您的位置: 专家智库 > >

邵刚

作品数:13 被引量:13H指数:3
供职机构:中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划中国科学院重点实验室基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 3篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 10篇电子电信

主题

  • 9篇ALGAN/...
  • 5篇HEMTS
  • 4篇微波功率
  • 4篇HEMT
  • 3篇电镀
  • 2篇镀层
  • 2篇制作方法
  • 2篇金属
  • 2篇功率
  • 2篇
  • 2篇ALGAN
  • 2篇GAN
  • 1篇氮化镓
  • 1篇倒扣
  • 1篇增益
  • 1篇欧姆接触
  • 1篇桥面
  • 1篇热阻
  • 1篇微波
  • 1篇微波性能

机构

  • 13篇中国科学院微...
  • 2篇中国科学院

作者

  • 13篇邵刚
  • 12篇刘新宇
  • 12篇和致经
  • 8篇刘键
  • 7篇吴德馨
  • 6篇陈晓娟
  • 3篇魏珂
  • 2篇孙海峰
  • 2篇刘健
  • 2篇王晓亮
  • 2篇陈宏
  • 1篇汪锁发
  • 1篇周钧铭

传媒

  • 3篇Journa...
  • 3篇电子器件
  • 2篇第十三届全国...
  • 1篇第十二届全国...

