杨超
- 作品数：16 被引量：9H指数：2
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家重大技术装备创新研制项目国家重点基础研究发展计划吉林省重大科技攻关项目更多>>
- 相关领域：机械工程理学电子电信更多>>
- 一种大面积光栅刻划刀架系统
- 一种大面积光栅刻划刀架系统，涉及光栅刻划技术领域，解决现有的滑块与刀架安装板之间的连接方式为合页结构，由于合页结构转动轴与轴套之间存在轴隙误差，难以保证刻刀运行的长期稳定性的问题，包括玻璃导轨；沿玻璃导轨滑动的滑块，滑块...
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- 文献传递
- 一种光栅刻线弯曲自动控制校正方法
- 一种光栅刻线弯曲自动控制校正方法，涉及光栅刻划技术领域，解决现有光栅刻线弯曲校正技术需要采用机械设计方法对光栅刻划机机械结构进行多次反复的改进设计和安装调试，存在设计过程复杂、效率低且刻线弯曲校正效果较差等问题，本发明包...
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- 光栅刻划刀调整装置及其方法
- 光栅刻划刀调整装置及其方法属于光栅刻划机械自动控制领域，目的在于实现高精度、高性能光栅的刻制。本发明的压电陶瓷设于承载座上，刀架定位安装头与压电陶瓷的输出端连接，刀架位于刀架定位安装头的下方，测量装置固定于承载座，n个封...
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- 一种具有阿贝误差校正功能的光栅刻刀主动调整装置
- 本发明涉及光栅刻划技术领域，具体公开一种具有阿贝误差校正功能的光栅刻刀主动调整装置。本发明包括刀架升降机构、刀架支撑架、微定位工作台、工作台安装座、柔性铰链、压电陶瓷、拉簧、小刀架、金刚石刻刀；压电陶瓷与微定位工作台通过...
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- 光栅刻划刀架系统的运行精度对光栅光谱性能的影响被引量：2
- 2014年
- 采用菲涅耳-基尔霍夫衍射理论建立了存在刻线弯曲和刻线位置误差的光栅衍射谱成像数学模型,分析了上述误差对光栅光谱性能的影响。针对刻划刀架系统运行不稳定问题,设计了一套光学测量结构,并提出了刻划刀架系统的机械改进方案:采用双侧柔性铰链式结构代替原有的鞍型滑块与刻划刀架的固定连接方式。最后,进行了刻划刀架系统运行稳定性测试和光栅刻划实验。刻划刀架运行稳定性测试实验表明:改进后的刻划刀架系统运行稳定性比改进前有显著改善,位移曲线重复性误差PV值由127nm降低到13nm,降低了约89%。光栅刻划实验表明,刻划刀架系统改进后,光栅光谱性能有明显的改善,光栅杂散光得到了有效抑制。得到的实验结果与仿真分析结果较为一致,为提高机械刻划光栅质量提供了理论及技术保障。
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- 一种具有阿贝误差校正功能的光栅刻刀主动调整装置
- 本发明涉及光栅刻划技术领域，具体公开一种具有阿贝误差校正功能的光栅刻刀主动调整装置。本发明包括刀架升降机构、刀架支撑架、微定位工作台、工作台安装座、柔性铰链、压电陶瓷、拉簧、小刀架、金刚石刻刀；压电陶瓷与微定位工作台通过...
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- 一种消像差平面衍射光栅的机械刻划方法
- 本发明公开一种消像差平面衍射光栅的机械刻划方法，包括：采用所述激光干涉计对刻划刀架的固有位置误差进行测量；采用衍射波前测量仪对所述光栅基底的面形误差进行测量；根据步骤一测量得到的刻划刀架固有位置误差和步骤二得到的光栅基底...
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- 大光栅刻划机工作台的摆角矫正机构研制被引量：4
- 2014年
- 大光栅刻划机若存在摆角误差,将直接影响刻划光栅的波前质量。首先,计算得到李特洛设置下的摆角误差与波前质量的映射关系。其次,论述了双压电触动器校正摆角的工作原理,并设计了摆角测量光路,测量在该结构下工作台的摆角校正能力。最后基于以上结构对工作台进行刻划实验。结果表明在具有400×500光栅刻划能力的刻划机上,采用双压电触动器校正工作台摆角误差,能够满足±5μm行程范围内±2″校正范围的要求;实验表明摆角误差校正后工作台的偏转角度由0.42″降低至0.02″,校正后的摆角误差相比于校正前降低了95.24%,满足对工作台摆角校正精度的要求,提高了光栅的波前质量。以上实验结果为刻划出高精度大面积光栅提供了基础保障。
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- 关键词：光栅刻划机
- 一种光栅刻线弯曲自动控制校正方法
- 一种光栅刻线弯曲自动控制校正方法，涉及光栅刻划技术领域，解决现有光栅刻线弯曲校正技术需要采用机械设计方法对光栅刻划机机械结构进行多次反复的改进设计和安装调试，存在设计过程复杂、效率低且刻线弯曲校正效果较差等问题，本发明包...
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- 一种大面积光栅刻划刀架系统
- 一种大面积光栅刻划刀架系统，涉及光栅刻划技术领域，解决现有的滑块与刀架安装板之间的连接方式为合页结构，由于合页结构转动轴与轴套之间存在轴隙误差，难以保证刻刀运行的长期稳定性的问题，包括玻璃导轨；沿玻璃导轨滑动的滑块，滑块...
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