高波
- 作品数：23 被引量：13H指数：2
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- YBa2Cu3O7-δ薄膜厚度诱发内应力变化及其对超导性能的影响
- 曾琳蔡传兵刘志勇鲁玉明陈昌兆高波
- TFA-MOD法RE123涂层导体的外延生长研究
- 2008年
- 采用TFA-MOD方法在单晶片SrTiO3和涂有不同缓冲层的NiW基底(NiW/LZO/CeO2和NiW/Y2O3/YSZ/CeO2)上制备了性能良好的REBa2Cu3O7-δ(REBCO,RE=Y,Hoetc.)单元及两元混合超导薄膜,其中Y1-xHoxBa2Cu3O7-x的超导转变温度(Tc)和面内外取向不随Ho离子的掺杂而降低。通过降低氧含量,把成相温度降低到780℃。在低氧含量(100μg/g)下,采用3～4h的低温热处理过程和低加温速度(3℃/min),获得高性能的REBCO薄膜(Jc>3.65MA/cm2)。通过X射线衍射(XRD)和聚焦离子束显微镜(FIB)分析研究了缓冲层CeO2与超导层之间的界面反应和性质。CeO2与超导层之间存在较强的化学反应,而且此反应降低了超导层的织构化。超导层与CeO2之间的化学反应有可能受到缓冲层致密度的影响。
- 高波应利良刘志勇鲁玉明蔡传兵
- 关键词：TFA-MOD涂层导体致密度
- 单层有效的高温超导涂层导体缓冲层厚膜的制备工艺
- 本发明公开了一种单层有效的高温超导涂层导体缓冲层厚膜的制备工艺，它是用化学溶液法制备厚度足够的双轴织构Ho<Sub>x</Sub>Ce<Sub>1－x</Sub>O<Sub>2－δ</Sub>缓冲层薄膜。将醋酸铈和醋酸钬...
- 潘成远蔡传兵应利良高波黄飞
- 文献传递
- TFA-YBCO薄膜成核生长及晶化过程研究
- 郝文嘉高波蔡增辉白传易鲁玉明刘志勇蔡传兵
- 涂层导体用YBa_2Cu_3O_(7-x)/SrRuO_3准多层膜结构的磁传输特性研究
- 2008年
- 使用脉冲激光沉积工艺在SrTiO3基片上制备两类由超导层Y123和导电的SrRuO3组成的准多层膜。膜的名义结构分别是p×[Y123(m)/SrRuO3(n)](m,n分别代表各层膜的脉冲数,p代表重复周期)和p×[SrRuO3(n)/Y123(m)]。X射线衍射表明:准多层膜的面内及面外织构都同纯的Y123薄膜相当。随着SrRuO3膜的厚度的增加,伴随有SrRuO3峰的强度减弱以及异质相Ba2YRuO6的产生,样品的超导转变温度逐渐降低。磁传输特性显示70、77K时,准多层膜表现出优于纯的Y123的强磁通钉扎性能。温度为70K,磁场为8T时,多层膜的临界电流密度超过1.2×105A/cm2,是纯的Y123的2倍,表现出良好的应用前景。
- 刘金磊刘志勇高波彭麟陈昌兆蔡传兵
- 关键词：涂层导体磁通钉扎
- TFA-MOD法RE123涂层导体的外延生长研究
- 采用TFA-MOD方法在单晶片SrTiO3和涂有不同缓冲层的NiW基底(NiW/LZO/CeO2和NiW/Y2O3/YSZ/CeO2)上制备了性能良好的REBa2Cu3O7-δ(REBCO，RE=Y,Ho etc.)单元...
- 高波应利良刘志勇鲁玉明蔡传兵
- 关键词：涂层导体晶粒超导薄膜
- 文献传递
- 一种超导中频感应加热炉
- 一种超导中频感应加热炉，包括炉膛外壳，炉膛外壳内侧设置有低温隔热层，低温隔热层内侧设置有胶木杜瓦壳体，胶木杜瓦壳体中设置有一个环形内腔和一个圆形内腔，环形内腔位于圆形内腔的外周，胶木杜瓦壳体的环形内腔中设置有超导线圈组件...
- 张宇轩周迪帆张义邴崔晓彤李敏娟高波
- 磁场下镍电沉积层织构及表面形貌被引量：9
- 2010年
- 研究了磁场作用下电沉积Ni金属膜的生长过程,磁场与电极表面夹角取35°。测试结果表明电流密度、基底织构和磁场对薄膜的织构和表面形貌均具有重要影响。随着电流密度的增加,薄膜的面外织构由(111)为主变为(200)为主,面内织构显著改善;晶粒尺寸随着电流密度的增加显著增大。在电流密度较小时,磁场的作用比较显著,使得面外(111)晶面取向受到抑制,(200)取向得到增强,面内织构也有一定的改善。同时,磁场使晶粒变小,形状更加规则,整体也更均匀。还对磁场、电流和基底的作用机制进行了分析。
- 刘志勇孙孟良范峰彭麟陈昌兆高波应利良鲁玉明蔡传兵
- 关键词：电沉积织构
- 涂层导体用CeO<Sub>2</Sub>薄膜的制备方法
- 本发明公开一种利用有机盐通过化学溶液法制备双轴织构的涂层导体缓冲层薄膜CeO<Sub>2</Sub>的技术工艺。通过将Ce(CH<Sub>3</Sub>COO)<Sub>3</Sub>·1.5H<Sub>2</Sub>O...
- 潘成远蔡传兵高波彭麟刘志勇
- 文献传递
- NdBa_2Cu_3O_(7-δ)/YBa_2Cu_3O_(7-δ)多层膜体系的外延结构和磁通钉扎的研究
- 2008年
- 采用脉冲激光沉积技术,在单晶SrTiO3基底上外延生长了一系列名义结构为p×(NdBa2Cu3O7-δ(m)/YBa2Cu3O7-δ(n))的多层膜和准多层膜(单元层NdBa2Cu3O7-δ较厚而YBa2Cu3O7-δ呈非连贯的岛状分布,m,n为激光脉冲数,p为重复周期).样品的超导转变温度在87—91K范围,具体大小取决于不同的调制结构,多层膜的重复周期越大,层状界面越多,超导转变温度就越低.磁传输测量表明,准多层的样品不仅具有较高的超导转变温度,而且具有较强的磁通钉扎性能,77K零场下的临界电流密度高达4×106A/cm2,显示出良好的应用前景.
- 陈昌兆蔡传兵刘志勇应利良高波刘金磊鲁玉明
- 关键词：多层膜磁通钉扎临界电流密度
