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时成瑛

作品数：4 被引量：5H指数：1
供职机构：中国科学院物理研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇氮化
  • 3篇氮化铝
  • 2篇氮化铝薄膜
  • 2篇栅极
  • 2篇栅极结构
  • 2篇金膜
  • 2篇硅衬底
  • 2篇长径比
  • 2篇衬底
  • 1篇低维
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇离子束
  • 1篇聚焦离子束
  • 1篇溅射
  • 1篇场发射
  • 1篇场致发射
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 4篇中国科学院

作者

  • 4篇时成瑛
  • 3篇罗强
  • 3篇李俊杰
  • 3篇金爱子
  • 3篇顾长志
  • 3篇杨海方
  • 2篇李云龙
  • 1篇全保刚
  • 1篇徐鹏
  • 1篇岳双林
  • 1篇王宗利
  • 1篇黄阳
  • 1篇王强

传媒

  • 1篇物理

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2009
  • 2篇2006
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
氮化铝低维人工结构制作及场发射特性研究
在本论文中，利用射频磁控溅射方法制备了高(002)取向的氮化铝薄膜，结合等离子体刻蚀和聚焦离子束(FIB)微纳米加工技术制作了表面涂敷了氮化铝薄膜的纳米硅锥、氮化铝纳米锥阵列、孔洞中的单根氮化铝锥尖以及一种新型Spind...
时成瑛
关键词：氮化铝场致发射聚焦离子束射频磁控溅射
文献传递
一种氮化铝锥尖及栅极结构的制作方法
本发明涉及一种氮化铝锥尖及其栅极锥尖结构的制备方法，该方法包括以下步骤：利用射频磁控溅射方法在干净的硅衬底上生长一层氮化铝薄膜或再沉积一层金膜，然后放入到聚焦离子束刻蚀系统中，当真空度达5.5×10－5mbar时，加5k...
顾长志李云龙李俊杰时成瑛金爱子罗强杨海方
文献传递
微纳米加工技术在纳米物理与器件研究中的应用被引量：5
2006年
物质在纳米尺度下可能呈现出与体材料不同的物理特性,这正是纳米科技发展的基础之一.要想探索在纳米尺度下材料物理性质的变化规律及可能的应用领域,离不开相应的技术手段.微纳米加工技术作为当今高技术发展的重要技术领域之一,是实现功能人工纳米结构与器件微纳米化的基础.本文根据几个不同的应用领域,介绍了微纳米加工技术在纳米物理与器件研究领域的应用.
顾长志罗强杨海方金爱子李俊杰王宗利王强徐鹏全保刚岳双林黄阳时成瑛
一种氮化铝锥尖及栅极结构的制作方法
本发明涉及一种氮化铝锥尖及其栅极锥尖结构的制备方法，该方法包括以下步骤：利用射频磁控溅射方法在干净的硅衬底上生长一层氮化铝薄膜或再沉积一层金膜，然后放入到聚焦离子束刻蚀系统中，当真空度达5.5×10-5 mbar时，加5...
顾长志李云龙李俊杰时成瑛金爱子罗强杨海方
文献传递
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