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王建成

作品数:6 被引量:3H指数:1
供职机构:河南师范大学物理系更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 5篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇光学
  • 5篇光学薄膜
  • 1篇镀膜
  • 1篇致密
  • 1篇致密度
  • 1篇透明导电
  • 1篇透明导电膜
  • 1篇物理系
  • 1篇显微结构
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇光电
  • 1篇光电子
  • 1篇光电子技术
  • 1篇TIO
  • 1篇ITO膜
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇粗糙度

机构

  • 6篇河南师范大学
  • 5篇清华大学

作者

  • 6篇王建成
  • 6篇韩丽瑛
  • 4篇高健存
  • 1篇谢国会
  • 1篇王喜中

传媒

  • 2篇激光与红外
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇光学技术
  • 1篇河南师范大学...
  • 1篇光学学报

年份

  • 1篇1994
  • 5篇1993
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
反应离子镀制备ITO膜
1993年
采用反应离子镀新工艺成功地在K9玻璃上制备了ITO(Indium Tin Oxide)透明导电膜,所制备的ITO膜在550~600nm波长范围内,典型的峰值透过率为89%,面电阻为34Ω/□。
王建成韩丽瑛
关键词:透明导电膜光电子技术
光学薄膜的反应离子镀概述
1993年
光学薄膜反应离子镀技术是近10年来镀膜技术的最新突破,也是当今国际薄膜界研究的热点。本文以简明扼要的方式报道了作者对反应离子镀技术的最新研究成果。1
王建成王喜中韩丽瑛
关键词:光学薄膜镀膜
反应离子镀光学薄膜的牢固度和表面粗糙度分析
1993年
本文对反应离子镀和反应蒸发(电子束蒸发)工艺制备的光学薄膜的牢固度和表面粗糙度进行了检测,并将结果进行对比。
王建成韩丽瑛高健存
关键词:光学薄膜表面粗糙度
反应离子镀光学薄膜的微观结构分析被引量:3
1993年
用反应离子镀方法制备了TiO_2单层膜及TiO_2/SiO_2多层膜,用透射电子显微镜分别观察了由反应离子镀方法及传统蒸镀法二种不同工艺制得的TiO_2单层膜及TiO_2/SiO_2多层膜的断面结构,并对TiO_2单层膜进行了喇曼分析和卢瑟福背散射分析.
王建成韩丽瑛高健存
关键词:光学薄膜显微结构
反应离子镀TiO_2膜的聚集密度的测定
1993年
光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术,正在受到国内外的关注,传统的反应蒸发工艺制备的光学薄膜呈显著的柱状结构,表面粗糙等缺陷;而反应离子镀工艺制备的光学薄膜,牢固度、致密度、表面光洁度等光机性能均有明显改善。
王建成谢国会高健存韩丽瑛
关键词:光学薄膜物理系致密度
光学薄膜反应离子镀技术研究
1994年
光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术。本文介绍了光学薄膜反应离子镀设备的研制,在此设备上成功地制备了TiO2、ZrO2、SiO2、Al2O3光学薄膜,测出其折射率接近或达到同种块状材料的折射率;并对TiO2、SiO2,单层膜的成份及价态作了X光电子能谱分析。
王建成韩丽瑛高健存
关键词:光学薄膜
共1页<1>
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