吴纬国
- 作品数：4 被引量：22H指数：2
- 供职机构：电子科技大学微电子与固体电子学院更多>>
- 相关领域：电子电信电气工程更多>>
- IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究被引量：2
- 2005年
- 针对光刻对准特性,从单项工艺和工艺集成的角度,分析了影响光刻对准的各个主要因素,包括对准标记、工艺层、隔离技术等,提出了一些改善光刻对准效果的方法。
- 马万里赵建明吴纬国
- 关键词：集成电路光刻工艺
- IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究被引量：5
- 2005年
- 主要针对光刻对准特性,从单项工艺和工艺集成的角度,分析了影响光刻对准的各个主要因素,主要包括对准标记、工艺层、隔离技术等,提出了一些改善光刻对准效果的方法。
- 马万里赵建明吴纬国
- 关键词：光刻IC对准标记
- 浅谈光刻胶在集成电路制造中的应用性能被引量：15
- 2005年
- 光刻胶技术是曝光技术中重要的组成部分,高性能的曝光工具需要有与之相配套的高性能的光刻胶才能真正获得高分辨率的加工能力。主要围绕光刻胶在集成电路制造中的应用,对其反应机理及应用性能指标进行阐述,重点从工艺的角度去提出新的研究方向。
- 马建霞吴纬国张庆中贾宇明
- 关键词：光刻胶应用性能反应机理集成电路光刻
