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刘键
作品数:
8
被引量:8
H指数:1
供职机构:
中国科学院高能物理研究所
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发文基金:
中国科学院重点实验室基金
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相关领域:
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合作作者
王佩璇
北京科技大学材料科学与工程学院...
魏龙
中国科学院高能物理研究所
王文华
中国科学院高能物理研究所
张天保
中国科学院高能物理研究所
王耘波
北京科技大学材料科学与工程学院...
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2000
3篇
1999
1篇
1998
3篇
1997
共
8
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中子辐照GaAs的X射线漫散射研究
1999年
用X射线漫散射研究了中子辐照GaAs中的缺陷.结果表明:中子辐照产生点缺陷团.辐照剂量为1019m-2和1021m-2时,缺陷团的平均半径分别为387nm和455nm.这可能是高剂量辐照下损伤区域交叠的结果.平均半径随退火温度的升高而减小是间隙原子与空位复合造成的.
刘键
王佩璇
关键词:
中子辐照
砷化镓
半导体
砷化镓的中子辐照缺陷研究
刘键
关键词:
砷化镓
中子辐照
中子辐照砷化镓的快速退火行为的正电子寿命研究
被引量:6
1997年
用正电子湮没技术研究了中子辐照半绝缘GaAs的快速退火行为。结果表明:辐照引入的空位缺陷浓度与辐照剂量有关。退火过程中的空位团的分解和聚合与退火温度和辐照剂量关。
刘键
王佩璇
王耘波
王文华
魏龙
张天保
关键词:
中子辐照
正电子湮没
快速退火
砷化镓
中子辐照 GaAs 缺陷的退火行为研究
1999年
采用霍尔测量、沟道卢瑟福背散射( 沟道 R B S) 以及低温光荧光方法对中子辐照 Ga As 缺陷的快速退火行为进行了研究。嬗变杂质锗未能全部激活的原因之一是部分锗原子占据砷位形成受主。在快速退火过程中可形成反位缺陷 Ga As( Ev + 200 me V) 以及复合缺陷 I Ga - V As 。
刘键
王佩璇
张灶利
关键词:
中子辐照
砷化镓
退火
阳极氧化法制备多孔硅中的正电子湮没及扫描电子显微镜研究
被引量:1
2000年
用正电子湮没技术和扫描电子显微镜研究了阳极氧化法制备的多孔硅材料。正电子湮没实验表明,随着阳极氧化时间的延长,平均寿命值增大,空位缺陷增多。长寿命(正电子素)成分较少。扫描电子显微镜显示,在阳极氧化过程中有尺寸为几um的单晶球形成。并观察到部分单晶球脱离后形成的微米坑。空位缺陷增多的原因可能是随着阳极氧化时间的延长,多孔硅结构向内层延伸增加了空位缺陷。但扫描电子显微镜的观察结果并不排除另一种可能:部分表面结构的变化增大了表面层的空位缺陷浓度。
刘键
魏龙
王辉耀
马创新
王宝义
关键词:
正电子湮没
扫描电子显微镜
多孔硅
阳极氧化法
中子辐照GaAs的沟道卢瑟福背散射研究
被引量:1
1998年
用沟道RBS方法研究了中子辐照GaAs的缺陷在快速退火过程中的恢复行为.结果表明,在1014~1017/cm2范围内离位原子浓度近似按辐照剂量量级的平方关系增长.中子辐照效应对ψ1/2没有影响.经一定剂量辐照后,退火温度越高,退火时间越长,离位原子的恢复效果越明显.1015/cm2剂量辐照损伤的恢复激活能E10.35eV,可能对应空位与迁移而来的填隙原子的复合;而1017/cm2剂量辐照损伤的恢复激活能E20.13eV,对应空位与其附近的填隙原子的复合.
刘键
王佩璇
柯俊
朱沛然
扬峰
殷士端
关键词:
砷化镓
中子辐照
阳极氧化法制备多孔硅中的正电子湮没及扫描电子显微镜研究及微量元素价态的离子荧光法初探
第一部分:利用正电子湮没实验和扫描电子显微镜研究了阳极氧化法制备的多孔硅.利用扫描电子显微镜对同一样品进行了不同阳极氧化时间下的形貌观察.第二部分:离子荧光法是在离子束激发样品的特征X射线进行定量分析的过程中,利用外壳层...
刘键
关键词:
多孔硅
正电子湮没
扫描电子显微镜
离子注入
自由电子激光
砷化钾的中子辐照缺陷研究
刘键
关键词:
中子辐照
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