您的位置: 专家智库 > >

钟新华

作品数:9 被引量:6H指数:2
供职机构:中国电子科技集团公司第四十八研究所更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术金属学及工艺冶金工程更多>>

文献类型

  • 9篇中文期刊文章

领域

  • 5篇电子电信
  • 3篇自动化与计算...
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇冶金工程
  • 1篇机械工程

主题

  • 4篇注入机
  • 4篇控制器
  • 3篇温度控制
  • 3篇温度控制器
  • 3篇系统模型
  • 3篇系统设计
  • 3篇离子注入
  • 3篇离子注入机
  • 2篇控制器设计
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶圆
  • 1篇迭代
  • 1篇迭代算法
  • 1篇多输出
  • 1篇多输入多输出
  • 1篇多输入多输出...
  • 1篇体系结构
  • 1篇前馈
  • 1篇前馈控制
  • 1篇嵌入式

机构

  • 7篇中国电子科技...
  • 2篇国防科学技术...
  • 2篇中国电子科技...

作者

  • 9篇钟新华
  • 3篇彭立波
  • 3篇袁卫华
  • 3篇龙会跃
  • 1篇张赛
  • 1篇易文杰
  • 1篇龙长林
  • 1篇胡振东
  • 1篇董克冰
  • 1篇王迪平
  • 1篇张建国
  • 1篇邱小莎
  • 1篇张进学
  • 1篇陈长平
  • 1篇李岳

