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高胥华

作品数:19 被引量:16H指数:2
供职机构:成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺电子电信交通运输工程化学工程更多>>

文献类型

  • 15篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 4篇金属学及工艺
  • 2篇化学工程
  • 2篇电子电信
  • 2篇交通运输工程
  • 1篇理学

主题

  • 13篇抛光
  • 13篇光学
  • 9篇光学元件
  • 8篇面形
  • 5篇全口径
  • 5篇口径
  • 4篇抛光工艺
  • 4篇抛光液
  • 3篇套圈
  • 3篇填充层
  • 3篇抛光粉
  • 3篇技术工艺
  • 3篇工艺过程
  • 3篇光学表面
  • 2篇循环水泵
  • 2篇声波
  • 2篇时间函数
  • 2篇时间响应特性
  • 2篇数控
  • 2篇数控加工

机构

  • 19篇成都精密光学...
  • 3篇四川大学
  • 1篇西南科技大学

作者

  • 19篇高胥华
  • 16篇胡庆
  • 14篇鄢定尧
  • 14篇马平
  • 13篇赵恒
  • 13篇黄金勇
  • 12篇谢磊
  • 10篇何祥
  • 9篇王刚
  • 5篇朱衡
  • 5篇鲍振军
  • 5篇蔡红梅
  • 3篇杨李茗
  • 3篇冯国英
  • 3篇胡江川
  • 3篇何曼泽
  • 3篇周佩璠
  • 3篇韩敬华
  • 3篇黄颖
  • 3篇杨佳

传媒

  • 1篇光学精密工程
  • 1篇工具技术
  • 1篇光谱学与光谱...
  • 1篇中国光学学会...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2021
  • 3篇2020
  • 5篇2019
  • 3篇2018
  • 1篇2017
  • 2篇2015
  • 1篇2012
  • 1篇2007
  • 1篇2006
19 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种抛光机
本申请公开了一种抛光机,包括气缸、移动导轨、抛光模基座、底座、抛光模和填充层。所述抛光模粘附在所述抛光模基座上的、表面面积与抛光器件表面面积大小相同、且与所述抛光器件表面贴合;所述填充层为高于一温度时呈液态、常温下成固态...
蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
文献传递
一种数控抛光工具
本发明公开一种数控抛光工具,包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层,所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接,所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上,所述清扫层设置于所述非金属套圈底部,所述抛光模层设置于...
黄金勇马平鄢定尧胡庆何祥吕亮谢磊高胥华
一种光学元件抛光工具及抛光方法
本发明公开一种光学元件抛光工具,包括连接杆、磨盘、压圈和抛光膜层,连接杆的上端与抛光机构连接,连接杆的下端与磨盘的顶部连接,连接杆的中心轴线与磨盘中心线重合,磨盘的底部中心设置向下凸起的凸台,抛光膜层包覆在凸台上,压圈中...
黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒高胥华何祥马平鄢定尧
文献传递
大口径平面光学元件波前梯度数控抛光被引量:10
2019年
针对改善光学元件的波前梯度均方根指标,在总结面形精度及面形分布对波前梯度指标影响规律的基础上,提出了基于匀滑面形拟合加工的方法,给出了该方法的基本思想和工作流程。首先,对原始面形数据进行扫描计算,标记波前突变数据。然后,采用NURBS拟合算法重构相邻面形突变点之间的数据,生成用于指导加工的面形数据。最后,根据待加工面形数据选择相应参数进行面形加工。采用多件610mm×440mm口径K9材料平面反射镜进行实验验证。实验结果表明,使用该方法进行数控加工,在2~3个加工周期内可使波前梯度均方根指标从11nm/cm收敛至7.7nm/cm以内,且面形几乎保持不变。
黄金勇赵恒胡庆高胥华
关键词:光学加工光学元件
一种数控抛光工具
本实用新型公开一种数控抛光工具,包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层,所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接,所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上,所述清扫层设置于所述非金属套圈底部,所述抛光模层设...
黄金勇马平鄢定尧胡庆何祥吕亮谢磊高胥华
文献传递
一种数控抛光工具
本发明公开一种数控抛光工具,包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层,所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接,所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上,所述清扫层设置于所述非金属套圈底部,所述抛光模层设置于...
黄金勇马平鄢定尧胡庆何祥吕亮谢磊高胥华
文献传递
一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统
本发明实施例公开了一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统。其中,方法包括根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数计算驻留时间函数,以确定第一加工路径;根据第一加工路径对其进行抛光加工,直至其波前PV值不大于预设PV阈...
黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒马平鄢定尧高胥华
文献传递
一种抛光工艺
本申请公开了一种抛光工艺,包括:在高温条件下,将抛光模与抛光器件表面压合,使抛光模完全复制抛光器件表面形状,然后向抛光模与抛光模基座之间注入填充层,加压固定后,抛光模与抛光模基座粘结,待填充层固定成型后控制所述抛光模对抛...
蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
文献传递
激光等离子体效应对薄膜损伤特性的影响被引量:1
2012年
高能激光的发展对光学元件的抗损伤能力要求越来越高,其中光学薄膜是最薄弱的环节之一。实验研究了激光的聚焦位置对石英基片上HfO2/SiO2减反射薄膜损伤形貌的影响,研究发现:激光等离子体的高压冲击波对薄膜产生强烈的冲击剥离效应,其压强随膨胀半径的增加而迅速减小。激光等离子体光谱的辐射波长小于入射激光波长,这会增强薄膜对辐射光能量的吸收;位于深紫外波段、能量大于HfO2薄膜带隙的光子能量,将被薄膜直接吸收,从而加剧薄膜的电离破坏。激光等离子体的辐射效应和冲击波效应的共同作用决定了薄膜的损伤形貌。当激光聚焦到薄膜表面时,冲击波压强极大会使薄膜发生大面积的电离去除,同时基底发生击穿;当两者距离大到一定距离时,冲击波只会使得中心处小面积薄膜发生剥离,基底未出现断裂。
韩敬华段涛高胥华冯国英范卫星杨李茗刘岩岩包凌东
关键词:激光等离子体光学薄膜光谱辐射电离冲击波
一种抛光工艺
本申请公开了一种抛光工艺,包括:在高温条件下,将抛光模与抛光器件表面压合,使抛光模完全复制抛光器件表面形状,然后向抛光模与抛光模基座之间注入填充层,加压固定后,抛光模与抛光模基座粘结,待填充层固定成型后控制所述抛光模对抛...
蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
共2页<12>
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