卢海参
- 作品数：8 被引量：24H指数：4
- 供职机构：上海大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划上海市科委纳米专项基金更多>>
- 相关领域：机械工程金属学及工艺理学更多>>
- 氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法
- 本发明涉及一种氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法，属高精密抛光用磨料的制备工艺技术领域。本发明的制备方法是先制备α-Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>分散液：于去离子水中加入一定量的α-Al<Sub>2...
- 雷红张鹏珍卢海参张泽芳肖保其
- 文献传递
- 氧化铝/聚丙烯酰胺复合磨粒的制备及其抛光性能的研究
- 随着先进电子技术的飞速发展，对产品加工精度和表面质量的要求越来越高。化学机械抛光(chemical mechanical polishing，简称CMP)技术几乎是迄今唯一可以提供全局平面化的表面精加工技术，可广泛用于集...
- 卢海参
- 关键词：化学机械抛光氧化铝
- 文献传递
- 氧化铝复合磨粒的抛光特性研究被引量：6
- 2007年
- 为提高氧化铝磨料分散稳定性,利用接枝聚合对氧化铝粒子进行了表面改性,并研究了改性后氧化铝粒子在数字光盘玻璃基片中的化学机械抛光特性。结果表明,氧化铝复合磨粒的抛光性能与其表面接枝率密切相关。接枝率上升,材料去除速率下降;试验条件下,当接枝率为2.93%时,氧化铝磨粒体现出较高的表面平整性、较低的表面粗糙度及较低的表面损伤。
- 雷红卢海参严琼林褚风灵丘海能
- 纳米氧化硅在玻璃基片表面亚纳米级抛光中的应用被引量：4
- 2006年
- 为满足先进电子产品对玻璃基片表面超光滑的要求,制备了一种纳米氧化硅抛光液,并研究了氧化硅粒子大小、抛光时间等参数对玻璃基片抛光后表面粗糙度、材料去除速率的影响。ZYGO形貌仪表明,采用纳米氧化硅抛光液,可以使玻璃表面粗糙度达到0.5 nm左右。AFM表明,抛光后的玻璃基片表面超光滑且无划痕等微观缺陷。
- 雷红张鹏珍卢海参
- 关键词：平面化
- 超细氧化铝表面改性及其抛光特性被引量：12
- 2007年
- 在化学机械抛光(CMP)中,为了提高氧化铝磨料分散稳定性和防止团聚,利用丙烯酰氯对超细氧化铝进行了表面改性,并用XPS、激光粒度仪、SEM对其进行表征,结果表明改性后的超细氧化铝分散性明显提高。研究了改性后超细氧化铝在数字光盘玻璃基片中的化学机械抛光特性,即外加压力、抛光时间和下盘转速对玻璃基片去除量的影响,并对其CMP机制进行了推断。结果表明,材料去除量随下盘转速、压力变化趋势相近,即随着压力的增加或下盘转速的提高,材料去除量先增大后减小;随抛光时间延长,抛光初期材料去除量增加较快,但在后段时间内去除量增加趋势趋于平缓。
- 卢海参雷红张泽芳肖保其
- 关键词：表面改性超细氧化铝
- 新型高性能纳米抛光材料及亚纳米级抛光技术研究
- 雷红褚于良金建华张鹏珍卢海参张泽芳肖保其
- 该课题开展了高性能纳米抛光材料及亚纳米级抛光技术研究。通过制备了一系列纳米磨粒及相应的纳米粒子抛光液，在进口SPEEDFAM工业抛光机上直接实验了各种纳米粒子抛光液的抛光性能，研究了计算机铝镁合金硬盘、玻璃光盘基片等的亚...
- 关键词：
- 关键词：抛光液化学机械抛光
- 氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法
- 本发明涉及一种氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法，属高精密抛光用磨料的制备工艺技术领域。本发明的制备方法是先制备α－Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>分散液：于去离子水中加入一定量的α－Al<Sub>2...
- 雷红张鹏珍卢海参张泽芳肖保其
- 文献传递
- 氧化铝-g-聚丙烯酰胺复合磨粒的制备及表征被引量：4
- 2007年
- 为提高α-Al2O3磨粒在水基介质中的分散稳定性,采用接枝聚合方法制备了Al2O3-g-聚丙烯酰胺复合粒子。采用FTIR、XPS、TOF-SIMS、激光粒度仪、SEM、沉降试验等对氧化铝复合粒子结构及分散性能等进行了表征。结果表明,聚丙烯酰胺以化学键形式接枝到Al2O3粒子表面,形成聚丙烯酰胺为壳,Al2O3为核的复合磨粒;接枝改性后的Al2O3粒子分散性明显提高,并且其分散性与Al2O3表面接枝量密切相关。
- 雷红卢海参
- 关键词：接枝聚合分散性化学机械抛光
