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杜俊平

作品数:27 被引量:3H指数:1
供职机构:中国恩菲工程技术有限公司更多>>
相关领域:化学工程电子电信冶金工程更多>>

文献类型

  • 22篇专利
  • 4篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 11篇化学工程
  • 1篇冶金工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 19篇氯化
  • 17篇四氯化硅
  • 17篇氯化硅
  • 12篇多晶
  • 12篇多晶硅
  • 12篇氯化氢
  • 10篇氧化硅
  • 10篇二氧化硅
  • 9篇纳米
  • 9篇纳米级
  • 9篇纳米级二氧化...
  • 8篇三氯氢硅
  • 7篇脱酸
  • 6篇微米
  • 6篇微米级
  • 6篇反应器
  • 5篇微量金
  • 5篇微量金属
  • 5篇洗涤
  • 5篇金属

机构

  • 27篇中国恩菲工程...

作者

  • 27篇杜俊平
  • 23篇严大洲
  • 22篇汤传斌
  • 22篇肖荣晖
  • 22篇毋克力
  • 18篇郭富东
  • 15篇谢冬晖
  • 15篇谢正和
  • 15篇汪绍芬
  • 8篇赵雄
  • 5篇杨永亮
  • 5篇姜利霞
  • 1篇张升学
  • 1篇石何武
  • 1篇万烨
  • 1篇姚心
  • 1篇孙强
  • 1篇郭树虎
  • 1篇辛超
  • 1篇高晓辉

传媒

  • 4篇化工管理

年份

  • 1篇2017
  • 5篇2015
  • 2篇2014
  • 5篇2013
  • 3篇2012
  • 11篇2011
27 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
光纤用高纯SiCl_4制备方法的研究
2015年
本文对比分析了几种光纤用高纯SiCl4的制备方法,包括精馏法、吸附-精馏法、部分水解法和光氯化法,得出光氯化法为目前为止最合适的制备光纤用高纯SiCl4的方法。
赵雄杜俊平
关键词:光纤精馏光氯化
一种用于处理三氯氢硅合成尾气的洗涤精馏塔
本发明公开了一种用于处理三氯氢硅合成尾气的洗涤精馏塔,所述洗涤精馏塔包括塔体,所述塔体下部设有合成尾气进口,塔体上部设有洗涤后气出口,所述塔体内包括从上至下依次连接的塔板区、筛板区和挡板区,其中,所述挡板区位于所述合成尾...
赵雄杜俊平严大洲汤传斌肖荣晖毋克力杨永亮姜利霞
文献传递
用于多晶硅副产物四氯化硅处理的聚集器
本发明提出一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的聚集器,包括:多个聚集管,所述多个聚集管依次相连以限定出以曲线形式延伸的聚集腔,其中所述多个聚集管中的第一个聚集管的自由端用作聚集器入口且最后一个聚集管的自由端用作聚集器出口。...
严大洲毋克力肖荣晖汤传斌谢正和杜俊平谢冬晖汪绍芬郭富东
多晶硅副产物四氯化硅处理设备
本实用新型公开一种多晶硅副产物四氯化硅处理设备,包括反应器,收集冷却器,聚集器,分离器,和脱酸器,收集冷却器位于反应器下方以便冷却器进料口与反应器出口相连;聚集器入口与冷却器出料口相连;分离器具有分离器入口、气体出口和固...
严大洲毋克力肖荣晖汤传斌谢正和杜俊平谢冬晖汪绍芬郭富东
文献传递
用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器
本发明提出一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,包括:限定有反应腔的反应器本体,所述反应器本体的上部设有四氯化硅-空气入口和氢气入口,所述反应器本体的底部设有反应器出口;嘴套,所述嘴套套设在所述反应器本体的下端以与所...
严大洲毋克力肖荣晖汤传斌谢正和杜俊平谢冬晖汪绍芬郭富东
一种用于处理三氯氢硅合成尾气的洗涤精馏塔
本实用新型公开了一种用于处理三氯氢硅合成尾气的洗涤精馏塔,所述洗涤精馏塔包括塔体,所述塔体下部设有合成尾气进口,塔体上部设有洗涤后气出口,所述塔体内包括从上至下依次连接的塔板区、筛板区和挡板区,其中,所述挡板区位于所述合...
赵雄杜俊平严大洲汤传斌肖荣晖毋克力杨永亮姜利霞
文献传递
用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器
本发明提出一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,包括:脱酸器本体,所述脱酸器本体内限定有脱酸腔,所述脱酸器本体的上部设有尾气出口和脱酸器出料口,所述脱酸器本体的下部设有脱酸蒸汽入口和脱酸器进料口;和加热管,所述电加热...
严大洲毋克力肖荣晖汤传斌谢正和杜俊平谢冬晖汪绍芬郭富东
文献传递
多晶硅生产用高效节能大型还原炉装备技术
严大洲万烨赵雄李爱民孙强石何武杜俊平郭树虎张升学陈辉张鹏远郭富东高晓辉姚心张征
该成果属有色冶金、半导体和新能源材料的交叉领域。还原炉是多晶硅改良西门子工艺的核心关键装备,该装备的性能直接影响多晶硅生产的效率和能耗。长期以来,美国、日本、德国等发达国家对中国进行技术封锁,在该技术开发之前,中国的还原...
关键词:
关键词:多晶硅生产工艺还原炉
用于多晶硅副产物四氯化硅处理的收集冷却器
本实用新型提出一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的收集冷却器包括:内壳,所述内壳限定有内腔,所述内壳的上部设有冷却器进料口且所述内壳的下部设有冷却器出料口;外壳,所述外壳套设在所述内壳外面且与所述内壳限定出冷却介质空间,所...
严大洲毋克力肖荣晖汤传斌谢正和杜俊平谢冬晖汪绍芬郭富东
文献传递
用于多晶硅副产物四氯化硅处理的聚集器
本实用新型提出一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的聚集器,包括:多个聚集管,所述多个聚集管依次相连以限定出以曲线形式延伸的聚集腔,其中所述多个聚集管中的第一个聚集管的自由端用作聚集器入口且最后一个聚集管的自由端用作聚集器出...
严大洲毋克力肖荣晖汤传斌谢正和杜俊平谢冬晖汪绍芬郭富东
文献传递
共3页<123>
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