章志友
- 作品数：8 被引量：64H指数：5
- 供职机构：南昌航空大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：江西省自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术化学工程更多>>
- MB8镁合金微弧氧化膜层耐蚀性研究被引量：8
- 2007年
- 本文采用扫描电镜（SEM）、动电位极化曲线及电化学阻抗（EIS）等测试方法,研究了MB8镁合金微弧氧化后陶瓷膜层的耐蚀性能。结果表明：膜层表面分布着大量相对均匀的放电微孔,孔径在1-3μm之间;膜层分为三层,分别为过渡层、致密层和多孔层,其中致密层占总厚度的60%以上,约6-7μm。动电位极化曲线及电化学交流阻抗测试结果显示微弧氧化处理后镁合金的耐蚀性能得到显著提高。
- 章志友赵晴陈宁
- 关键词：镁合金微弧氧化耐蚀性
- 不同体系中镁合金微弧氧化膜层的耐蚀性研究被引量：12
- 2008年
- 在磷酸盐和硅酸盐电解液体系中对MB8镁合金进行了微弧氧化处理,采用扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)、X射线衍射(XRD)及电化学阻抗测试方法,分析了各膜层的厚度、微观形貌、相组成及耐蚀性能。结果表明:相同条件下不同体系中膜层的生长速率不同,形成膜层的微观形貌及相关成分也大不相同。通过比较微弧氧化前后镁合金的交流阻抗发现,维护氧化处理后MB8镁合金的耐蚀性得到了明显改善。
- 章志友赵晴刘月娥
- 关键词：镁合金微弧氧化耐蚀性微观形貌
- 电流密度对MB8镁合金微弧氧化膜耐蚀性的影响被引量：5
- 2008年
- 微弧氧化处理镁合金是一种有很大潜力的镁合金表面处理方法。采用碱性硅酸盐体系,讨论了电流密度(20,30,40,50mA/cm2)对MB8镁合金表面微弧氧化膜耐蚀性能的影响,利用扫描电镜(SEM),X射线衍射(XRD)和电化学方法对膜层的表面形貌、相组成及动电位极化曲线进行了分析。结果表明:电流密度越大,膜层的生长速度越快,晶化程度越高,陶瓷层表面致密度下降,孔径增大,腐蚀电流密度先下降后上升,呈现出的熔融状态逐渐明显。因此可推断出膜层的耐蚀性能并不单由膜层的总厚度决定,还取决于膜层的致密程度,随着电流密度的升高呈先增大后减小的趋势。
- 赵晴章志友刘月娥
- 关键词：微弧氧化镁合金电流密度耐蚀性
- 镁合金微弧氧化膜相组成及结构分析被引量：3
- 2008年
- 为了解镁合金微弧氧化膜的耐蚀性能,研究了其截面不同位置的组织结构及元素分布。通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、能谱(EDS)等测试手段,对镁合金微弧氧化膜层的形貌、结构、相组成及元素分布的特点进行了系统分析。结果表明:膜层表面分布着大量均匀的放电微孔;截面致密层厚度占膜层总厚度的60%以上;XRD图谱显示陶瓷层主要由Mg2SiO4和MgO组成;由电能谱面分析可知过渡层n(MgO)∶n(Mg2SiO4)=5∶1,致密层n(MgO)∶n(Mg2SiO4)=1∶1;线性扫描测试结果显示从基体到膜层外表面,Mg元素的含量逐渐降低,O与Si元素的分布相似,均呈先增大后减小的趋势,P含量则基本保持不变。
- 章志友赵晴陈宁
- 关键词：镁合金微弧氧化相组成
- 交流脉冲参数对TC4钛合金微弧氧化陶瓷膜的影响被引量：10
- 2007年
- 为了研究交流脉冲占空比和频率对微弧氧化膜的影响。采用恒电流方式对TC4钛合金进行微弧氧化,用扫描电镜和X衍射仪分析膜层的表面形貌及相结构。结果表明:随占空比的增大,微弧氧化膜层的生长速率增大,金红石相TiO2相对含量增加;随频率的增大,微弧氧化膜层的生长速率减小,表面趋于平整,锐钛矿相和金红石相TiO2相对含量与处理频率无关。
- 陈宁赵晴章志友
- 关键词：微弧氧化钛合金占空比氧化陶瓷膜
- 终止电压对MB8镁合金微弧氧化膜耐蚀性的影响被引量：17
- 2007年
- 采用SEM、XRD、动电位极化曲线及电化学阻抗等测试方法,研究了MB8镁合金微弧氧化过程中不同终止电压下获得的陶瓷膜层的耐蚀性能。结果表明:终止电压越高,膜层越厚;微火花阶段,膜层表面均匀、结晶细致,腐蚀电流密度较小,阻抗较大;弧放电阶段,膜层孔径变大,陶瓷层内显微缺陷增多,腐蚀电流密度增大,阻抗减小。由此得出结论:膜层耐蚀性能由膜层厚度与终止电压共同决定,微火花放电末期膜层的耐蚀性能优于弧放电阶段的耐蚀性能。
- 赵晴章志友陈宁
- 关键词：微弧氧化镁合金耐蚀性终止电压
- 变形镁合金微弧氧化膜耐蚀性及形成过程研究
- 镁合金微弧氧化技术是近年来公认的最有前途的镁合金表面处理方法之一。
该方法是在高压火花放电处理条件下通过电化学氧化作用，使金属表面的耐磨性、耐蚀性、机械强度以及电绝缘性都得到了很大的提高。
本文以变形...
- 章志友
- 关键词：镁合金微弧氧化膜金属表面保护
- 文献传递
- 镁合金微弧氧化陶瓷层的生长过程研究被引量：16
- 2007年
- 采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和膜厚测量等方法,研究了MB8镁合金在硅酸盐体系中不同的微弧氧化时间对陶瓷膜层的截面形貌、相组成及生长速度的影响。结果表明:微弧氧化初期,阳极表面主要生成MgO相并向基体内部生长;随后,膜层沿基体向外生成Mg2SiO4相;在氧化末期,膜层同时向内和向外生长,且向内生长占主导地位,但陶瓷层相组成与氧化中期时相同。氧化膜的厚度随时间呈线性增长。提出了陶瓷层在不同阶段的生长机制。
- 章志友赵晴陈宁
- 关键词：镁合金微弧氧化陶瓷层微观结构厚度
