靳秀芳 作品数:14 被引量:9 H指数:2 供职机构: 中国科学院上海技术物理研究所 更多>> 发文基金: 上海市科学技术委员会资助项目 江苏省教委自然科学基金 更多>> 相关领域: 电子电信 理学 机械工程 更多>>
带有井伸电极的碲镉汞红外光电导探测器 本发明公开了一种带有井伸电极的碲镉汞红外光电导探测器,该器件的特征是:在光敏元的二侧各有一个通过离子刻蚀至衬底的圆洞,圆洞内依次镀有铬金属层和黄金层,其总高度与光敏元的高度齐平。在黄金层上再依次镀上铟金属层和黄金层,该铟... 朱龙源 王平 刘诗嘉 陈江峰 靳秀芳 龚海梅 李向阳文献传递 Au/CdTe+ZnS/HgCdTe双层介质膜MIS器件的制备及研究 2001年 通过介质膜 Zn S、Cd Te薄膜材料的 Ar+ 束溅射沉积研究 ,结合 Hg Cd Te器件工艺 ,成功制备了以 Zn S、Cd Te双层介质膜为绝缘层的 Hg Cd Te MIS器件 ;通过对器件的 C- V特性实验分析 ,获得了 Cd Te/ Hg Cd Te界面电学特性参数 .实验表明 :溅射沉积介质膜 Cd Te+Zn S对 Hg Cd Te的表面钝化已经可以满足 Hg Cd 周咏东 方家熊 李言谨 龚海梅 吴小山 靳秀芳 汤定元关键词:HGCDTE 红外焦平面 MIS器件 碲化镉 低真空退火对GaN MSM紫外探测器伏安特性的影响 被引量:6 2005年 利用金属有机化学气相沉积生长的非故意掺杂GaN单晶制备了金属-半导体-金属交叉指型肖特基紫外探测器。用肖特基势垒的热电子发射理论研究了低真空下不同热退火条件对器件伏安特性的影响。Au-GaN肖特基势垒由退火前的0.36eV升高到400℃0.5h的0.57eV,退火延长为1h势垒反而开始下降。分析结果表明:由工艺造成的填隙Au原子引入的缺陷是器件势垒偏低的主要原因,Au填充N空位形成了施主型杂质是退火后势垒升高的主要原因。 亢勇 李雪 肖继荣 靳秀芳 李向阳 龚海梅 方家熊关键词:GAN 伏安特性 退火 肖特基势垒 电流冲击对长波光导MCT探测器的影响 2006年 对长波光导MCT红外探测器进行了大电流长时间的冲击,对比了冲击前后探测器的电阻温度特性,并用该参数研究了器件的电学参数;测量了冲击前后探测器的黑体性能变化、响应光谱以及少子寿命.实验结果显示:短时间(42mA,70h)的电流冲击对探测器性能影响不大,探测器组分减小,截止波长变长;冲击时间长到(42mA,100h)一定程度后,探测器性能有不同程度的下降,组分变大,截止波长变短.这是因为电流产生的热效应加强了Hg扩散效应,从而使器件截止波长发生变化. 刘大福 吴礼刚 徐国森 章连妹 靳秀芳 龚海梅关键词:电流冲击 MCT 光导探测器 响应光谱 少子寿命 GaN紫外探测器的Ti/Al接触界面的电学特性研究 本文利用伏安特性和传输线模型研究了不同退火条件下GaN紫外探测器的Ti/GaN接触的电学特性,利用热电子发射理论研究了反偏Ti/GaN界面的肖特基势垒,结果表明肖特基势垒高度和比接触电阻随退火温度的升高而下降,600℃退... 李雪 亢勇 陈江峰 靳秀芳 朱龙源 李向阳 龚海梅 方家熊关键词:传输线模型 比接触电阻 隧穿电流 文献传递 真空热退火对GaN金属—半导体—金属肖特基紫外探测器伏安特性的影响 利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长的非故意掺杂GaN单晶制备了金属-半导体-金属(MSM)交叉指型肖特基紫外探测器.研究了真空热退火对器件伏安特性的影响.结果分析表明Au填充N定位形成了施主型杂质是退火后势垒升高... 亢勇 李雪 肖继荣 靳秀芳 李向阳 龚海梅 方家熊关键词:伏安特性 肖特基势垒 紫外探测器 文献传递 热电致冷型多波段红外探测器 本实用新型公开了一种主要用于红外气体分析仪器和红外气体报警的热电致冷型多波段红外探测器,该探测器包含:管座和带红外窗口的管帽构成中间充惰性气体的管壳,管座底有多个信号引出脚和一个抽气口,管帽外有一带汇聚透镜的套筒,管座内... 龚玮 邱惠国 靳秀芳 章莲妹 王继元文献传递 带有井伸电极的碲镉汞红外光电导探测器 本发明公开了一种带有井伸电极的碲镉汞红外光电导探测器,该器件的特征是:在光敏元的二侧各有一个通过离子刻蚀至衬底的圆洞,圆洞内依次镀有铬金属层和黄金层,其总高度与光敏元的高度齐平。在黄金层上再依次镀上铟金属层和黄金层,该铟... 朱龙源 王平 刘诗嘉 陈江峰 靳秀芳 龚海梅 李向阳文献传递 长线列红外探测器杜瓦组件的布线结构及其连接方法 本发明公开了一种长线列红外焦平面探测器微型杜瓦组件的布线结构及其连接方法,它适用于对拼接式长线列红外焦平面探测器芯片的杜瓦封装。长线列红外焦平面探测器微型杜瓦组件的布线结构包括长线列红外探测器芯片、杜瓦的冷平台、两种通用... 王小坤 朱三根 张亚妮 曾智江 吴家荣 靳秀芳文献传递 CdTe的溅射生长及其对n-HgCdTe光导器件的表面钝化 Ar<'+>束溅射沉积技术进行了CdTe介质膜对n-HgCdTe光导器件进行了表面钝化。对器件的性能分析结果表明:这里得到的cdTe/HgCdTe界面质量已经可以达到器件实用化水平。 周咏东 方家熊 靳秀芳 王继元 汤定元关键词:CDTE HGCDTE