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江福明
作品数:
9
被引量:13
H指数:3
供职机构:
中国科学院上海硅酸盐研究所
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
电子电信
化学工程
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合作作者
殷庆瑞
中国科学院上海硅酸盐研究所
张冰阳
中国科学院上海硅酸盐研究所
杨阳
中国科学院上海硅酸盐研究所
惠森兴
中国科学院上海硅酸盐研究所
姚烈
中国科学院上海硅酸盐研究所
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年份
1篇
1998
2篇
1997
5篇
1996
1篇
1992
共
9
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扫描电子声显微镜在半导体材料分析中的应用
1996年
本文利用国际上近几年发展起来的一种新型显微成像工具──扫描电子声显微镜(SEAM-ScanningElectronAcousticMicroscope)对几种类型的半导体材料进行了电子声成像观察与研究.文中简述了扫描电子声显微镜的电子声成像机理和其工作原理.从获得的电子声图像上,反映出扫描电子声显微成像技术在对半导体材料的亚表面缺陷和掺杂分布方面有着直接观察与显示的能力.同时与相应位置所获得的二次电子像进行了比较,显示出了电子声显微成像技术的独特之处和潜在的应用价值.
张冰阳
江福明
惠森兴
杨阳
姚烈
殷庆瑞
关键词:
半导体材料
显微镜
扫描电声显微镜中干扰信号及假信号的预防
1997年
本文对扫描电声显微镜电声成像中出现的干扰信号以及假信号的产生进行了讨论.指出扫描电声显微镜设备周围存在的高强度电场、磁场、高频设备和仪器本身的接地是造成干扰信号出现的主要原因,同时给出了一种能有效防止以上干扰的样品一探测器组件结构.而在电声像中假信号产生的原因则主要是由于样品和探测器接地不当所引起.在进行电声成像观察和记录时最好关掉电镜的对比度旋钮.
张冰阳
江福明
杨阳
惠森兴
姚烈
殷庆瑞
关键词:
干扰信号
扫描电声显微镜
电子显微镜
利用SEAM技术对电畴结构的直接观察
被引量:5
1997年
利用国际上近几年发展起来的扫描电子声显微镜技术,对BaTiO3铁电陶瓷材料及其单晶进行电子声成像实验。结果表明:利用扫描电子声显微镜技术在不对样品表面进行任何处理的情况下,可以直接对电畴结构进行观察。实验结果显示出扫描电子声显微成像技术在对铁电材料的电畴结构微观分析中的优越性,为在微观领域分析研究铁电材料的电畴结构提供了一种新的观察与分析手段。
张冰阳
江福明
杨阳
惠森兴
姚烈
殷庆瑞
关键词:
扫描电子显微镜
钛酸钡陶瓷
电畴
陶瓷结构
扫描电声显微镜在涂层缺陷检测中的应用
被引量:5
1992年
本文简述了扫描电声显微镜的成像过程,说明了电声显微镜所具有的非破坏性亚表面剖面成像能力,显示了它在检测涂层中气孔、裂纹、异质相等缺陷和涂层层状结构等方面的应用.
童兆和
江福明
丁传贤
殷庆瑞
关键词:
涂层
半导和非半导性BaTiO_3陶瓷电声像衬度来源的差异
1996年
利用SEAM技术对半导和非半导性的BaTiO3陶瓷材料进行了电声成像观察研究.在半导性的这种材料电声成像中,由于掺杂的作用削弱和屏蔽了样品本身电学性能参数变化对电声像衬度的贡献,使得热波耦合机制起到主要作用;在非半导性的这种材料电声成像中,其电学性能参数的变化决定了电声像衬度的不同.
张冰阳
杨阳
江福明
惠森兴
姚烈
殷庆瑞
钱梦禄
关键词:
钛酸钡陶瓷
陶瓷材料
Si_3N_4陶瓷和ZrSiO_4复相陶瓷维氏压痕残余应力分布的扫描电子声学显微术观察
被引量:3
1998年
本文利用扫描电声显微术(SEAM)对Si3N4陶瓷和30vol%SiC(w)/ZrSiO4复相陶瓷中由维氏压痕引起的残余应力分布进行了电声显微像观察。比较了原位获得的二次电子像和电声像,表明电声像能够揭示样品的表面和亚表面的残余应力场分布。实验结果证实在陶瓷材料中由维氏压痕所引起的残余应力场是呈弹-塑性交替分布的区域,在维氏压痕的中心以及由压痕引起的裂纹对角线的端点是应力分布的集中区,同时显示SEAM技术在对陶瓷材料中残余应力场分布的研究中是一种有力的工具。
张冰阳
杨阳
江福明
施鹰
殷庆瑞
关键词:
陶瓷
复相陶瓷
残余应力
电镜
铁电半导体陶瓷材料电声成像中电声信号的产生
被引量:1
1996年
本文利用扫描电声显微镜成像技术对铁电半导体陶瓷材料进行了无损成像观察和分析。通过对不同条件下获得的电声像的讨论,得出在这种材料的电声成像中,热波耦合机制和压电耦合机制对电声信号的产生均有着贡献,但热波耦合机制占主导地位。另外扫描电声显微镜在对材料的亚表面缺陷无损观察方面有着其它观察手段所无法比拟的优点。
张冰阳
江福明
惠森兴
杨阳
姚烈
殷庆瑞
扫描电子声显微镜的成像机理及其应用
1996年
扫描电子声显微镜是近几年国际上发展起来的一种新型的显微观察与成像工具,由于它的成像机理与以往的扫描电镜完全不同,特别是它能进行非破坏性的揭示样品亚表面特性的能力,因此,正越来越多的受到人们的重视与研究.本文主要介绍了扫描电子声显微镜的发展历史,简述了电子声成像技术的基本工作原理.对电子声成像的热波理论、过剩载流子理论、压电耦合理论和磁耦合理论四种成像机理进行了较为详细的分析归纳,并指出了其适用范围.显示了电子声成像技术在金属材料,半导体材料及陶瓷材料中的应用.最后展望了电子产成像理论、技术及应用的发展趋势.
张冰阳
江福明
殷庆瑞
关键词:
SEAM
SEM
光声效应
砷化镓半导体外延层的电子声成像
1996年
本实验利用扫描电子声显微镜对CaAs半导体外延片生长缺陷进行了电子声成像。通过分析不同条件下获得的电声图像,讨论了CaAs半导体外延片在电声成像中其电声信号的产生机制。
张冰阳
江福明
殷庆瑞
惠森兴
姚烈
杨阳
高鸿楷
何益民
侯洵
关键词:
SEAM
砷化镓
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