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周仲承

作品数：2 被引量：16H指数：2
供职机构：国防科学技术大学航天与材料工程学院新型陶瓷纤维及其复合材料国家重点实验室更多>>
发文基金：武器装备预研基金中国人民解放军总装备部预研基金更多>>
相关领域：一般工业技术轻工技术与工程理学化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇低介电常数
  • 1篇电路
  • 1篇多孔
  • 1篇有序介孔
  • 1篇有序介孔材料
  • 1篇脱除
  • 1篇脱除方法
  • 1篇萃取
  • 1篇煅烧
  • 1篇模板剂
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米多孔
  • 1篇介电
  • 1篇介电常数
  • 1篇介孔
  • 1篇介孔材料
  • 1篇孔材料
  • 1篇集成电路
  • 1篇SIO2薄膜
  • 1篇ULSI

机构

  • 2篇国防科学技术...
  • 1篇国防科技大学

作者

  • 2篇成慧梅
  • 2篇高庆福
  • 2篇周仲承
  • 2篇张长瑞
  • 2篇冯坚
  • 2篇王娟

传媒

  • 2篇材料导报

年份

  • 2篇2005
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
有序介孔材料制备过程中模板剂脱除方法研究进展被引量：11
2005年
有序介孔材料孔径均一,孔道排列有序,有着巨大的应用前景。在其制备过程中,模板剂的脱除是十分重要的一个步骤。综述了模板剂的脱除方法,总结了已经出现的几种工艺,指出了脱除过程中的关键问题及改进的方向。
周仲承冯坚成慧梅张长瑞高庆福王娟
关键词：有序介孔材料模板剂煅烧萃取脱除方法
纳米多孔SiO_2薄膜疏水性的研究进展被引量：5
2005年
超低介电常数纳米多孔 SiO_2薄膜在未来超大规模集成电路(ULSI)中有着广阔的应用前景,但其疏水性能的好坏是决定其能否在 ULSI 中应用的重要因素之一。介绍了国内外有关纳米多孔 SiO_2薄膜疏水性的原理、工艺以及表征方法。
高庆福冯坚成慧梅周仲承王娟张长瑞
关键词：纳米多孔SIO2薄膜低介电常数超大规模集成电路超低介电常数ULSI
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