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贾艳明

作品数:4 被引量:1H指数:1
供职机构:清华大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:自动化与计算机技术电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇学位论文

领域

  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇机械抛光
  • 1篇电路
  • 1篇亚微米
  • 1篇亚微米工艺
  • 1篇深亚微米
  • 1篇深亚微米工艺
  • 1篇时延驱动
  • 1篇耦合电容
  • 1篇微米工艺
  • 1篇互连
  • 1篇互连线
  • 1篇缓冲器
  • 1篇缓冲器插入
  • 1篇集成电路
  • 1篇VLSI
  • 1篇布线
  • 1篇超大规模集成
  • 1篇超大规模集成...
  • 1篇超深亚微米

机构

  • 4篇清华大学

作者

  • 4篇贾艳明
  • 2篇洪先龙
  • 2篇蔡懿慈

传媒

  • 2篇计算机辅助设...

年份

  • 2篇2009
  • 1篇2008
  • 1篇2006
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
面向化学机械抛光的成品率驱动的布线算法研究
随着集成电路生产工艺进入纳米时代,可制造性和成品率问题日益严重,成为集成电路设计和制造的关键。化学机械抛光(Chemical-Mechanical Polishing,简称CMP)是影响集成电路性能和成品率的主要因素之一...
贾艳明
关键词:超大规模集成电路布线化学机械抛光成品率
文献传递
考虑性能优化的冗余金属填充算法被引量:1
2008年
冗余金属填充改善了化学机械抛光对于金属和介质表面平坦化的均匀性,却大大地影响了互连线性能.提出一种性能优化的冗余金属填充算法,可减少对关键线网的时延影响.该算法利用扫描线算法找到填充区域,根据线网关键度将填充区域分类,按照优先级对填充数量进行分配,对每个填充区域采用解析式沙漏模型进行冗余金属插入.实验结果表明,该算法在减少冗余金属填充对关键线网的时延影响方面比传统的填充算法平均减少15%.
贾艳明蔡懿慈洪先龙
关键词:VLSI化学机械抛光
超深亚微米工艺下互连线优化算法研究
贾艳明
关键词:缓冲器插入
考虑通孔电阻和耦合电容的时延驱动的层分配算法
2009年
针对集成电路设计的多层布线问题,提出了以直接优化互连时延为目标、同时考虑通孔电阻与耦合电容的层分配算法.通过基于路径的时延分析寻找电路的关键路径,以通孔的时延模型和概率耦合电容模型作为层分配模型计算资源分配的代价,利用基于启发式的贪婪算法进行层分配.实验结果表明:该算法比只控制通孔和耦合电容数量的层分配策略具有更大的优势.
贾艳明蔡懿慈洪先龙
关键词:时延驱动耦合电容
共1页<1>
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