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陈逸飞

作品数:4 被引量:1H指数:1
供职机构:天津大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇学位论文
  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇理学
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 2篇溅射
  • 2篇FE-N薄膜
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇导体
  • 1篇第一性原理
  • 1篇第一性原理研...
  • 1篇电子结构
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇子结构
  • 1篇稀磁半导体
  • 1篇居里
  • 1篇居里温度
  • 1篇半导体
  • 1篇饱和磁化强度
  • 1篇FE
  • 1篇尺寸效应
  • 1篇磁化
  • 1篇磁化强度

机构

  • 4篇天津大学

作者

  • 4篇陈逸飞
  • 2篇姜恩永
  • 1篇李志青
  • 1篇白海力

传媒

  • 1篇天津大学学报...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2005
  • 2篇2004
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
射频磁控溅射高饱和磁化强度Fe-N薄膜被引量:1
2005年
用射频磁控溅射法分别在具有20nmFe衬底的Si(100)和NaCl单晶基片上成功地制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.用X射线衍射仪、透射电子显微镜和振动样品磁强计研究了氮气分压和基片温度对Fe-N薄膜相结构和磁性的影响.结果表明,当氮气分压为2.66×10-2Pa,基片温度为100~150℃时,最有利于α-″Fe16N2相的形成.在此条件下制备的Fe-N薄膜的饱和磁化强度高达2.735T,超过纯Fe的饱和磁化强度值.
姜恩永陈逸飞李志青白海力
关键词:FE-N薄膜饱和磁化强度射频磁控溅射
Fe-N薄膜的结构和磁性研究
用RF磁控溅射法制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜。研究了氮气分压和纯Fe衬层对Fe-N薄膜结构和磁性的影响。结果表明:当氮气分压为2×10Torr时,最有利于a″-FeN相的形成。在此条件下制备的FeN薄膜的饱和磁...
陈逸飞姜恩永李志青白海力
文献传递
氧化锌基稀磁半导体的第一性原理研究
稀磁半导体具有独特的自旋电子学特性和潜在的实际应用价值,受到了科技工作者的广泛关注。理论计算表明ZnO在室温下可能实现铁磁性,而且ZnO是典型的直接宽带隙半导体材料,具有高的激子束缚能,能够实现室温高紫外发光;原料丰富、...
陈逸飞
关键词:稀磁半导体第一性原理磁矩电子结构居里温度
文献传递
α″-Fe/_(16)N/_2薄膜的结构、磁性和尺寸效应
采用射频磁控溅射法制备了具有高饱和磁化强度的 Fe-N 薄膜。系统研究了 氮气分压、基底温度,溅射功率等制备工艺条件对 Fe-N 薄膜结构和磁性的影响, 以及 Fe-N 薄膜的饱和...
陈逸飞
关键词:磁性
文献传递
共1页<1>
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