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文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 1篇微小孔
  • 1篇小孔
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻机
  • 1篇光强
  • 1篇仿真
  • 1篇非接触
  • 1篇测量系统

机构

  • 3篇中国电子科技...

作者

  • 3篇贾亚飞
  • 2篇张云鹏
  • 2篇蒲继祖
  • 1篇李霖
  • 1篇杨建章

传媒

  • 3篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2012
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
光刻机双面对准精度测量系统被引量:1
2015年
双面对准精度是接触接近式光刻机的关键性能指标,介绍了一种检测此项指标的测量原理及应用该原理研制的双面对准精度测量系统,并对设备的部件构成及控制流程作了叙述。设备实际验证了检测原理,对50、75、100及150 mm圆形基片均可适用。
李霖贾亚飞张云鹏杨建章
关键词:光刻机
非接触间隙检测
2014年
基于光的分振幅干涉原理,用激光做光源,自行设计了用于接触或接近式曝光工艺中掩模板与基片间的间隙均匀性检测装置,通过实际运用,达到理想效果。
贾亚飞蒲继祖张云鹏
关键词:非接触
微小孔近场衍射光强的空间分布及仿真
2012年
阐述了微小孔近场衍射的基本理论。重点对单色光垂直入射时圆孔衍射场的光强空间分布进行了计算机数值模拟。通过对不同半径圆孔的衍射场光强进行仿真,分析得到了衍射场光强的空间分布特性。对接近式曝光技术参数的设定具有理论指导意义。
贾亚飞蒲继祖
关键词:微小孔
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