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文献类型

  • 2篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇密封
  • 2篇
  • 1篇碳涂覆光纤
  • 1篇光敏性
  • 1篇光纤
  • 1篇MCVD工艺
  • 1篇大长度

机构

  • 3篇中国电子科技...
  • 1篇复旦大学

作者

  • 3篇顾劭忆
  • 3篇何耀基
  • 3篇孙小玲
  • 2篇潘志勇
  • 2篇任军江
  • 2篇黄剑平
  • 1篇熊婷婷

传媒

  • 1篇光纤与电缆及...
  • 1篇首届全国海底...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇2006
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
掺锡石英光纤的制备技术
2008年
介绍了液相掺杂法与MCVD工艺相结合制备掺锡石英光纤的工艺过程,对掺锡光敏光纤的光敏性和热稳定性进行了测试,并对光敏性与掺杂浓度的关系进行了初步讨论。
顾劭忆孙小玲何耀基
关键词:光敏性
高强度耐疲劳光纤的研究
本文采用了MCVD工艺制作了光纤预制棒,利用CVD工艺制作了高强度的碳密封涂覆光纤.测试结果表明光纤的指标满足了G652标准,抗拉强度达到51 N,疲劳参数到达了165.
任军江潘志勇顾劭忆孙小玲黄剑平何耀基
关键词:MCVD工艺
文献传递
大长度高强度碳涂覆光纤的研制
利用改进的CVD工艺制作了大长度高强度的碳密封涂覆光纤。强度筛选测试结果表明,2%筛选通过长度达到了57km,大长度涂覆工艺对光纤涂覆层和光学性能损耗影响不明显。动态测试结果表明疲劳参数到达了147,且抗拉强度达到55N
潘志勇任军江黄剑平孙小玲何耀基顾劭忆熊婷婷
关键词:光纤
文献传递
共1页<1>
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