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吕成

作品数:3 被引量:3H指数:1
供职机构:中国石油大学(华东)更多>>
相关领域:一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇单晶
  • 2篇单晶硅
  • 2篇单晶硅片
  • 2篇异质结
  • 2篇光伏效应
  • 2篇光生
  • 2篇硅片
  • 2篇
  • 2篇掺杂
  • 1篇动力学
  • 1篇动力学模拟
  • 1篇修饰
  • 1篇石墨
  • 1篇石墨烯
  • 1篇温度
  • 1篇化学修饰
  • 1篇分子
  • 1篇分子动力学
  • 1篇分子动力学模...
  • 1篇复合材料

机构

  • 3篇中国石油大学...

作者

  • 3篇吕成
  • 2篇夏丹
  • 2篇马明
  • 2篇陈惠娟
  • 2篇薛庆忠

年份

  • 2篇2011
  • 1篇2010
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
化学修饰对石墨烯/聚合物复合材料界面及其特性影响的分子动力学模拟研究
2004年Andre Geim教授首次利用机械剥离的方法制备出石墨烯,从此石墨烯由于其特殊的结构和性质引起了科学界的广泛关注。独特的二维sp2-杂化的碳原子结构、电子输运的零质量狄拉克-费米子行为以及量子霍尔效应使得石墨...
吕成
关键词:分子动力学模拟石墨烯玻璃化转变温度化学修饰复合材料
文献传递
一种具有光伏效应的钯掺杂碳薄膜材料
本发明提供了一种具有光伏效应的钯掺杂碳薄膜材料,是在厚度为0.5~1.0毫米的单晶硅片上溅射一层厚度为20~200纳米的薄膜,该薄膜为掺杂原子数含量为0~5%钯的碳薄膜,制成钯掺杂碳薄膜/二氧化硅/硅材料或者钯掺杂碳薄膜...
薛庆忠马明陈惠娟吕成夏丹
文献传递
一种具有光伏效应的钯掺杂碳薄膜材料
本发明提供了一种具有光伏效应的钯掺杂碳薄膜材料,是在厚度为0.5~1.0毫米的单晶硅片上溅射一层厚度为20~200纳米的薄膜,该薄膜为掺杂原子数含量为0~5%钯的碳薄膜,制成钯掺杂碳薄膜/二氧化硅/硅材料或者钯掺杂碳薄膜...
薛庆忠马明陈惠娟吕成夏丹
共1页<1>
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