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潘园园

作品数:5 被引量:5H指数:1
供职机构:南京航空航天大学材料科学与技术学院更多>>
发文基金:江苏高校优势学科建设工程资助项目国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 4篇热丝
  • 4篇热丝化学气相...
  • 4篇化学气相
  • 4篇化学气相沉积
  • 2篇电导
  • 2篇电导率
  • 2篇硼掺杂
  • 2篇微结构
  • 2篇晶化率
  • 2篇光电
  • 2篇P型
  • 2篇掺杂
  • 1篇电输运
  • 1篇电学性能
  • 1篇异质结
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇输运
  • 1篇激活能
  • 1篇溅射

机构

  • 5篇南京航空航天...

作者

  • 5篇潘园园
  • 4篇沈鸿烈
  • 3篇江丰
  • 3篇吴天如
  • 3篇张磊
  • 2篇刘斌
  • 1篇岳之浩
  • 1篇冯晓梅

传媒

  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇电子器件

年份

  • 1篇2013
  • 3篇2012
  • 1篇2011
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
灯丝温度对热丝CVD法制备p型氢化纳米晶硅薄膜微结构与光电性能的影响被引量:3
2012年
本文采用热丝化学气相沉积法在不同灯丝温度(1650~1850℃)下沉积了p型氢化纳米晶硅薄膜,研究了灯丝温度对薄膜微结构、光学性能及电学性能的影响。结果表明,随着灯丝温度的升高,薄膜的晶化率先增大后略微减小,最大值是55.5%。载流子浓度和霍尔迁移率先分别从5×1017cm-3和0.27 cm2/V.s增加到1.32×1020cm-3和0.43 cm2/V.s后略微减小,同时电导率从0.02 S/cm显著增加到8.95 S/cm,而电导激活能则从271.5 meV急剧减小至25 meV。
潘园园沈鸿烈张磊吴天如江丰
关键词:热丝化学气相沉积微结构电学性能
p型nc-Si:H薄膜的热丝CVD法制备与性能研究
氢化纳米晶硅/(nc-Si:H/)薄膜是一种纳米颗粒镶嵌在非晶硅网络中的混合相结构材料,具备优异的光电性能,是第二代和第三代太阳电池的重要材料。特别是在硅基单结和叠层薄膜太阳电池中,研究制备具有高晶化率、高电导率、低激活...
潘园园
关键词:热丝化学气相沉积硼掺杂晶化率电导率激活能
文献传递
沉积气压对纳米晶硅薄膜晶化率与电输运性能的影响被引量:1
2013年
采用热丝化学气相沉积法在不同气压(1~8 Pa)下沉积了p型纳米晶硅薄膜,研究了沉积气压对薄膜晶化率和电输运性能的影响。结果表明,薄膜的晶化率和平均晶粒尺寸随沉积气压升高而增大,而当沉积气压超过6 Pa后,薄膜的晶化率和平均晶粒尺寸会减小。当沉积气压由1 Pa升高到2 Pa时,BH3粒子迅速增多,且吸附方式是化学吸附,因而载流子浓度从8.9×1018cm-3迅速增大到6.252×1020cm-3。此时电导率从1.08 S/cm显著增加到29.5 S/cm,而电导激活能则从95.8meV急剧减小至18.6 meV,这是硼杂质掺杂浓度和薄膜的晶化率迅速增大所致。
潘园园沈鸿烈张磊吴天如江丰
关键词:热丝化学气相沉积晶化率
硼掺杂对热丝CVD法制备纳米晶硅薄膜微结构与光电性能的影响
2012年
采用热丝化学气相沉积法制备了不同B2H6掺杂比例(B2H6/SiH4为2%-15%)的p型纳米晶硅薄膜,通过探索B2H6掺杂比例、晶化率、光学带隙和电学性能(电导率、载流子浓度、霍尔迁移率)之间的关系以及薄膜掺杂机理来研究B2H6掺杂比例对薄膜微结构和光电性能的影响。在掺杂比例为11%时成功获得了电导率为32 S/cm的高电导率硼掺杂nc-Si∶H薄膜。
潘园园沈鸿烈吴天如张磊刘斌
关键词:硼掺杂热丝化学气相沉积电导率
射频磁控溅射法制备AZO/p-Si异质结及其性能研究
2011年
利用射频磁控溅射法,在p-Si衬底上生长了Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜,并进而制备了AZO/p-Si异质结。X射线衍射仪、紫外-可见光分光光度计、四探针测试仪和霍尔效应测试仪测量表明,AZO薄膜具有良好的结晶质量、光学和电学特性。暗态下的I-V测试表明,AZO/p-Si异质结具有较好的整流特性,反向饱和电流为1.29×10-6A,±2V处的正向和反向电流之比为229.41,计算得出异质结的理想因子为2.28。在标准光照下AZO/p-Si异质结呈现出明显的光生伏特效应,这种异质结太阳电池具有2.51%的光电转换效率。
刘斌沈鸿烈岳之浩江丰冯晓梅潘园园
关键词:射频磁控溅射I-V特性
共1页<1>
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