郑丁杰
- 作品数：9 被引量：0H指数：0
- 供职机构：合肥工业大学更多>>
- 相关领域：一般工业技术化学工程更多>>
- 硅与玻璃的阳极键合技术制作尺寸可控的标准漏孔
- 本发明公开了一种硅与玻璃的阳极键合技术制作尺寸可控的标准漏孔的方法，首先在预处理过的硅片上涂覆一层光刻胶，经全息曝光及ICP浅刻蚀技术在硅片上获得光栅图案。然后在硅片上涂覆一层光刻胶，经湿法腐蚀技术在硅片上获得深槽结构。...
- 王旭迪赵永恒尉伟邱克强朱爱青董栋郑丁杰桑艾霞朱郑乔若
- 文献传递
- 纳米银墨水的液桥转印技术研究
- 2014年
- 本文利用液桥转印技术将填充于聚二甲基硅氧烷(PDMS)模板沟槽内的纳米银墨水经烧结固化后转印到玻璃基底表面形成微结构图形。研究了金属微结构在转印过程中的图形断裂和线条展宽等缺陷产生的原因。实验结果表明,液桥毛细作用力的存在可以大幅提高图形转印成功率;降低烧结温度和缩短烧结时间有利于提高银线微结构的连续性,而升高烧结温度和增加烧结时间有利于提高纳米银墨水的固化程度,从而抑制线条展宽进而提高透射率。综合考虑这两方面因素,优化了工艺参数,改善了银线微结构的断裂情况,并且使其具有较高的转印精度和透射率。
- 王时飞李鑫郑丁杰王旭迪
- 关键词：透射率
- 硅与玻璃的阳极键合技术制作尺寸可控的标准漏孔
- 本发明公开了一种硅与玻璃的阳极键合技术制作尺寸可控的标准漏孔的方法，首先在预处理过的硅片上涂覆一层光刻胶，经全息曝光及ICP浅刻蚀技术在硅片上获得光栅图案。然后在硅片上涂覆一层光刻胶，经湿法腐蚀技术在硅片上获得深槽结构。...
- 王旭迪赵永恒尉伟邱克强朱爱青董栋郑丁杰桑艾霞朱郑乔若
- 文献传递
- 一种薄膜渗透仪及其测量方法
- 一种薄膜渗透仪及其测量方法属于化学工程技术领域，它涉及测量薄膜对气体渗透率的装置及其测量方法，本发明的目的是要解决现有测量薄膜对气体渗透率的方法存在漏放气和环境温度波动影响导致测量结果精确度低和测量过程复杂的问题，装置包...
- 王旭迪董栋尉伟杨丹朱郑乔若郑丁杰桑艾霞郑梦瑜
- 文献传递
- 基于紫外固化胶/PMMA双层胶转印技术的微纳结构制作
- 2016年
- 本文基于聚二甲基硅氧烷(PDMS)微结构图章的转印技术将紫外固化胶图形转移到PMMA基底上,形成紫外固化胶/PMMA双层胶结构,用等离子刻蚀(RIE)后,得到具有内切结构的光刻胶掩膜,镀金属膜并去胶获得周期性微纳结构。由于界面间粘附能的差异,紫外固化胶图形可以在无粘附剂辅助下成功转移到PMMA基底上。比较PMMA和这种紫外固化胶在氧气等离子中的刻蚀速率,表明紫外固化胶在氧气等离子体中具有高抗刻蚀性,有利于底层的PMMA形成去胶所需的内切结构。
- 郑丁杰陶伟魏本猛王旭迪
- 关键词：转印技术刻蚀速率
- 一种薄膜渗透仪及其测量方法
- 一种薄膜渗透仪及其测量方法属于化学工程技术领域，它涉及测量薄膜对气体渗透率的装置及其测量方法，本发明的目的是要解决现有测量薄膜对气体渗透率的方法存在漏放气和环境温度波动影响导致测量结果精确度低和测量过程复杂的问题，装置包...
- 王旭迪董栋尉伟杨丹朱郑乔若郑丁杰桑艾霞郑梦瑜
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- 一种分子流标准漏孔及其制作方法
- 本发明涉及一种分子流标准漏孔及其制作方法。本发明的目的是为了解决现有技术中标准漏孔无法保证在大气压强范围内处于分子流状态，漏率大小可控性差，难以获得预定的漏率大小且制作过程复杂等问题。本发明所提供的标准漏孔，其结构包括第...
- 王旭迪朱爱青尉伟邱克强赵永恒董栋郑丁杰桑艾霞朱郑乔若
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- 一种分子流标准漏孔及其制作方法
- 本发明涉及一种分子流标准漏孔及其制作方法。本发明的目的是为了解决现有技术中标准漏孔无法保证在大气压强范围内处于分子流状态，漏率大小可控性差，难以获得预定的漏率大小且制作过程复杂等问题。本发明所提供的标准漏孔，其结构包括第...
- 王旭迪朱爱青尉伟邱克强赵永恒董栋郑丁杰桑艾霞朱郑乔若
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- 基于聚氨酯丙烯酸酯(PUA)的微纳米转印技术研究
- 微纳米转印技术作为非传统微纳米加工技术，己广泛地用于制备微光电器件，如:太阳能电池电极，发电二极管，光伏转换单元等。本文利用聚合物材料聚氨酯丙烯酸酯(PUA)与聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，制备周期性的微纳米双层胶结构，...
- 郑丁杰
- 关键词：聚氨酯丙烯酸酯
- 文献传递
