汤兆胜
- 作品数：38 被引量：149H指数：6
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：上海市科学技术委员会资助项目国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信机械工程更多>>
- 非尖锐界面多层膜对软X光衍射研究
- 1999年
- 本文研究超薄膜情况下，提出一个新物理模型，研究膜系内密度呈周期性连续变化时X射线正入射衍射强度理论计算，并由此得到水窗波段超薄膜设计参数，与用光学常数得到的参数非常一致．理论上推出一个质量密度呈余弦变化的多层膜仍然有高的软X光反射率．
- 冯仕猛易葵赵强汤兆胜范正修
- 关键词：多层膜
- 真空室内在线更换基片的装置
- 一种真空室内实现在线更换基片的装置，包括由空心转轴和同心置放在空心转轴内的实心转轴构成的转轴。当空心转轴与实心转轴由两顶丝固定在一起时，带动基片夹具与挡板一起转动。当两顶丝松开时，空心转轴与实心转轴分别带动基片夹具和挡板...
- 齐红基汤兆胜易葵邵建达袁景梅范正修
- 文献传递
- 高温金属舟及其镀制掺锡氧化铟透明导电膜的方法
- 一种高温金属舟及其镀制掺锡氧化铟透明导电膜的方法，该高温金属蒸发舟采用经900－－1200℃高温退火处理后的钽片制作的，为长方舟，其尺寸和结构的比例关系为：蒸发舟的总长度，包括两翅片为(88±3)mm，舟槽的长、深、宽分...
- 徐学科范正修汤兆胜邵建达
- 文献传递
- 组分和应力不均匀分布对薄膜铁电性的影响被引量：4
- 2000年
- 采用组合靶射频溅射的方法、制备后慢速降温的途径在（１１１）Ｓｉ基板上制备出了成膜较好的 ＰｂＴｉＯ３薄膜。通过测试分析发现在薄膜中形成了一个缓解应力的过渡层，薄膜中的Ｐｂ、Ｔｉ组分比沿着薄膜生长的方向成非线性增长，并在薄膜表面形成一个富Ｐｂ层，薄膜的Ｃ－Ｖ特性曲线中存在负方向的位移和畸变。结合实验结果对薄膜的生长机理进行了探讨，并且对薄膜中的应力和不均匀分布的组分对薄膜铁电特性的影响进行了理论上的分析，而且与实验取得了一致的结果。
- 赵强汤兆胜冯仕猛范正修
- 关键词：应力铁电
- 0.532μm激光小光斑扫描预处理光学薄膜的研究被引量：6
- 1999年
- 围绕着激光预处理的增强机理和具体工艺，进行了小光斑扫描处理的实验探索，对０．５３２μｍ波长预处理的实验结果进行了分析，进一步证实了激光预处理对改善光学薄膜质量、提高光学薄膜损伤阈值的有效性和可行性，并从实验角度给予了一定的分析解释。
- 胡海洋范瑞瑛汤兆胜汤兆胜鲍成芳范正修洪治
- 关键词：光学薄膜激光预处理激光损伤阈值
- 宽角度宽光谱反射膜及其制作方法
- 一种宽角度宽光谱反射膜及其制作方法，该反射膜包括玻璃基底，在玻璃基底上依次蒸镀有第一过渡层、第二过渡层、金属膜层和加强膜层。本发明的特点是采用镀制双过渡层结构，整个膜层可以耐高温耐潮解，并且膜层之间、膜层和基底之间不容易...
- 徐学科汤兆胜邵建达范正修
- 文献传递
- 高折射率材料吸收特性对193nm HfO_2/SiO_2,Y_2O_3/SiO_2,Al_2O_3/SiO_2多层膜反射特性的影响被引量：6
- 2004年
- 由单层HfO2,SiO2,Y2O3,Al2O3膜求出其折射率和消光系数色散曲线,据此计算出HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2的193nm多层膜反射膜曲线,并用电子束热蒸发的方法进行镀制。由分光光度计测量样品的透射率和绝对反射率,求出了各种膜层的吸收曲线。结果发现HfO2/SiO2,Al2O3/SiO2反射率实验结果与理论结果吻合得很好,而Y2O3/SiO2的理论曲线偏高。通过模拟Y2O3/SiO2的反射率曲线发现Y2O3的消光系数远大于由单层膜实验得出的结果。这说明Y2O3膜层的吸收特性与薄膜的制备工艺密切相关。
- 袁景梅汤兆胜易葵邵建达范正修
- 关键词：折射率消光系数
- ZrO_2/SiO_2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备被引量：3
- 2005年
- 对以K9玻璃为基底,采用ZrO2 和SiO2 为高低膜料来制备棱镜偏振膜,并进行膜系优化设计。设计指标为:波长 540nm处满足Tp>99%,Ts<1%。优化结果表明,膜系以H3L(HL)13 H3LH为最佳膜系。测试结果表明,此膜系完全满足设计指标,偏振性能优良。探讨了参考波长对偏振膜工作带宽的影响。
- 沈自才孔伟金宋永香汤兆胜范正修
- 关键词：棱镜带宽
- 宽角度宽光谱反射膜及其制作方法
- 一种宽角度宽光谱反射膜及其制作方法，该反射膜包括玻璃基底，其特征是在玻璃基底上依次蒸镀有第一过渡层、金属膜层和加强膜层。最好是在第一过渡层和金属膜层之间设有第二过渡层。本发明的特点是采用镀制双过渡层结构，整个膜层可以耐高...
- 徐学科汤兆胜邵建达范正修
- 文献传递
- 氮化钛薄膜的光学性能分析被引量：15
- 2003年
- 利用磁控溅射法 ,在不同的工艺条件下制备氮化钛薄膜。详细分析了不同工艺条件下薄膜的光谱选择特性以及相应的光学常数 ,通过俄歇电子能谱对薄膜的不同深度的元素成分进行了分析 ,由原子力显微镜测量并处理得到氮化钛薄膜的表面形貌图。结果表明 ,氮化钛薄膜的光学性能严格依赖于氮和钛原子数比 ,符合化学计量比的TiN薄膜具有良好的光谱选择性。基底加负偏压溅射可进一步改善薄膜的性能。
- 金永浩姚李英汤兆胜邵建达范正修
- 关键词：氮化钛薄膜光学性能薄膜物理学光学常数
