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作者

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  • 6篇2013
  • 1篇2011
  • 1篇2007
16 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
太阳能电池制造中化学浓度的预先控制介绍
2014年
太阳能电池的制造需要许多湿清洗步骤。制绒是这些步骤之一,这个阶段是非常重要的,用它可以确保单晶硅和多晶硅电池片的高效率。为了获得稳定和可循环使用的制造工艺,精确可靠的实时测量刻蚀成分主要针对太阳能电池片生产中化学液浓度的预先控制进行介绍。
冯小强祝福生关宏武宋文超
关键词:太阳能
光刻版清洗工艺及设备研究被引量:2
2013年
光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段。根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺及相关设备的种类及组成,最后通过试验考查了工艺设备的使用效果。
刘永进刘玉倩宋文超
关键词:光刻版
间歇悬浮式厚胶显影工艺研究
2013年
介绍了一种间歇悬浮式厚胶显影工艺,采用该种显影工艺,对使用SU-8光刻胶进行涂胶,胶层厚度大于30μm的晶片进行显影。显影后的晶片进行电镀工艺,经过对显影后晶片上图形的观察和对电镀凸点的分析,证明该种显影工艺具有很好的效果。
陈仲武宋文超舒福璋
关键词:显影SU-8凸点电镀
全自动光刻版清洗机工艺原理与工作过程介绍被引量:1
2014年
介绍了常用的光刻版清洗工艺,并详细讲解了全自动光刻版清洗机的工作过程。同时,简单介绍了为提高光刻版清洗效果而设计的浸泡系统、药液供给与循环系统和温控系统。
宋文超刘永进王刚张利军侯为萍
关键词:半导体自动设备
基于CAN总线的机械手通信协议的设计与实现
2014年
描述了一种真空吸片式机械手通信协议的设计方案。机械手通信的硬件实现基于CAN总线,具有高精度、实时性和可靠性高等特点,控制软件在Windows下使用VC++6.0编程,具有友好的人机界面和可操作性。概述了机械手的基本功能和应用领域,详细介绍了机械手通信协议的设计思想及软件实现。
刘玉倩刘永进宋文超
关键词:控制器局域网机械手通信协议自动化
硅片湿法清洗工艺技术及设备发展趋势被引量:8
2011年
简要介绍了硅片湿化学清洗工艺技术及清洗设备结构技术,包括一些典型的槽体结构、干燥工艺技术等。并就清洗技术的发展需要,阐述未来清洗设备的发展趋势。
曹秀芳姚立新祝福生宋文超
关键词:硅片污染物
全自动光刻版清洗机介绍
2014年
介绍了中国电子科技集团公司第四十五研究所研制的全自动光刻版清洗机的工艺原理和工作过程。该设备自用户投入使用以来,大量的产品证明,采用全自动光刻版清洗机对光刻版进行清洗,光刻版洁净度高,工艺效果理想,工艺参数稳定,自动化程度高,批量处理能力强,可以广泛用于工业生产中。
宋文超
关键词:半导体自动设备
光刻版清洗工艺及设备研究
2013年
光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段。根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺,并介绍了相关工艺设备的种类及组成,最后通过试验考查了工艺设备的使用效果。
刘永进刘玉倩宋文超
关键词:光刻版
SiC功率器件制造中的湿法工艺设备研究
2022年
简述了SiC功率器件制造工艺流程,对常用的抛光片清洗、RCA清洗、SPM湿法去胶、有机去胶、SiO2腐蚀、金属腐蚀和金属剥离等湿法设备进行了应用研究,对于提升SiC功率器件成品率起着重要的作用。
宋文超贾祥晨李家明王洪建刘广杰
VDMOS器件制造中的湿法工艺与设备研究被引量:4
2021年
简述了VDMOS器件制造工艺流程,介绍了其中常用的RCA清洗、SPM去胶、BOE腐蚀、Al腐蚀等湿法工艺,并对相关湿法设备的配置以及工作原理进行了介绍。
宋文超
关键词:VDMOS器件RCA清洗
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