董晓轩
- 作品数：6 被引量：9H指数：2
- 供职机构：苏州大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江苏省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信生物学更多>>
- 基于闪耀光栅图形化实现高分辨率干涉光刻被引量：3
- 2015年
- 为提高图形化干涉光刻质量,提出了基于闪耀光栅的图形化干涉光刻(PIIL)系统,并对该系统所采用的光学原理和实现方法进行了研究。首先,分析了图形化干涉光刻系统的光场特性,阐述了其分辨率提升的原理。讨论了光学系统带宽和图案分布对光刻图形质量的影响,给出了图形质量控制的工艺方法。其次,提出了一种新型的图形化干涉光刻方法,该方法采用闪耀光栅作为衍射分光器件,实现了位相和振幅的一体化调制。采用数值计算方法模拟了闪耀光栅的衍射特性和像面光场分布,讨论了闪耀光栅的优化设计方法,获得了高达92.3%的±1级衍射效率。最后,基于数字微镜器件(DMD)和微缩成像光路设计开发了图形化干涉光刻系统,实验获得了像素化的点阵图形和质量明显改善的光刻图像,验证了该方法对任意图形的适用性。
- 胡进董晓轩浦东林申溯陈林森
- 关键词：傅里叶光学衍射效率激光直写数字微镜器件
- 一种激光干涉光刻系统
- 本发明公开一种激光干涉光刻系统，包括：至少两个镜组；所述镜组包括：分光镜、第一全反镜和第二全反镜；所述镜组的分光镜均位于入射光的主光轴上；不同镜组位于所述主光轴的不同位置；入射光经过所述镜组的分光镜后，产生反射光和透射光...
- 彭长四董晓轩张伟顾小勇周云刘维萍
- 制作亚波长抗反射结构和亚波长抗反射结构压模的方法
- 一种亚波长抗反射结构的制作方法，该制作方法利用化学氧化还原反应制备的金属层在快速退火时金属层会发生自凝聚现象，然后金属层形成纳米结构的金属粒子；再利用金属粒子作为干法刻蚀的掩模进行干法刻蚀，最后形成亚波长的抗反射结构。本...
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- 文献传递
- 银镜反应制备纳米蛾眼减反结构法被引量：6
- 2014年
- 为了降低光学表面的菲涅耳反射,提出了一种制备仿生减反结构的方法.利用银镜反应并结合退火处理在硬性材质基底表面制备银纳米粒子,经反应离子刻蚀工艺,在基底表面形成一层纳米蛾眼减反结构.分析了周期分布和随机分布纳米蛾眼的光学特性,实验研究了退火参量和刻蚀参量对银纳米颗粒直径、密度以及高度的影响,并在硅和石英基底上分别制备了随机减反结构.测试结果表明:硅基平均反射率小于4.5%,双面石英基透过率达98.1%.理论和实验均表明:随机分布的纳米仿生蛾眼结构具有宽光谱、广视角和高减反特性,所提出的制备方法具有简便易行、低成本、大幅面等优点,在光电器件中具有良好的潜在应用前景.
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- 关键词：银镜反应反应离子刻蚀反射率
- 随机阵列纳米蛾眼减反结构的制备及应用研究
- 纳米蛾眼结构是指结构的特征尺寸远小于作用光波长的一种结构，可等效于一个连续变化折射率的介质层，能够在一个较宽的波谱范围内抑制反射光的损失。相比于传统的增透薄层，纳米蛾眼减反结构具有宽波谱和宽入射角的减反特点，使其在多种领...
- 董晓轩
- 关键词：太阳能电池刻蚀工艺
- 文献传递
- 一种激光干涉光刻系统
- 本发明公开一种激光干涉光刻系统，包括：至少两个镜组；所述镜组包括：分光镜、第一全反镜和第二全反镜；所述镜组的分光镜均位于入射光的主光轴上；不同镜组位于所述主光轴的不同位置；入射光经过所述镜组的分光镜后，产生反射光和透射光...
- 彭长四董晓轩张伟顾小勇周云刘维萍
- 文献传递
