您的位置: 专家智库 > >

王铁兵

作品数:5 被引量:25H指数:4
供职机构:中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇电子电信

主题

  • 4篇等温凝固
  • 4篇凝固
  • 3篇芯片
  • 2篇芯片焊接
  • 2篇
  • 1篇电路
  • 1篇电子器件
  • 1篇动力学
  • 1篇失效模式
  • 1篇铟合金
  • 1篇集成电路
  • 1篇合金
  • 1篇分子
  • 1篇分子动力学
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇AU

机构

  • 5篇中国科学院上...

作者

  • 5篇王铁兵
  • 3篇施建中
  • 3篇谢晓明
  • 1篇周正有
  • 1篇程兆年

传媒

  • 3篇功能材料与器...
  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇2001
  • 2篇2000
  • 2篇1999
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
Au//In等温凝固芯片焊接研究
等温凝固是指:高熔点元素和低熔点元素,在比低熔点元素的熔点略高 的恒定温度下反应,形成固溶体或生成金属间化合物。其特点为所形成的固 溶体或金属间化合物往往具有比反应温度更高的熔点或...
王铁兵
关键词:芯片
文献传递
Au/In等温凝固芯片焊接工艺研究被引量:14
1999年
本文研究了Au/In 等温凝固芯片焊接工艺。对机械振动、压力、Au ,In 镀层厚度、衬底的表面平整度等因素对焊层的剪切强度、结构和热疲劳可靠性的影响进行了分析和优化。在250 ℃- 300 ℃之间,实现了较大尺寸芯片(3 ×3mm2) 在较低成本下的快速焊接。焊层在承受- 55 ℃-125 ℃3200 周冷热循环后无明显退化。
王铁兵施建中谢晓明
关键词:芯片焊接等温凝固电子器件
分子动力学模拟研究熔态硅的局部结构被引量:9
1999年
采用Tersoff 势,修正试用不同的粒子间相互作用距离R,S 的取值,进行了液态硅的分子动力学模拟.模拟的结果表明,修正Tersoff 势下得到的径向分布函数能与X 射线衍射、中子散射实验相一致.模拟得到在液态硅中,Si 的配位数为69 ,键长为0254 nm .分子动力学模拟表明,液态硅中Si 原子间联接成一种网络状结构,但大多数Si 原子与其近邻Si 原子仍保持近似于正四面体的局部构型.键角概率分布出现两个峰值~57°和~102°.通过键序参量分析,得到在液态硅近邻结构中,正四面体构型约占82 % ,键取向波动方差为52°.模拟结果还表明,除正四面体局部构型外,非正四面体局部构型不一定全是正二十面体构型。
周正有王铁兵程兆年
关键词:分子动力学
Au/In等温凝固焊接失效模式研究被引量:8
2001年
研究了 Au/In等温凝固芯片焊接的失效模式 ,对每种失效模式的失效原因进行了讨论 ,并提 出了相应的解决途径。结果表明 :镀铟层过厚 ,会使焊层中产生 Ni9In4相和大量空洞 ,导致焊层出现 早期失效 ;焊接过程中芯片与衬底平行度不好 ,会使加载压力在焊区分布不均 ,并导致焊区局部区 域发生 Au/In不浸润 ;焊接温度过高 ,则焊层内会出现较大的热应力 ,可导致芯片或焊层开裂 ;在 300oC高温下 ,由于过渡层 Ni与 Au/In相的反应 ,焊区内出现大量空洞 ,导致焊层剪切强度下降。 对 Au/In体系在未来高温电子器件芯片焊接中的应用 ,尚需寻找合适的过渡层材料。
王铁兵施建中谢晓明
关键词:芯片焊接等温凝固失效模式
Au/In合金在陶瓷封装装片中的应用被引量:5
2000年
本文用等温凝固技术研究了Au -In合金在陶瓷封装装片中的应用。结果表明 ,通过一种多层结构设计和机械振动的作用 ,硅芯片可在250oC~300oC、2.1N/mm2 的静态加载压力和流量为0.5l/min的氮气环境下焊接到氧化铝衬底上 ,绝大多数样品的剪切强度符合MILSTD883D美国军方标准 ,焊层具有良好的可靠性 ,在 -55oC~ +125oC之间1750周热循环试验后 ,剪切强度仅有微量下降。同时 ,用金相方法对热循环试验前后的焊层微结构进行了分析。
施建中王铁兵谢晓明
关键词:等温凝固集成电路
共1页<1>
聚类工具0