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赵兴国

作品数：5 被引量：3H指数：1
供职机构：中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室更多>>
相关领域：机械工程理学电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇专利
  • 1篇科技成果

领域

  • 3篇机械工程
  • 2篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电梯
  • 1篇电梯控制
  • 1篇衍射
  • 1篇提拉法
  • 1篇涂胶
  • 1篇拖动
  • 1篇脉冲发生器
  • 1篇耐高低温
  • 1篇环境影响
  • 1篇光干涉
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻胶
  • 1篇发生器
  • 1篇分辨率
  • 1篇高分辨率

机构

  • 5篇中国科学院长...

作者

  • 5篇赵兴国
  • 3篇付永启
  • 1篇朱应时
  • 1篇陈宝钦
  • 1篇金轸裕
  • 1篇丁林辉
  • 1篇李永贵
  • 1篇孙承浦
  • 1篇艾华
  • 1篇李相臣
  • 1篇孙自力

传媒

  • 2篇光学精密工程
  • 1篇仪器仪表学报

年份

  • 1篇1999
  • 1篇1998
  • 1篇1997
  • 1篇1996
  • 1篇1992
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
高分辨率小型激光轴角编码器的研究
艾华丁林辉赵兴国陈宝钦李永贵
该项目是863计划自动化领域“七五”和“八五”期间的基础研究课题，是属于自动化技术，计量测试技术领域。原始分辨率162000P/R(无电子学细分)，尺寸φ58mm×75mm最大累积误差小于8"，响应速度高于675KHZ以...
关键词：
关键词：高分辨率
提拉法涂胶提升速度的确定被引量：1
1997年
分析了提拉法涂胶中影响胶膜厚度的主要因素，并据此确定出胶膜厚度；用实验的手段拟合出胶膜厚度与提升速度间的曲线图及关系表达式，依据该表达式确定出与选取的胶膜厚度对应的提升速度，为实际操作提供了可靠的工艺参数。
付永启赵兴国
关键词：提拉法涂胶光刻胶
柱面图形光学刻划的研究
1999年
柱面涂胶问题、刻划间隙的选取及新型光刻掩模板的研制是柱面图形光学刻划需解决的三大关键问题，本文以这三个问题为中心详细讨论了在圆柱面上光刻图形的方法。
付永启赵兴国赵晶丽
极小刻划间隙下的衍射光强度变化规律分析被引量：2
1996年
讨论了极小刻划间隙下的衍射场光强度分布规律，并以单缝为例分析了当缝宽与波长改变时，相对光强度变化规律，补充和完善了使用普通平行光照明系统时的接近式光刻衍射场理论。
付永启赵兴国
关键词：衍射
全文增补中
电梯用光电增量脉冲发生器
本实用新型是关于电梯用光电增量脉冲发生器的改进。由光源、栅格盘、裂相指示栅格片、光电接收器、光电脉冲处理器和拖动电梯控制马达等构成，其上面的栅线为漏空网筛式。本实用新型克服了公知电梯用光电增量脉冲发生器所存在的缺点，使光...
朱应时金轸裕孙承浦赵兴国李相臣孙自力
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