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寿莎

作品数：5 被引量：13H指数：3
供职机构：浙江师范大学初阳学院更多>>
发文基金：浙江省科技厅新苗人才计划更多>>
相关领域：理学交通运输工程机械工程金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇理学

主题

  • 1篇电池
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇太阳能
  • 1篇太阳能电池
  • 1篇退火
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米SI
  • 1篇晶格
  • 1篇刻蚀
  • 1篇刻蚀技术
  • 1篇光伏效应
  • 1篇SI
  • 1篇SIO
  • 1篇硅
  • 1篇DPN
  • 1篇超晶格

机构

  • 3篇浙江师范大学

作者

  • 3篇寿莎
  • 2篇黄仕华

传媒

  • 1篇表面技术
  • 1篇材料导报（纳...
  • 1篇交通节能与环...

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2008
  • 1篇2007
共 5 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
蘸水笔刻蚀技术(DPN)影响因素分析被引量：3
2007年
蘸水笔技术(Dip-Pen)是近年来发展起来的一种新的扫描探针刻蚀加工技术,有着广泛的应用前景。该技术是直接把弯曲形水层作为媒介来转移“墨汁”分子,在样品表面形成纳米结构。尖端曲率半径、针尖在基底表面滞留时间、针尖扫描速度、空气湿度、表面粗糙度等均会影响纳米结构的线宽。针尖在基底表面滞留时间与圆半径的平方成一次函数关系,线宽随着尖端半径的增大而变宽,扫描速度与线宽成反比关系。通过控制湿度可以控制“墨水”分子的转移速度,从而影响纳米结构的线宽。线宽随着样品表面粗糙度增加而变宽。
寿莎
关键词：原子力显微镜刻蚀
Si/SiO_2超晶格晶化特性影响因素分析被引量：1
2008年
Si/SiO_2超晶格是近年发展起来的一种新的Si基纳米结构,有着广阔的应用前景。该材料结构是通过选择合适的镀膜技术(如热反应蒸发、分子束外延),在衬底表面交替形成Si/SiO_2纳米薄膜,对该结构热处理后形成Si/SiO_2纳米结构。衬底温度、衬底材料、沉积薄膜厚度、应用的退火过程等均会影响超晶格中纳米Si的形成。具体分析了上述因素对形成纳米Si的影响。
寿莎黄仕华
关键词：纳米SI退火
对太阳能电池研究进展的探究被引量：6
2009年
太阳电池是一种对光有响应并能将光能转换成电力的器件。文章主要从太阳能电池的发展历程,太阳能电池的最新进展两个方面来研究太阳能电池。
寿莎黄仕华
关键词：太阳能电池硅光伏效应
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