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周立庆
作品数:
57
被引量:10
H指数:1
供职机构:
中国电子科技集团第十一研究所
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相关领域:
电子电信
自动化与计算机技术
金属学及工艺
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合作作者
刘铭
中国电子科技集团第十一研究所
王经纬
中国电子科技集团第十一研究所
王丛
中国电子科技集团第十一研究所
巩锋
中国电子科技集团第十一研究所
孙浩
中国电子科技集团第十一研究所
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中国电子科技...
作者
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周立庆
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刘铭
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1篇
2008
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57
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一种硅片湿化学清洗用夹具
本实用新型公开了一种硅片湿化学清洗用夹具,该硅片湿化学清洗用夹具包括内框结构和外框结构,所述内框结构用于固定硅片,所述外框结构用于固定所述内框结构,内框结构的第一内框把手和第二内框把手的底端圆弧形分别卡在外框结构两个第一...
王丛
刘铭
王经纬
周立庆
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承载碲锌镉样品的装置和测试碲锌镉中Zn组分的方法
本发明公开了一种承载碲锌镉样品的装置和测试碲锌镉中Zn组分的方法,其中,该装置包括:方形平台,用于放置碲锌镉样品,方形平台的厚度不小于第一预设值;在方形平台的相邻两个边沿处设置垂直于方形平台的围栏,围栏用于保护碲锌镉样品...
许秀娟
巩锋
周立庆
折伟林
朱西安
文献传递
用于液相外延方法生长碲镉汞材料的衬底材料及制备方法
一种用于液相外延方法生长碲镉汞材料的衬底材料,其在常规衬底材料上,再生长一层与碲镉汞晶格常数完全匹配的碲锌镉单晶薄膜;本发明制备出的用于液相外延方法生长碲镉汞材料的衬底材料具有外延膜晶格质量高,组分可针对短波、中波、长波...
周立庆
刘兴新
文献传递
硅基复合衬底的加工方法
本发明提出了一种硅基复合衬底的加工方法,包括:获取硅片;在所述硅片上外延生长预设膜厚的第一缓冲层;其中,在所述第一缓冲层外延生长过程中,控制生长环境的温度变化速率小于等于10℃/min。根据本发明的硅基复合衬底的加工方法...
王丛
高达
王经纬
刘铭
刘兴新
于小兵
周立庆
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硅基衬底的加工方法
本发明提出了一种硅基衬底的加工方法,包括:获取硅片;对硅片进行化学处理,以在硅片表面形成氢钝化层;对硅片进行脱附工艺处理,以去除氢钝化层。根据本发明实施例的硅基衬底的加工方法,在对硅片进行化学处理后,在硅片的表面形成氢钝...
王丛
高达
王经纬
刘铭
刘兴新
于小兵
周立庆
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应用双色红外材料制备探测器芯片的方法及系统
本发明公开了一种应用双色红外材料制备探测器芯片的方法及系统,其制备工艺简单。该方法包括:制备双色红外材料;然后进行台面刻蚀处理和离子注入区刻蚀,在InSb衬底上注入Be离子,形成P-on-N二极管,在HgCdTe材料上注...
周立庆
孙浩
刘铭
巩锋
王经纬
王丛
韦书领
单晶生长用石英安瓿内壁碳膜制备装置
本发明公开了一种单晶生长用石英安瓿内壁碳膜制备装置,该装置在石英安瓿的颈部设置安瓿支架,所述安瓿支架内设有通道;所述通道内设置导流管,所述导流管的一端插进所述石英安瓿的底部,所述导流管的另一端穿出所述安瓿支架与排气管相连...
吴卿
周立庆
刘兴新
徐强强
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单晶生长用石英安瓿内壁碳膜制备装置
本实用新型公开了一种单晶生长用石英安瓿内壁碳膜制备装置,该装置在石英安瓿的颈部设置安瓿支架,所述安瓿支架内设有通道;所述通道内设置导流管,所述导流管的一端插进所述石英安瓿的底部,所述导流管的另一端穿出所述安瓿支架与排气管...
吴卿
周立庆
刘兴新
徐强强
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硅基缓冲层及其制备方法
本发明公开了一种硅基缓冲层及其制备方法。硅基缓冲层的制备方法,包括:获得原子级别洁净的的Si片;依次打开As束流源、Te束流源,对Si片的正面进行钝化;交替打开Zn束流源和Te束流源,在钝化后的Si片的正面外延ZnTe缓...
王丛
刘铭
高达
周立庆
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芯片电极的制备方法及制备装置
本发明提出了一种芯片电极的制备方法及制备装置,制备方法包括:将芯片放置于真空腔室内进行金属化沉积以形成芯片的电极;对形成电极的芯片进行加热,达到第一预设温度后维持预设时间;在真空腔室内,对芯片进行降温,使芯片降温至第二预...
王鑫
谭振
祁娇娇
宁提
周立庆
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