年份

  • 1篇2007
  • 5篇2005
  • 6篇2004
  • 1篇2003
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
蓝宝石衬底AlGaN/GaN功率HEMTs研制被引量:4
2004年
基于蓝宝石衬底的高微波特性 Al Ga N/Ga N HEMTs功率器件 ,器件采用了新的欧姆接触和新型空气桥方案。测试表明 ,器件电流密度 0 .784A/mm,跨导 1 97m S/mm,关态击穿电压 >80 V,截止态漏电很小 ,栅宽 1 mm的器件的单位截止频率 ( f T)达到 2 0 GHz,最大振荡频率 ( fmax) 2 8GHz,2 GHz脉冲测试下 ,栅宽 0 .75 mm器件 ,功率增益1 1 .8d B,输出功率 3 1 .2 d Bm,功率密度 1 .75 W/mm。
邵刚刘新宇和致经刘键魏珂陈晓娟吴德馨
关键词:ALGAN/GANHEMT微波功率
AlGaN/GaN共栅共源HEMTs器件被引量:1
2004年
研究了蓝宝石衬底 Al Ga N/Ga N共栅共源器件的特性。该器件包括栅长 0 .8μm共源器件与栅长 1 μm的共栅器件。研究表明 ,共栅共源器件的第二栅压对的器件饱和电流与跨导有明显的调制作用 ,容易实现功率增益控制。与共源器件相比 ,共栅共源器件在微波特性上 f T 大约 9GHz,比共源器件稍小 ,但是具有较低的反馈 ,显著增加的功率资用增益及较高的端口阻抗 ,与共源器件相比 ,稳定性更好 ,可以避免振荡的产生 ,结合 Ga N的高功率特性 Ga
邵刚刘新宇刘键和致经
关键词:HEMTS微波功率增益
AlGaN/GaN功率HEMTs稳定性分析
本文对基于蓝宝石衬底的AlGaN/GaN HEMTs功率器件自激振荡现象进行了分析,器件的反向增益对器件的稳定性影响较大,稳定性的提高需要从改善封装质量、优化器件设计等方面综合考虑.
邵刚刘新宇和致经刘键陈晓娟吴德馨
关键词:ALGAN/GAN微波功率功率器件晶体管
文献传递
基于FC技术的AlGaN/GaN HEMT被引量:5
2005年
采用FC技术将管芯倒扣至AlN基板散热的AlGaN/GaN HEMTs,并通过热阻模型分析了FC方式的散热机理.从测试结果看,器件的热阻可大幅降到14 .9K·mm/W,直流特性明显增加,饱和电流提高33%.表明采用FC技术有效改善了器件散热,而且引入的寄生电感较小,可获得更大输出功率.如果进一步完善频率特性的优化,可以加快FC技术的AlGaN/GaN大功率HEMT器件的实用化进程.
陈晓娟刘新宇邵刚刘键和致经汪锁发吴德馨
关键词:ALGAN/GANHEMTFC热阻
复合胶电镀制作空气桥的方法
一种复合胶电镀制作空气桥的方法,其特征在于,包括如下步骤:1)在基片上涂复合胶,光刻桥墩;2)高温烘烤,使复合胶边角圆滑;3)在复合胶上溅射起镀层;4)在起镀层上涂二次光刻胶,光刻桥面;5)光刻桥面后在起镀层上电镀金属;...
邵刚刘新宇和致经刘键吴德馨
文献传递
Cascode Connected AlGaN/GaN Microwave HEMTs on Sapphire Substrates
2004年
Fabrication and characteristics of cascade connected AlGaN/GaN HEMTs grown on sapphire substrates are reported.The circuit employs a common source device,which has a gate length of 0.8μm cascode connected to a 1μm common gate device.The second gate bias will not only remarkably affect saturated current and transconductance,but also realize power gain control.Cascode device exhibits a slight lower of f T,a less feedback,a largely greater of maximum available gain and a higher impedance compare to that of common source device.
邵刚刘新宇和致经刘健吴德馨
关键词:CASCADEALGAN/GANHEMTSSAPPHIRE
高性能1mm AlGaN/GaN功率HEMTs研制被引量:5
2005年
报道了基于蓝宝石衬底的高性能 1mmAlGaN/GaNHEMTs功率器件 .为了提高微波功率器件性能 ,采用新的欧姆接触和新型空气桥方案 .测试表明 ,器件电流密度为 0 784A/mm ,跨导 197mS/mm ,击穿电压大于 4 0V ,截止态漏电较小 ,1mm栅宽器件的单位截止频率达到 2 0GHz,最大振荡频率为 2 8GHz ,功率增益为 11dB ,功率密度为 1 2W/mm ,PAE为 32 % 。
邵刚刘新宇和致经刘键魏珂陈晓娟吴德馨王晓亮陈宏
关键词:ALGAN/GANHEMT微波功率
采用PECVD方法制作SiO2绝缘层的AlGaN/GaNMOS-HFET器件被引量:1
2005年
为了进一步减小栅漏电,提高击穿电压,将MOS结构的优点引入ALGaN/GaNHEMT器件中,研制并分析了新型的基于AlGaN/GaN的MOS-HFET结构。采用等离子增强气相化学沉积(PECVD)的方法生长了50nm的SiO2作为栅绝缘层,新型的AlGaN/GaNMOS-HFET器件栅长1μm,栅宽80μm,测得最大饱和输出电流为784mA/mm,最大跨导为44.25ms/mm,最高栅偏压+6V。
陈晓娟刘新宇和致经刘键邵刚魏珂吴德馨王晓亮周钧铭陈宏
关键词:ALGANGANSIO2
C波段AlGaN/GaN功率HEMT器件研究
AlGaN/GaN功率晶HEMT具备大电流,高击穿电压,耐高温,高功率密度,高效率的特性,同时又有很好的微波特性,应用领域覆盖2-40GHz大功率领域.本论文对AlGaN/GaN功率器件的设计,工艺,测试,封装进行了研究...
邵刚
关键词:氮化镓HEMT倒扣微波功率
AlGaN/GaN 器件的欧姆接触
GaN器件以其大电流,高击穿电压,良好的微波性能在微波功率领域有着广阔的应用前景.欧姆接触对功率器件的性能影响很大,因此宽禁代半导体材料上的欧姆接触被广泛研究.本文探讨采用Ti/Al/Ti/Au合金体系在不同条件下在Al...
邵刚刘健刘新宇和致经
关键词:GAN欧姆接触GAN器件微波性能ALGAN
文献传递
共2页<12>
聚类工具0