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王申典

作品数:4 被引量:2H指数:1
供职机构:成都科技大学更多>>
相关领域:电子电信理学化学工程更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇理学

主题

  • 2篇异氰尿酸
  • 2篇异氰尿酸酯
  • 2篇酸酯
  • 2篇氰尿酸
  • 1篇性能研究
  • 1篇异氰酸
  • 1篇异氰酸酯
  • 1篇印制板
  • 1篇制板
  • 1篇水溶
  • 1篇水溶性
  • 1篇氰酸
  • 1篇氰酸酯
  • 1篇热风整平
  • 1篇中膜
  • 1篇紫外
  • 1篇紫外光
  • 1篇紫外光固化
  • 1篇烷基苯
  • 1篇氯化

机构

  • 4篇成都科技大学
  • 1篇杭州市化工研...

作者

  • 4篇王申典
  • 2篇谈天
  • 2篇李忠福
  • 2篇谢川
  • 1篇何平
  • 1篇刘玉书

传媒

  • 2篇杭州化工
  • 1篇电子工艺技术
  • 1篇印制电路信息

年份

  • 2篇1994
  • 1篇1992
  • 1篇1990
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
水溶性耐热预焊剂研究
1994年
前言 印制电路板随电予产品朝轻、薄、短、小化,多功能化发展,而向高密度化、小孔化,薄型化,多层化发展。线宽0.075—0.125mm,线间距0.100—0.200mm,厚度0.400—0.800mm的印制电路板需求量近年来陡增。像此类高密度、薄型化印制电路板采用“SMOBC”工艺进行热风整平技术存在如下问题。 (一)由于板薄,受热风整平的热冲击而产生翘曲。不利于表面贴装(SMT)的进行。 (二)受热风整平的热冲击,细线条容易断裂,造成断路。 (三)由于线间距小,热风整平时容易产生桥接,形成短路。 (四)
王申典谢川刘玉书
关键词:热风整平烷基苯印制板氯化铜浸涂中膜
三(丙烯酰氧乙基)异氰尿酸酯)(TAEIC)——紫外光固化性能研究(Ⅱ)
1992年
本文采用差示扫描量热法(DSC)研究了TAEIC的紫外光固化性能和固化机理,所得实验结果与用红外光谱法揭示的规律相符。比较了不同光引发剂存在下TAEIC贮存稳定性,用热重量测量法(TG)研究了TAEIC光固化膜的热稳定性能,在400℃以下TAEIC光固化膜是稳定的。
何平李忠福王申典谈天
关键词:异氰酸酯光固化紫外光
三(丙烯酰氧乙基)异氰尿酸酯(TAEIC)的结构分析
1990年
本文在进行三(丙烯酰氧乙基)异氰尿酸酯[Tris(acryloyloxyethyl)isocyanurate]合成研究的基础上,用傅立叶红外、紫外、核磁共振、色谱、质谱及元素分析等方法分离并证实了合成产物的组成与结构,结果表明,两步法合成产物主要由 TAEIC 组成。并用核磁共振法测定了产物酯化度为99%。
何平李忠福谈天王申典
水溶性耐热型预焊剂研究被引量:2
1994年
以烷基苯并咪唑为有效成分的水溶性耐热型预焊剂,是近年来开发研制出来的适用于SMOBC(裸铜覆阻焊膜)工艺的新型预焊剂。本文研究了该类预焊剂的组成及温度、浸涂时间、酸度等浸涂条件对预焊剂性能的影响,并对用此类预焊剂处理过的印制板进行了潮湿试验和可焊性试验。实验结果表明:该预焊剂应用工艺简便,对铜的抗热氧化及可焊性优良,完全可以满足焊接工艺要求,有良好的推广应用前景。
王申典谢川刘玉书
关键词:水溶性
共1页<1>
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