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陈伟明
作品数:
13
被引量:37
H指数:2
供职机构:
中国科学院光电技术研究所
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相关领域:
电子电信
机械工程
文化科学
自动化与计算机技术
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合作作者
刘业异
中国科学院光电技术研究所
胡松
中国科学院光电技术研究所
赵立新
中国科学院光电技术研究所
郭春玲
中国科学院光电技术研究所
魏相惠
中国科学院光电技术研究所
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机构
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中国科学院
作者
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陈伟明
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胡松
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魏相惠
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1998
1篇
1997
共
13
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图像处理在高精度对准系统中的应用
被引量:24
2000年
阐述高分辨力光刻机的图像对准系统的原理及实现过程。着重介绍图像处理技术在高精度对准系统中的应用。并讨论系统应用中的图像处理算法。
杨维全
陈伟明
胡松
刘业异
关键词:
图像处理
光刻机
集成电路
同轴对准系统及输出光强的机辅分析
被引量:2
1998年
介绍亚半微米分步重复投影光刻机同轴对准系统的成像机理和工作过程。该系统在掩模和硅片上均刻有时准光栅标记。经光栅衍射后形成干涉信号,使对准信噪比大大提高,并实现了掩模和硅片之间的直接对准,同时利用光弹性调制器组件对光学信号进行了光学调制,由电路实施解调,提供了一种保持高信噪比,又使弱信号探测不降低精度的对准方案;并通过计算机辅助分析的手段,讨论了SAVART的剪切量、工件台运动速度等对该系统输出信号的影响。
胡松
陈伟明
姚汉民
刘业异
关键词:
投影光刻机
计算机辅助分析
硅片
对准标记处理的改进亚象素细分定位算法
被引量:10
2001年
提出一种新的适合对准标记图像处理的改进亚象素细分定位算法 ,并提供了完善这种定位算法的缩小检测窗口的方法。
陈伟明
杨维全
胡松
魏相惠
杨澍
赵立新
郭春玲
关键词:
图像处理
光刻机
深紫外曝光系统(Ⅱ型)
魏相惠
陈伟明
胡松
林大键
赵立新
郭春玲
刘业异
该机适用于中小规模集成电路研制和生产红外遥感器件工艺的一次或多次曝光。具有分辨率高、套刻准、线条徒直、线条高宽比大(孤高线条最高可达60:1,等间距线条可超过20:1),曝光速度快(60μm厚、SU8胶、曝光时间10分钟...
关键词:
关键词:
光刻分辨率
套刻精度
深紫外曝光系统(Ⅰ型)
魏相惠
陈伟明
胡松
林大键
刘业异
赵立新
郭春玲
该项目适用于中小规模集成电路研制和生产,具有分辨率高、套刻准、线条徒直、线条高宽比大(孤立线条最高可达60:1,间距线条可超过20:1),曝光速度快(60μm厚、SU8胶、曝光时间10分钟),曝光面可达110mm×110...
关键词:
关键词:
光刻分辨率
套刻精度
激光共聚焦生物芯片扫描仪
本文介绍cy3、cy5两种荧光染料标记的生物芯片的双激光共聚焦生物芯片扫描仪主要技术方案、光学测量系统、高速XY扫描原理.
胡松
姚汉民
刘业异
张强
王肇志
罗正全
陈伟明
关键词:
激光
技术指标
文献传递
光栅衍射式同轴对准系统中影响对准精度的因素分析
被引量:2
2000年
对掩模 硅片同轴对准系统中影响对准精度的诸因素进行了理论分析 ,阐述了误差形成机理及相应的对策 ,以理论分析指导精度实验取得了± 0 0 6 μm( 3σ)对准精度。
陈伟明
胡松
刘业异
郭黎
郭京平
关键词:
光栅
掩模
亚微米光刻机光栅衍射同轴对准装置
亚微米光刻机光栅衍射同轴对准装置,属于对滤波和照明结构的进一步改进。其特征是激光器发出的光经分光镜,以水平方向射入胶接成滤波机构一体的小反射镜和反射棱镜上,光刻机的光刻光和光栅标记的衍射光通过分区镀制各膜系的滤波板,得到...
陈旭南
陈伟明
郭永洪
罗先刚
文献传递
提高科技期刊英文摘要的编校质量——以《光电工程》为例
中文科技期刊的英文摘要在国际学术传播中时常脱离原文,成为二次文献独立传播。科技论文英文摘要质量的高低直接影响论文的被引频次和被检索率,从而影响期刊的国际影响力。介绍了科技论文英文摘要的编校要求,详细论述了撰写英文摘要各个...
庞洪
杨淇名
谢小平
陈伟明
关键词:
科技期刊
英文摘要
光电工程
文献传递
物镜恒温水控制的算法研究
1998年
本文介绍 DSW投影物镜恒温水控制的算法 ,在基本 PID的控制的基础上加上模糊控制算法 ,以对 P.I.D参数分段赋值 ,取得了比较高的控温精度。
陈伟明
刘业异
关键词:
PID
模糊控制
投影光刻机
物镜
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