赵玉清
- 作品数：67 被引量：83H指数：4
- 供职机构：西安交通大学更多>>
- 发文基金：陕西省“13115”科技创新工程重大科技专项国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
- 相关领域：理学电子电信金属学及工艺自动化与计算机技术更多>>
- 氮离子轰击能量对ta-C:N薄膜结构的影响被引量：1
- 2012年
- 利用磁过滤真空阴极电弧技术制备了sp^3键含量不小于80%的四面体非晶碳薄膜(ta-C),然后通过氮离子束改性技术制备了氮掺杂的四面体非晶碳(ta-C:N)薄膜.利用Raman光谱和X射线光电子能谱对薄膜结构的分析,研究了氮离子轰击能量对ta-C:N薄膜结构的影响.氮离子对ta-C薄膜的轰击,形成了氮掺杂的ta-C:N薄膜.氮离子轰击诱导了薄膜中sp^3键向sp^2键转化,以及CN键的形成.在ta-C:N薄膜中,氮掺杂的深度和浓度随着氮离子能量的增大而增大.ta-C:N薄膜中sp^2键的含量和sp^2键团簇的尺寸随着氮离子轰击能量的增大而增加;在ta-C:N薄膜中,CN键主要由C—N键和C=N键构成,C—N键的含量随着氮离子轰击能量的增大而减小,但是C=N键含量随着氮离子轰击能量的增大而增大.在ta-C:N薄膜中不含有C≡N键结构.
- 韩亮邵鸿翔何亮陈仙赵玉清
- 关键词：RAMAN光谱X射线光电子能谱
- e型电子枪中非均匀磁场偏转系统的聚焦特性研究被引量：1
- 2009年
- 利用永磁铁结构的偏转聚焦系统产生的非均匀磁场，改进了目前e型电子枪电子柬偏转聚焦特性，同时缩小了枪体体积，减小了功耗．采用边界元法与等效磁荷法，模拟了偏转聚焦系统的非均匀磁场，再利用龙格-库塔法模拟出电子在该系统中的运动轨迹．为获得良好的聚焦特性，电子发射速度和发射位置应进行优化选择，同时电子束保持水平出射．研究结果表明：电子枪阳极板端点与阴极灯丝中心点保持水平可满足电子水平出射；非均匀分布的磁场对e型电子枪中电子束具有良好的聚焦作用；所设计的偏转聚焦系统在电子束流为50～100mA时，束斑小于3mm．
- 韩亮宁涛李想赵玉清
- 关键词：永磁体边界元法龙格-库塔法
- 磁过滤器电流对非晶碳薄膜摩擦学特性影响的研究被引量：3
- 2011年
- 研究了过滤阴极真空电弧技术中,不同的磁过滤器电流下(5—13A),制备的四面体非晶碳(ta-C)薄膜对摩擦学特性的影响.通过对薄膜厚度,薄膜结构以及薄膜表面粗糙度随磁过滤电流的变化结果进行了测试,结果表明,随着磁过滤器电流的增大,薄膜的sp3键含量逐渐减少,表面粗糙度从0.13增大到0.38.磁过滤器电流在5A时,薄膜的摩擦系数最小约为0.08,当电流增大到7A时,摩擦系数显著增大,磁过滤器电流从7A增大到13A时,薄膜的摩擦系数再次减小约为0.1.
- 韩亮杨立杨拉毛草王炎武赵玉清
- 关键词：四面体非晶碳
- 基于场量分析的涡流无损检测技术被引量：19
- 1999年
- 鉴于微型探头技术的发展和精确诊断缺陷的需要,提出基于场量分析的涡流无损检测技术。与传统的阻抗分析方法不同,它是通过分析扰动磁场的分布进行缺陷识别的。
- 陈德智赵玉清盛剑霓王涛
- 关键词：阻抗无损检测涡流检测
- 一种制备非晶碳涂层方法制备的非晶碳涂层的应用
- 本发明公开了一种镀银铝材料表面制备非晶碳涂层的方法，包括基体预处理、离子清洗、电弧放电和碳离子沉积；该方法制备的非晶碳薄膜中SP2键结构含量≥50％，表面二次电子发射系数≤1.39；与没有镀ta-C膜的样品相比，表面二次...
- 赵玉清张娜康永锋陈仙
- 文献传递
- 电热装置的安全.第7部分:对具有电子枪的装置的特殊要求
- GB 5959的本部分规定了对具有电子枪的装置（以下简称电子枪装置)有关人身装置安全的特殊要求。本部分适用于所有具有电子枪的电热装置。本部分也适用于电子枪装置的预制和使用辉光放电的非加热电子枪装置以及电子枪的高压电源。 ...
- 赵玉清刘西萍赵卫平张英明
- 关键词：电热器电气安全电气设备
- 文献传递
- 一种用于驱动阻抗负载的宽频及压控交流大功率电流源
- 本发明公开了一种用于驱动阻抗负载的宽频及压控交流大功率电流源，本发明采用场效应管和运算放大器设计的电流源电路具有恒流精度高、可实现大电流恒流、外围电路简单的等优点，并且本电流源输出电流与输入电压成线性关系，具有广泛的实用...
- 康永锋许梦芸赵玉清张相臣
- 文献传递
- 一种提高丝锥切削精度和使用寿命的方法
- 本发明公开了一种提高丝锥切削精度和使用寿命的方法，首先将丝锥刀缝中的油脂刷掉，然后放入超声波清洗槽，对丝锥进行去油清洗处理，清洗结束后脱水风干后置于真空室；启动一个冷阴极的气体离子源，采用氩离子轰击丝锥表面，然后启动电弧...
- 赵静宜赵玉清
- 文献传递
- 扫描探针显微镜的纳米尺度表面改性和微细加工技术被引量：1
- 1997年
- 本文较全面地讨论了近几年来国外有关利用扫描探针显微镜进行纳米尺度表面改性和微细加工工作的现状和发展，重点讨论纳米尺寸光刻制板技术的发展．最后，本文简要介绍本课题组利用扫描隧道显微镜进行纳米尺度曝光的有关工作，希望引起更多科技工作者的重视，以便进一步推进我国在纳米技术领域的发展．
- 赵玉清唐天同徐蛟
- 关键词：微细加工技术集成电路
- 氮化铬过渡层对四面体非晶碳薄膜在高速钢基底上附着特性影响的研究被引量：1
- 2013年
- 利用磁过滤阴极电弧与磁控溅射相结合的薄膜沉积技术在高速钢基底上制备了氮化铬/四面体非晶碳(CrN/ta-C)复合涂层,通过改变过渡层氮化铬(CrN)的制备工艺,研究了四面体非晶碳(ta-C)薄膜在钢基底材料上的附着特性的变化.结果表明,随着氮气流量的增大,CrN/ta-C复合涂层中的氮化铬经过了Cr-Cr2N-CrN的相变过程.同时涂层的附着力也随着氮气流量的增大而增加,但是当氮气流量超过30sccm时,涂层附着力会有所下降;通过改变基片偏压,复合涂层中氮化铬的择优取向与晶粒结构发生改变,随着偏压的增大,涂层附着力也会大大改善,但是当偏压超过200V,涂层附着特性会略微降低.通过涂层耐磨性的测试也表明,在高速钢基底上,CrN涂层能显著提高ta-C薄膜在高速钢基底上的附着力,同时显著提高耐磨特性.
- 韩亮刘德连陈仙赵玉清
- 关键词：附着力X射线衍射拉曼光谱
