王珣
- 作品数:8 被引量:13H指数:3
- 供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金:国家科技重大专项更多>>
- 相关领域:理学机械工程核科学技术更多>>
- 具有热稳定性及抗辐照损伤的极紫外多层膜
- 本发明公开了一种具有热稳定性及抗辐照损伤的极紫外多层膜,属于极紫外光刻技术领域。解决了现有技术中的极紫外多层膜在长时间的高能量激光辐照和高能光子轰击下,极紫外波段的反射率严重下降的技术问题。本发明的极紫外多层膜,从下至上...
- 喻波王珣姚舜靳京城
- 文献传递
- 具有极紫外光谱纯度及热稳定性的多层膜
- 本发明公开了一种具有极紫外光谱纯度及热稳定性的多层膜,属于极紫外光刻技术领域。解决了现有技术中极紫外多层膜在带外波段的反射率比较高,在高能光子长时间轰击下,极紫外波段的反射率严重下降的技术问题。本发明的多层膜从下至上依次...
- 喻波王珣姚舜靳京城
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- 具有极紫外光谱纯度和抗辐照损伤的多层膜
- 本发明公开了一种具有极紫外光谱纯度和抗辐照损伤的多层膜,属于极紫外光刻技术领域。解决了现有技术中极紫外多层膜在带外波段的反射率比较高,在高能量激光辐照下,极紫外波段的反射率严重下降的技术问题。本发明的多层膜从下至上依次包...
- 喻波王珣姚舜靳京城
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- 极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征被引量:4
- 2015年
- 极紫外(EUV)反射镜在使用过程中的氧化及表面碳污染沉积,严重影响了极紫外光刻(EUVL)技术的工业应用。为了延长EUV反射镜的稳定性与使用寿命,一般采取在Mo/Si多层膜表面添加保护层。采用直流反应磁控溅射技术,建立氧气流量与溅射电压之间的"迟滞回线"关系,进而准确掌握不同氧化物保护层所需氧气量,以此减少过多的活性氧对下层Mo/Si多层膜的影响,提高镜面的反射率。选用Ru O2与Ti O2两种保护层材料进行比较,根据充氧量的不同,分析不同反应阶段的薄膜特性。针对催化性和物理稳定性更好的Ti O2薄膜,在晶相、表面粗糙度、截面均匀性和化学组分等方面给予评价。研制出膜质致密均匀的非晶态Ti O2薄膜,其表面粗糙度优于100 pm;Ti O2纯度(质量分数)达97.2%;保护层厚度为2 nm的Mo/Si多层膜的反射率损失小于5%,满足EUV外多层膜的基本要求。
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- 关键词:直流反应磁控溅射迟滞回线
- 高分辨飞行时间质谱仪的原理及设计被引量:4
- 1998年
- 讨论了影响飞行时间质谱仪分辨率的因素,包括基质辅助激光解吸离子化所产生的对分辨率的影响因素。参照近代文献资料,提出了自行设计制造的飞行时间质谱仪的基本设计方案,指出这种仪器在我国的应用前景。
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- 关键词:飞行时间质谱仪TOFMS分辨率
- 极紫外光辐照下表面碳沉积污染的计算模型被引量:3
- 2014年
- 极紫外光刻(EUVL)是最有可能实现22 nm技术节点的下一代光刻技术。极紫外(EUV)光刻系统使用波长为13.5 nm,在此波段下曝光设备只能采用全反射式系统。然而,在极紫外光辐照下的光学元件,薄膜表层的碳化和氧化是导致EUV反射膜反射率下降的两种主要机制。结合EuV光学器件的表面分子动力学理论,研究碳沉积层的作用机理,以便找到抑制污染沉积的有效方法。通过针对碳污染层模型的计算研究,验证了模型和假设的有效性,从侧面证明了Boiler等的“二次电子诱导分解是主要沉积过程”理论。通过迭代法模拟了控制污染的几个关键参数对沉积层的影响,得到50~80 nm的非工作波段产生的碳沉积最为严重的计算结果。
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- 关键词:极紫外光刻迭代法
- 一种提高了极紫外光谱纯度及抗氧化性的多层膜
- 本发明涉及一种提高了极紫外光谱纯度及抗氧化性的多层膜,属于极紫外光刻领域。该多层膜在保证13.5nm处的反射率损失不大的前提下,使带外波段的反射率、多层膜氧化及表层碳污染沉积得到有效的抑制。该多层膜依次包括:基底、多个层...
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- 极紫外光学器件辐照污染检测技术被引量:4
- 2014年
- 总结并讨论了极紫外光刻技术中,有关极紫外光学器件受辐照污染的"在线"检测方法。简要介绍了极紫外光刻系统的原理、反射镜膜层结构以及表面污染产生的机理;指出光刻系统中"在线"检测的技术要求;分析了目前几种主要表面检测技术的特点;给出了每种方法在极紫外光学系统中的应用潜力;最后,指出光纤椭偏仪在极紫外光学系统的"在线"表面污染检测中具有良好的应用前景。
- 王珣金春水匡尚奇喻波
- 关键词:极紫外光刻