘刘海涛万勇健郑晓
- 关键词：气囊抛光碳化硅去除函数
- 多鸽巢自适应排序的快速相位展开方法被引量：3
- 2020年
- 为提升单目结构光测量系统的测量精度和效率,对结构光三维重建中最重要步骤相位展开算法进行了改进,提出一种多鸽巢自适应排序的相位展开算法,其有效地抑制了相位展开过程中的误差传递,并能显著提升计算效率。首先,根据像素的二阶差分定义像素的不可信函数,并将相邻像素组合成为像素组;然后,自适应构建具有不同不可信值范围的鸽巢使其满足误差传递要求,并依次将像素组放入对应参数的鸽巢中;最后,根据鸽巢的不可信值从小到大依次进行相位展开。在单目结构光系统中开展验证实验,实验结果显示:提出的相位展开算法相较原算法提速38.37%,且在点云求解精度上有较大提升,有效优化了测量系统相关性能。
- 魏鹏轩黄智郑晓刘海涛吴湘万勇健
- 关键词：三维重建非接触式测量相位展开
- 射流抛光多相紊流流场的数值模拟被引量：9
- 2009年
- 理论分析了射流抛光的紊动冲击射流特点,构建了射流抛光的垂直冲击射流模型和斜冲击射流模型。根据射流抛光冲击射流的特点,比较各种流体模型后,采用RNGk-ε模型应用于射流抛光模型的计算。利用计算流体力学理论的二阶迎风格式对抛光模型方程离散,用SIMPLEC数值计算方法对射流抛光过程的紊动冲击射流和离散相磨粒分布进行数值模拟,得到了射流抛光过程的连续流场和离散相磨粒与水溶液的耦合流场,同时计算出了抛光液射流在工件壁面上的压力、速度、紊动强度、剪切力分布和磨粒体积质量分布,分析了垂直射流抛光模型和斜冲击射流抛光模型紊流流场的特点。
- 施春燕袁家虎伍凡万勇健侯溪
- 关键词：光学加工数值模拟冲击射流
- 基于CFD的射流抛光喷射距离的分析和优化被引量：5
- 2009年
- 分析了喷射距离对射流抛光效果的影响,基于计算流体动力学进行了喷射距离的分析和优化.通过构建射流抛光不同喷射距离的物理模型,采用能更好地处理流线弯曲程度较大的流动的RNGk-ε紊流模型应用于射流抛光的数学建模,使用SIMPLEC算法对射流模型进行数值计算,得到了不同模型的射流抛光冲击射流流场及工件壁面上的冲击压力、紊动强度、壁流速度分布.根据射流抛光对冲击射流特性的要求,比较和分析不同喷距模型的数值仿真结果,结果显示,射流抛光最优化喷距范围为喷嘴口径的10倍至12倍之间.
- 施春燕袁家虎伍凡万勇健
- 关键词：光学加工计算流体动力学
- 射流抛光喷嘴的设计被引量：16
- 2008年
- 喷嘴的结构和造型决定了冲击射流的动力特性和壁面流动特性,对抛光效果有很大影响。本文提出采用锥柱型喷嘴进行射流抛光能获得较好的射流特性。分析了射流抛光过程对射流特性的要求,提出了射流抛光喷嘴的设计原则,研究了不同几何造型喷嘴的射流特性,对射流喷嘴的不同结构和几何参数对射流特性的影响进行了仿真,模拟结果表明收缩角为13o、长径比为4的锥柱型喷嘴,其射流出口断面流速分布均匀、紊动强度低和磨粒浓度分布均匀,最适合应用于射流抛光。
- 施春燕袁家虎伍凡万勇健
- 关键词：喷嘴
- 一种摆架式主动磨盘加工大口径光学元件的装置
- 本发明公开了一种摆架式主动磨盘加工大口径光学元件的装置，基于摆架式传统古典法加工原理的基础上，对摆架顶针进行了相关改造，该装置包括计算机系统及电控机构、支撑架子、传动轴、45度齿轮、摆架顶针轴、磨盘；计算机系统与电控机构...
- 卓彬高平起范斌万勇健张久臣赵洪深李晓今王佳
- 一种摆架式主动磨盘加工大口径光学元件的装置
- 本发明公开了一种摆架式主动磨盘加工大口径光学元件的装置，基于摆架式传统古典法加工原理的基础上，对摆架顶针进行了相关改造，该装置包括计算机系统及电控机构、支撑架子、传动轴、45度齿轮、摆架顶针轴、磨盘；计算机系统与电控机构...
- 卓彬高平起范斌万勇健张久臣赵洪深李晓今王佳
- 文献传递
