2025年8月11日
星期一
|
欢迎来到鞍山市图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
陈登元
作品数:
4
被引量:1
H指数:1
供职机构:
复旦大学
更多>>
发文基金:
国家教育部博士点基金
国家自然科学基金
更多>>
相关领域:
电子电信
更多>>
合作作者
汤庭鳌
复旦大学信息科学与工程学院电子...
虞惠华
复旦大学
汤祥云
复旦大学
程君侠
复旦大学
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
3篇
期刊文章
1篇
专利
领域
3篇
电子电信
主题
2篇
电路
2篇
短沟道
2篇
锁存
2篇
铁电
2篇
逻辑电路
2篇
解析模型
2篇
挥发性
2篇
沟道
2篇
FET
2篇
MOS
1篇
电子领域
1篇
亚阈值
1篇
亚阈值电流
1篇
锁存器
1篇
铁电薄膜
1篇
铁电电容
1篇
阈值电流
1篇
阈值电压
1篇
阈值电压解析...
1篇
解析解
机构
4篇
复旦大学
作者
4篇
汤庭鳌
4篇
陈登元
1篇
程君侠
1篇
汤祥云
1篇
虞惠华
传媒
3篇
Journa...
年份
1篇
2002
1篇
1998
2篇
1989
共
4
条 记 录,以下是 1-4
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
不挥发逻辑电路的铁电锁存技术
本发明是不挥发逻辑电路的铁电锁存技术。现有电子领域逻辑电路除不挥发存储器外,均是挥发性的。本发明用两个铁电电容和两个MOS晶体管并各将它们的一个端点与锁存电路的输出及其互补输出连接构成不挥发锁存电路。本发明实现了逻辑电路...
陈登元
汤庭鳌
文献传递
双离子注入短沟道MOS FET的阈值电压解析模型
1989年
本文对短沟道MOSFET沟道区的硼、砷离子注入分布采用二次函数及指数函数的分段函数分布近似,并利用格林函数法求解二维泊松方程,从而导出非均匀分布短沟道MOS FET的表面势和阈值电压的解析模型.它计及注入能量、剂量、退火温度、退火时间等工艺参数的影响,也包含了漏极电压V_D和栅氧化层厚度等因素的影响.本解析模型的结果与用MINI-MOS数值模拟的结果符合得很好,具有简单、实用的特点.适用于改进有关电路分析程序例如SPICE中的模型.
汤庭鳌
陈登元
Carlos Araujo
关键词:
泊松方程
解析解
新型铁电不挥发性逻辑电路的分析和实现
2002年
提出了一种利用与 CMOS工艺相容的铁电薄膜来实现使一般逻辑电路成为非挥发性的新技术 .通过电路模拟及对锁存器和触发器实验电路进行测试 。
汤庭鳌
陈登元
汤祥云
程君侠
虞惠华
关键词:
逻辑电路
挥发性
铁电薄膜
锁存器
短沟道MOS FET亚阈值电流的解析模型
被引量:1
1989年
利用二维泊松方程的解析解,得到了短沟道MOS FET亚阈值电流的解析模型.在弱反型区,解析模型的结果与数值模拟的结果符合较好.
陈登元
汤庭鳌
C.A.Paz de Araujo
关键词:
亚阈值电流
表面势
短沟道
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张