陈吉星
- 作品数:12 被引量:6H指数:1
- 供职机构:深圳大学更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金深圳市科技计划项目教育部留学回国人员科研启动基金更多>>
- 相关领域:理学环境科学与工程自动化与计算机技术电子电信更多>>
- 一种控温调色软瓷砖及其制备工艺
- 本发明公开了一种控温调色软瓷砖,坯体层的混合原料包括如下组份:纤维素0.3‑1.8%;高分子聚合物粉5‑15%;碳酸钙25‑35%;石英砂40‑55%。本发明还公开了一种控温调色软瓷砖的制备工艺,其包括:A.坯体层,缓冲...
- 罗俊旋汤皎宁谷坤明陈吉星
- 文献传递
- 脉冲激光沉积法制备MgzZn1-zO薄膜及其性能测定
- @@ZnO是一种直接带隙的半导体材料,通过Mg的掺杂可调节其禁带宽度(从3.3 eV至7,8 eV),从而使得MgxZn1-xO成为紫外探测器的重要候选材料。本文采用Mg0.2Zn0.8O陶瓷钯,通过脉冲激光沉积(PLD...
- 朱德亮陈吉星曹培江贾芳柳文军马晓翠吕有明
- 文献传递网络资源链接
- 退火对Co掺杂ZnO薄膜电磁性能的影响
- 2008年
- 采用磁控溅射技术,制备了Co掺杂ZnO薄膜,然后将样品分别在O2和N2气氛下以不同的温度进行退火处理;用X射线衍射图分析薄膜的结构,采用四探针法测量薄膜的方块电阻,利用振动样品磁强计测量薄膜的磁性能。结果表明,样品在退火温度较低(<300℃)时,电阻稍有下降;当温度升高到400℃时,电阻大幅度上升,而且O2气氛下退火比N2下升高幅度大得多。同一温度下,样品在O2气氛下退火的最大磁化强度比在N2气氛下退火的要低;同一退火气氛下,样品的最大磁化强度随退火温度的升高而降低,这是由于不同气氛和温度下退火时,薄膜中氧空位浓度发生变化,从而导致其电磁性能的差异。
- 陈吉星朱德亮李清华马晓翠贾芳曹培江吕有明
- 关键词:磁控溅射退火铁磁性电磁性能
- 高Mg组份MgxZn1-xO合金薄膜制备及光学性质的研究
- 本论文利用脉冲激光沉积法,选用Mg0.2Zn0.8O陶瓷靶,在单晶Si(111)和石英衬底上生长了MgxZn1-xO合金薄膜.通过改变衬底温度、氧气流量、工作压强和基靶间距等实验参数,研究不同制备工艺对薄膜结晶质量和光学...
- 吕有明朱德亮陈吉星曹培江贾芳柳文军马晓翠
- 高镁含量六方相MgZnO薄膜及其制备方法
- 本发明公开了一种六方相MgZnO薄膜及其制备方法,在缺氧气氛下,采用低Mg掺杂浓度的MgZnO陶瓷靶进行脉冲激光沉积,在衬底上沉积得到高Mg掺杂浓度的六方相MgZnO薄膜。其在PLD技术中利用缺氧导致的非平衡生长过程,可...
- 吕有明朱德亮曹培江马晓翠柳文军贾芳陈吉星
- 文献传递
- 利用脉冲激光沉积法制备高Mg掺杂的六方相MgZnO薄膜被引量:6
- 2010年
- 选用Mg0.2Zn0.8O陶瓷靶,利用脉冲激光沉积(PLD)法,在单晶Si(100)和石英衬底上生长了一系列MgZnO薄膜(MZO)。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDS)和紫外可见光透射光谱(UV-Vis)等实验手段,研究了在不同工作压强下生长的薄膜样品的晶体结构、微观形貌和光学性能的变化。结果表明:所有的薄膜样品都是单一的ZnO六方相,禁带宽度随生长压强的升高而增加,变化范围在3.83~4.05eV之间,最短吸收边接近300nm。
- 朱德亮陈吉星曹培江贾芳柳文军马晓翠吕有明
- 关键词:脉冲激光沉积光学性能
- 一种变色软瓷砖及其制备工艺
- 本发明公开了一种变色软瓷砖,包括坯体层和色面层,其特征在于,所述的坯体层的混合原料包括如下组份:纤维素0.3‑1.8%;高分子聚合物粉5‑15%;碳酸钙25‑35%;石英砂40‑55%。本发明还公开了一种变色软瓷砖的制备...
- 罗俊旋汤皎宁谷坤明陈吉星
- 文献传递
- 一种自清洁软瓷砖及其制备方法
- 本发明公开了一种带自清洁的软瓷砖,包括砖坯层和砖面层,该砖坯层的组成为:纤维素0.3‑1.8%;高分子聚合物粉5‑15%;碳酸钙25‑35%;石英砂40‑55%;该砖面层的原料由TiO2粉和纤维素粉配成,比例为0.1~0...
- 罗俊旋汤皎宁谷坤明陈吉星
- 文献传递
- 退火对Co掺杂ZnO薄膜电磁性能的影响
- 采用磁控溅射技术,制备了Co掺杂ZnO薄膜,然后将样品分别在O和N气氛下以不同的温度进行退火处理;用X射线衍射图分析薄膜的结构,采用四探针法测量薄膜的方块电阻,利用振动样品磁强计测量薄膜的磁性能。结果表明,样品在退火温度...
- 陈吉星朱德亮李清华马晓翠贾芳曹培江吕有明
- 关键词:磁控溅射退火铁磁性电磁性能
- 文献传递
- 脉冲激光沉积法制备MgxZn1-xO薄膜及其性能测定
- ZnO是一种直接带隙的半导体材料,通过Mg的掺杂可调节其禁带宽度,从而使得MgxZn1-xO成为紫外探测器的重要候选材料。本文采用Mg0.2Zn0.8O陶瓷钯,通过脉冲激光沉积(PLD)法,在单晶Si(100)和石英衬底...
- 朱德亮陈吉星曹培江贾芳柳文军马晓翠吕有明
- 关键词:脉冲激光沉积半导体材料氧化锌合金薄膜光学性质