传媒

  • 3篇工业加热
  • 2篇电子工业专用...
  • 1篇工业控制计算...
  • 1篇自动化博览
  • 1篇激光与红外
  • 1篇载人航天

年份

  • 2篇2017
  • 4篇2016
  • 1篇2010
  • 2篇2009
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
宽带束离子注入机均匀性调节与控制方法研究
2016年
宽带束离子注入机的均匀性调节系统由线圈磁铁组及可调磁极组组成,通过分析调节原理,结合实际调试中获得的可调磁极组中单个磁极调节的束流均匀性影响曲线,拟合曲线,建立束流均匀性影响模型,进一步推导出调节模型。在实际应用中,设计合理的控制方法,根据束流的实际情况,采用内/外插值法,适时调节束流均匀性影响模型参数组,可改善模型的适应性。经过测试表明,采用基于束流均匀性调节模型的迭代调节方法,可实现束流均匀性调节,测试注入300 mm硅片的方块电阻均匀性达到1.17%。
彭立波钟新华张赛张进学
关键词:离子注入机迭代算法
基于系统模型的快速退火炉温度控制器设计
2009年
提出了一种基于系统模型的快速退火炉温度控制方法。首先采用分段线性化方法和系统辨识方法获得精确的快速退火炉系统模型;然后将该系统模型作为温度控制器的前馈控制,用来提前预测控制输出,提高系统的响应速度,并在此基础上增加反馈控制通道,用来修正模型误差和外界干扰。最后,将此温度控制器应用在我们自主研发的快速退火炉系统上,实验验证了此温度控制器的有效性。
龙长林钟新华
关键词:系统模型系统辨识温度控制器前馈控制反馈控制
快速退火炉热源及其温度均匀性设计被引量:1
2009年
根据快速退火炉加热系统的组成,利用热量传递的基本理论定性地分析了满足热处理工艺指标时加热系统所需的热功率以及影响快速退火系统温度均匀性的因素。在此基础上提出了热源分区的设计思想。
龙会跃李岳邱小莎钟新华
关键词:晶片功率密度
空间植物栽培用OLED平板光源的设计与实现
2016年
针对空间植物栽培对光照的需求,研制了一种高效、高亮度,能在特殊环境中长时间稳定工作的叠层OLED平板光源样机。测试结果表明,该平板光源在15 V电压的驱动下,发光亮度高达2198 cd/m2,在电流密度为25 m A/cm2条件下,达到最大发光效率46.5 lm/W。根据器件EL光谱分析可知,其发射光谱范围在400~830 nm之间,分别在475 nm、551 nm和612 nm处出现蓝、绿、红三原色的发射峰,红橙光和蓝紫光较饱和,适合作植物栽培光源。
陈长平王迪平张建国董克冰钟新华
关键词:高亮度
适应于快速热处理设备的温度测量与控制系统设计
2017年
提出了一种适应于快速热处量设备(RTP)的温度测量与控制方法。介绍了快速热处理设备工作原理和主要关键技术;针对温度测量与温度控制两大关键技术,提出了先进的解决方案,即一种增强反射及发射率在线测量与补偿的温度测量方法和基于系统模型多输入多输出(MIMO)温度控制方法;通过实验验证了该温度测量方法和温度控制方法的可行性与先进性,并将该温度测量与温度控制系统应用于我们自主研发的快速热处理设备上,证明该温度测量与控制系统完全能满足设备的各项工艺指标。
钟新华胡振东龙会跃袁卫华
关键词:红外测温系统模型
单晶圆注入机注入角度测量与补偿系统设计
2017年
在超大规模集成电路生产线宽45 nm及以下的注入工艺环节中,离子束注入晶圆角度精度控制变得愈显重要,注入角度的细小差别引起掺杂元素在晶体管中的分布深度和范围的变化,进而导致器件参数和性能的巨大变化。研究表明注入角度控制取决于对注入离子束与晶圆面法线间水平和竖直方向角度测算的精确度;系统能精确测量出离子束注入角度,然后通过补偿驱动旋转靶台到相应需求的角度后注入,满足工艺需求。
袁卫华钟新华彭立波
关键词:单晶圆注入机
基于NI CompactRIO的离子注入机剂量控制系统设计被引量:4
2016年
剂量控制器是离子注入机的核心部件,主要功能是精确控制注入剂量和注入离子的均匀分布。提出了一种基于NI Compact RIO嵌入式实时控制器的离子注入机剂量控制系统。首先介绍了离子注入机剂量控制系统工作原理,怎样实现将离子束按设定的剂量精确地、均匀地注入到晶片表面。然后对基于NI Compact RIO嵌入式控制器的离子注入机剂量控制系统的硬件构成和软件结构作了详细的介绍。最后,通过实验验证了此离子注入机剂量控制系统的性能达到设计要求。
钟新华袁卫华
离子注入机剂量控制器设计被引量:3
2016年
剂量控制器是离子注入机的核心部件,主要功能有精确测量离子注入机束流与注入剂量,控制离子束在电场中水平运动,并使离子均匀地分布在水平方向和同步垂直扫描运动完成离子注入的剂量控制。基于这些功能要求,本文提出了一种高精密、多功能和程控式的离子注入机剂量控制器。首先介绍了离子注入机剂量控制器工作原理和功能,然后,详细地阐述剂量控制器的系统构成和各功能模块设计及功能实现。此控制器按功能主要分为多通道、多级量程的高精度束流与剂量测量模块、扫描波形控制模块、垂直扫描同步信号检测与控制模块等。最后,通过实验验证了此离子注入机剂量控制器的性能达到设计要求。
钟新华彭立波易文杰
关键词:离子注入
基于DeviceNet现场总线的快速热处理设备控制系统设计
2010年
介绍了一种基于DeviceNet现场总线的快速热处理设备控制系统。首先介绍了该系统的硬件构成,本控制系统采用了基于现场总线和模块化设计思想,使得该系统的能够满足快速热处理设备的加热腔的数量可任意配置,具有很好的可扩展性;然后提出了一个分层的、模块化的、可配置的软件控制系统,并对其进行了简要概述;最后设计了一个基于系统模型的温度控制器,该控制器采用了前馈控制与反馈控制相结合的方法,其中,前馈通道用来预测控制输出,从而提高了系统响应速度;反馈通道用来修正模型误差和外界干扰,从而提高了控制系统的鲁棒性和控制精度。
钟新华龙会跃
关键词:DEVICENET总线体系结构温度控制器系统模型
共1页<1>
聚类工具0