唐华杰 作品数:5 被引量:13 H指数:2 供职机构: 贵州大学大数据与信息工程学院新型光电子材料与技术研究所 更多>> 发文基金: 贵州省优秀科技教育人才省长资金项目 国家自然科学基金 贵州省科技攻关计划 更多>> 相关领域: 理学 自动化与计算机技术 电子电信 一般工业技术 更多>>
溅射Ar流量对Mn膜光学常数的影响 被引量:1 2014年 采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,在能量2.0~4.0 eV范围内测量了磁控溅射法制备的金属Mn膜的光学常数,分析了氩气流量对Mn膜光学性质的影响.结果表明,在低能区,随Ar流量的增加,薄膜的所有光学常数均有不同程度的降低;而在高能区,流量对光学常数的影响不明显.薄膜复介电常数、折射率n随流量增大不断减小,在流量为15 mL/min后变化不明显;而消光系数k在流量为15~20 mL/min没有明显变化,在流量达到25 mL/min后消光系数显著减小. 邵飞 张晋敏 唐华杰 胡维前 谢泉 卢顺顺 贺晓金关键词:磁控溅射 光学常数 压电传感器前置信号接收电路设计 被引量:9 2014年 基于压电传感器AC192设计了一种信号读取电路,用于桥梁道路以及机械动力系统健康状态监控与检测。该信号读取电路主要用于压电传感器振动时微弱信号的检测,转换成数字信号前进行滤波转换信号的调理等利用MCU控制多路复用开关解决了系统多频段场合使用问题,用加入高通偏置电压方法实现了单电源供电高通有源滤波,从而使整个系统更加稳定。该电路经过实际应用检测,符合现场诊断要求。 金浩 张晋敏 唐华杰 谢泉 董珍时关键词:压电传感器 电流源 信号检测 单电源供电 椭圆偏振研究溅射气压对锰膜光学性质的影响 被引量:1 2015年 采用射频磁控溅射技术在Si(111)基片上制备金属锰膜,用椭圆偏振光谱在2.0~4.0 e V光子能量范围内研究了溅射压强对锰膜光学性质的影响.分别用德鲁得-洛伦兹模型以及有效介质模型对椭偏参数进行拟合,结果表明随压强增大薄膜致密度先增大后减少;折射率随压强增大先减少后增大;而消光系数随压强的变化与光子能量有关,在低能量区变化复杂,高能量区随压强增加与折射率规律一致.分析表明上述变化与薄膜的致密度密切相关. 唐华杰 张晋敏 金浩 邵飞 胡维前 谢泉关键词:射频溅射 溅射气压 椭偏光谱 β-FeSi2/Si异质结的伏安特性分析 2013年 用磁控溅射方法制备β-FeSi2/Si异质结,在分析其伏安特性的基础上探索其是否适合制备红外探测器,XRD、SEM分析表明,该方法能得到纯净、表面平整的β-FeSi2/Si薄膜;在室温下异质结的I—V特性具有很好的整流特性,整流效率约为Idirect/Ireverse~10^2,分流电阻约为38.4kΩ,零偏压下的电流响应率约为26μA/W。推算结果表明,该异质结的红外探测率约为1.479×10^9cm·√Hz/W,适合用于制备红外探测器。 张立敏 张晋敏 郑旭 熊锡成 唐华杰 金浩关键词:磁控溅射 Β-FESI2 SI异质结 伏安特性 溅射功率对金属锰膜光学性质的影响 被引量:2 2013年 采用磁控溅射方法在Si(111)基片上制备金属锰膜,用椭圆偏振光谱在入射光子能量为2.0—4.0 eV范围内研究了溅射功率对薄膜光学性质的影响.利用德鲁得-洛伦兹色散模型对椭偏数据进行拟合,结果表明在测量范围内随溅射功率增加薄膜的折射率减小;消光系数随入射光子能量增加先增加后减小,在3.0 eV附近处出现极大值,并且极大值所处的位置随溅射功率增加而向低能方向移动,这主要与溅射沉积的锰薄膜的质量有关,且随溅射功率的增加薄膜的消光系数逐渐趋近于金属锰的数值.研究结果还表明溅射功率的增加减少了薄膜中的空隙,有利于薄膜的生长. 唐华杰 张晋敏 金浩 邵飞 胡维前 谢泉关键词:磁控溅射 椭圆偏振光谱