邢中菁
- 作品数：12 被引量：6H指数：2
- 供职机构：复旦大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市科学技术委员会资助项目更多>>
- 相关领域：一般工业技术电子电信理学机械工程更多>>
- 铁电液晶显示器特性研究被引量：2
- 2001年
- 研制了 2 .1英寸 (5 .33cm) ,12 8× 12 8的表面稳定铁电液晶显示器 ,其主要性能指标为 :像素面积 0 .2 75× 0 .2 75mm2 ,像素间隔 2 0 μm ,像素对比度 77∶1,具有良好的双稳记忆性 .
- 张彦东徐克璹吕瑞波邢中菁
- 关键词：铁电液晶显示器对比度
- 高频辅助溅射沉积及氩气压对Co/Cu磁性多层膜结构和性能的影响
- 1997年
- 磁控溅射制备薄膜时，工作气体氩气的压强是一个非常重要的参量，氩气压的高低直接影响薄膜的结构形态，这在制备超薄多层膜过程中显得更为重要。利用高频辅助溅射沉积，可使工作气体的压强降低1个数量级，从实验和理论上给予了阐述。最后从巨磁电阻振荡效应方面，对所制备的磁性多层膜的界面状况进行了分析。
- 王辉金庆原褚沉徐新民邢中菁沈元华李富铭
- 关键词：射频磁控溅射多层膜
- 液晶器件盒厚控制方法
- 本发明为一种控制液晶器件盒厚的方法。具体是用匀胶机将聚酰亚胺溶液在液晶器件基板上旋胶成膜，通过光刻或套刻，在液晶器件的基板上制作控制液晶盒厚度的聚酰亚胺支撑定点和/或边框，使支撑点避开液晶器件的光线通道和光电功能区域；调...
- 徐克璹刘言军邢中菁
- 文献传递
- 液晶器件盒厚控制方法
- 本发明为一种控制液晶器件盒厚的方法。具体是用匀胶机将聚酰亚胺溶液在液晶器件基板上旋胶成膜，通过光刻或套刻，在液晶器件的基板上制作控制液晶盒厚度的聚酰亚胺支撑定点和/或边框，使支撑点避开液晶器件的光线通道和光电功能区域；调...
- 徐克璹刘言军邢中菁
- 文献传递
- 新型液晶全息材料的研究
- 报道了一种可记录全息的新型聚合物弥散液晶材料(HPDLC).这种材料由于其液晶微滴直径远小于光波长,而能够记录全息,并且对入射光的透射和衍射取决于对其施加的电压,即它是电场可调制的.详细分析了HPDLC形成的原理,给出了...
- 张斌刘言军邢中菁徐克王寿
- 关键词：衍射效率表面形貌全息材料
- 文献传递
- 金刚石光学薄膜的制备及其在宝钢的应用被引量：2
- 1996年
- 化学气相沉积金刚石薄膜是近年来发展很快的一种新材料，着重描述了在减少薄膜的散射从而改善其光学性质方面的工作与成果，并介绍了它作为红外光学增透保护膜在上海宝山钢铁厂的应用。
- 沈元华应萱同邢中菁宋强徐新民褚沉崔洪度王小宝徐永虎韦金刚陆林琨
- 关键词：金刚石
- 用HFCVD及离子束抛光法制备金刚石红外光学薄膜
- 化学气相合成金刚石薄膜是一种近年来获得广泛重视和迅速发展的新材料,由于它集许多优良特点于一身,在科学和技术的各个领域具有巨大的实际与潜在的应用价值;特别是在红外光学领域,金刚石薄膜的研究已经获得实质性的突破,并开始获得应...
- 邢中菁应萱同陈开泰薛航沈元华
- 文献传递
- 真空镀膜与LB薄膜技术相结合制备多层膜软X光反射镜
- 1991年
- X光光学近年来有极大的发展,其重要原因是多层膜软X光反射镜的研制成功。这种反射镜,一般用物理汽相淀积方法蒸镀无机材料而得的多层结构。我们采用真空镀膜与LB薄膜技术相结合的方法成功地制备了一些无机材料与有机材料交替的多层结构,证明了它们具有厚度精确易控、吸收少、界面光滑及反射率高等优点。
- 郑天水刘丽英邢中菁沈元华
- 关键词：LB真空镀膜无机材料光反射单分子膜
- 矩阵寻址铁电液晶显示器被引量：3
- 2001年
- 研制了矩阵寻址铁电液晶显示器 (FL CD) ,像素为 12 8× 12 8,像素大小为 0 .2 75 nm× 0 .2 75 nm,像素间隔为 2 0 μm,显示区对角线尺寸为 5 .3cm。它具有良好的记忆特性 ,像素对比度 6 5∶ 1,帧速为 2 6Hz。在自行研制的电源驱动下可脱离计算机和联机显示文字和图像。
- 徐克璹张彦东邢中菁吕瑞波张舒雁
- 关键词：铁电液晶矩阵寻址显示器
- 用于软X光反射镜的Ni/C、Mo/Si多层膜的制备
- 1990年
- 本文介绍了用石英晶体振荡膜厚速率监控法,制备用于软X光反射镜的Ni/C、Mo/Si多层膜的工艺过程。制备了一系列周期厚度45—75(?),层数多至50层的多层膜样品,并利用X光小角衍射(Cu kα线:1.54(?))、俄歇电子能谱(AES)、透射电子显微镜(TEM),测试和分析它们的周期结构、界面状况、膜层内各元素包括杂质的成分分布,最后对所设计的Mo/Si膜系做了软X光反射特性的理论模拟计算。
- 郑天水金庆原邢中菁沈元华章志鸣王之江
- 关键词：透射电子显微镜MO/SI膜系调制周期
