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孙书农

作品数：19 被引量：52H指数：5
供职机构：厦门大学物理与机电工程学院物理学系更多>>
发文基金：福建省自然科学基金国家自然科学基金福建省重点科技计划项目更多>>
相关领域：电子电信理学电气工程机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 18篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 14篇电子电信
  • 6篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇电气工程

主题

  • 11篇硫化
  • 11篇硫化锌
  • 9篇电致发光
  • 9篇发光
  • 7篇硫化锌薄膜
  • 4篇溅射
  • 4篇半导体
  • 4篇ZNS
  • 3篇微结构
  • 3篇溅射法
  • 3篇溅射法制备
  • 3篇掺铒
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇射频磁控
  • 2篇射频磁控溅射
  • 2篇深能级
  • 2篇神经网
  • 2篇神经网络
  • 2篇能级

机构

  • 18篇厦门大学

作者

  • 19篇孙书农
  • 10篇柳兆洪
  • 9篇陈振湘
  • 7篇陈谋智
  • 3篇纪安妮
  • 3篇林爱清
  • 3篇胡启富
  • 3篇刘瑞堂
  • 2篇林秀森
  • 2篇邱伟彬
  • 2篇王余姜
  • 2篇邓彩玲
  • 1篇刘舜奎
  • 1篇帅建伟
  • 1篇蔡志华
  • 1篇肖细凤
  • 1篇周海光
  • 1篇陈朝
  • 1篇陈朋
  • 1篇田洪涛

传媒

  • 8篇厦门大学学报...
  • 3篇固体电子学研...
  • 3篇半导体光电
  • 1篇量子电子学报
  • 1篇发光学报
  • 1篇电子器件
  • 1篇光电子技术
  • 1篇第四届全国发...

年份

  • 1篇2002
  • 1篇2000
  • 4篇1999
  • 1篇1998
  • 6篇1997
  • 1篇1995
  • 2篇1993
  • 1篇1990
  • 1篇1988
  • 1篇1986
共 19 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
硫化锌薄膜的微结构和表面特性研究被引量：8
1998年
对射频磁控溅射法制备的掺铒硫化锌薄膜，运用X射线衍射和X射线光电子能谱技术，获得微晶薄膜的微结构和表面构态信息，揭示了电致发光薄膜的表面构态对激发态的影响。
陈谋智陈朋柳兆洪陈振湘孙书农刘瑞堂
关键词：电致发光激发态硫化锌
溅射法制备硫化锌薄膜的探索被引量：15
1997年
利用射频磁控溅射法制备硫化锌薄膜，用Ｘ射线衍射、透射电镜、研究薄膜的结构相变，揭示了硫化锌薄膜的微观结构和相变特征．
柳兆洪孙书农王余姜陈振湘刘瑞堂
关键词：射频磁控溅射硫化锌溅射法
溅射法制备硫化锌薄膜的XPS剖析被引量：5
1997年
用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）技术，测量了射频磁控溅射法（ＲＦＭＳ）制备的硫化锌薄膜（ＺｎＳ：Ｅｒ３＋）的表面及内部构态，认为氧吸附形成的表面构态是产生薄膜界面态和界面陷阱能级的主要原因，对研究器件的激发过程有参考意义。
陈谋智柳兆洪孙书农邱伟彬刘瑞堂
关键词：半导体薄膜硫化锌射频磁控溅射
掺铒硫化锌ACTFEL中深能级的测定被引量：2
1988年
采用热激电流(TSC)法,在180-430K温度内对三种不同结构的ZnS:Er^(3+)交流薄膜电致发光(ACTFEL)样品,测得三个热激电流峰.经分析认为它们对应于ZnS:Er^(3+)层体内,ZnS:Er^(3+) Y_2O_3和ZnS:Er^(3+)-SnO_2界面处存在的不同深度的陷阱能级.估算其位置和密度,并讨论了实验结果.
陈振湘孙书农刘瑞堂
关键词：ELECTROLUMINESCENT
硫化锌薄膜的微结构剖析被引量：1
1999年
用Ｘ射线衍射和Ｘ射线光电子能谱技术，对分舟热蒸发法研制的掺铒（Ｅｒ）硫化锌直流电致发光薄膜及硫化锌粉料进行剖析，获得薄膜表面及粉料的构态信息，讨论了影响微晶薄膜质量的主要因素。
柳兆洪陈谋智孙书农刘瑞堂林爱清邓彩玲肖细凤
关键词：硫化锌直流电致发光稀土掺杂
粉末电致发光的新应用──一种光神经器件
1995年
近年来，人工神经网格与神经网络计算机的研究在世界范围内已形成一个热点，本文通过对电致发光材料的各种特性的讨论，分析了固体化平板电致发光作为一种光神经器件的一些特点，指出了它在神经网络实现中有很好的应用前景。
陈振湘帅建伟纪安妮林秀森胡启富孙书农
关键词：电致发光电致发光器件
硫化锌薄膜的制备和结构分析被引量：5
1997年
用常规分舟热蒸发法在玻璃衬底上制备硫化锌薄膜，用X射线衍射和透射电子显微镜研究该薄膜的晶体结构，发现硫化锌薄膜与流化锌粉末在晶体结构上存在差异，实验证实硫化锌晶体是具有高于性的共价键晶体。
柳兆洪刘瑞堂孙书农陈振湘胡启富邱伟彬纪安妮林爱清
关键词：硫化锌薄膜化合物半导体
掺铒硫化锌交流电致发光薄膜的表面结构被引量：5
1999年
对研制的掺铒硫化锌交流电致发光薄膜，进行了表面的 Ｘ 射线衍射（ Ｘ Ｒ Ｄ） 、 Ｘ 射线光电子能谱（ Ｘ Ｐ Ｓ） 及发光亮度测量。研究认为薄膜多晶的沉积有择优取向的趋势，表层碳、氧主要来源于吸附与玷污，绝缘层选择高介电常数、低电阻率的材料。
王余姜陈谋智孙书农刘瑞堂
关键词：半导体材料交流电致发光介电常数
室温射频磁控溅射沉积ITO薄膜的研究被引量：9
1997年
报道透明导电膜不加衬底温度、无需沉积后的退火工艺、用射频磁控溅射沉积氧化铟、锡（ＩＴＯ）薄膜获得电阻率３×１０－４Ω·ｃｍ，在可见光区平均透光率８４％的优良性能．
纪安妮孙书农柳兆洪刘瑞堂
关键词：磁控溅射ITO薄膜晶体结构扫描电镜
高效率ZnS:ErACTFELD的研制
2000年
对掺饵硫化锌交流电致发光薄膜器件 (ACTFELD) ,根据载流子隧穿势垒层会获得能量增益 ,提高激发效率的原理 ,通过改变常规ZnS :ErACTFELD的基本结构 ,研制出多阻挡层器件。实验证实 ,这种多阻挡层器件具有高的阈值电压和高的电致发光亮度。
柳兆洪陈谋智徐广海孙书农刘瑞堂
关键词：势垒层
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