袁俊
- 作品数：3 被引量：35H指数：3
- 供职机构：浙江大学材料科学与工程学系硅材料国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电气工程一般工业技术金属学及工艺更多>>
- MH-Ni电池失效的电化学分析被引量：9
- 2001年
- 通过对失效MH Ni电池的解剖 ,用电化学方法研究分析了贮氢合金表面处理对充放电循环寿命终止时MH Ni电池负极的充放电性能和极化性能的影响。负极充放电曲线表明未处理贮氢合金电极的表面已严重氧化 ,其极化电阻大约是处理贮氢合金电极的 3～ 4倍。而经表面处理的贮氢合金电极仍具有良好的充放电性能和小的极化电阻。
- 袁俊祁建琴涂江平冯海陈长聘陈卫祥
- 关键词：MH-NI电池贮氢合金电化学
- 表面氧化对TiNi形状记忆合金耐腐蚀性能的影响被引量：11
- 2000年
- 本文用腐蚀的方法,研究了表面氧化对TiNi形状记忆合金耐腐蚀性能的影响。由于经过表面氧化处理的合金耐蚀性与其表面的氧化膜密切相关,而要获得致密的氧化膜,则关系到Ti、Ni两元素的扩散、氧化,以及氧化膜的生长条件,生长速度等等,所以随着氧化温度、氧化时间、材料本身的表面光洁度、氧化速度等几个影响因素的改变,合金耐蚀性也随之变化。经过实验比较,认为可以采用500℃保温1小时,在不影响合金的形状记忆效应的前提下,以提高表面光洁度、调节真空度来控制试样的氧化速度的表面处理方式,获得质量较好、致密的氧化膜,从而抑制有毒Ni离子的释放,显著地提高TiNi合金的耐腐蚀性能和生物相容性。
- 肖帆袁俊王小祥
- 关键词：形状记忆合金耐腐蚀性能钛镍合金
- 用化学腐蚀制备多孔硅太阳电池减反射膜的研究被引量：15
- 2002年
- 采用HF HNO3溶液化学腐蚀 ,在硅片上制备减反射效果优良的多孔硅太阳电池减反射膜 ,借助原子力显微镜 (AFM)和X光电子谱 (XPS)对其表面形貌和成分进行观察 ,发现该膜与电化学阳极腐蚀得到的多孔硅具有相似性 ,其主要成分为非化学配比的硅的氧化物SiOx(X <2 )。采用带积分球的光度分光计 ,测得形成多孔硅减反射膜后 ,硅片表面反射率大大下降 ,,在波长 330～ 80 0nm范围反射率只有 1 5～ 2 9%。研究指出这种强减反射作用 。
- 谢荣国席珍强马向阳袁俊杨德仁
- 关键词：化学腐蚀多孔硅太阳电池减反射膜氢氟酸硝酸
